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2,3,4,5-tetrafluoro-6-methylbenzoic acid | 57612-65-4

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
2,3,4,5-tetrafluoro-6-methylbenzoic acid
英文别名
2-Methyl-tetrafluorbenzoesaeure;6-methyl-2,3,4,5-tetrafluorobenzoic acid
2,3,4,5-tetrafluoro-6-methylbenzoic acid化学式
CAS
57612-65-4
化学式
C8H4F4O2
mdl
——
分子量
208.112
InChiKey
JKNZPDHVRYPABM-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    2.2
  • 重原子数:
    14
  • 可旋转键数:
    1
  • 环数:
    1.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.12
  • 拓扑面积:
    37.3
  • 氢给体数:
    1
  • 氢受体数:
    6

上下游信息

  • 上游原料
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量
  • 下游产品
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量

反应信息

  • 作为反应物:
    参考文献:
    名称:
    5-甲基-4-氧代喹啉羧酸的合成
    摘要:
    制备了一系列5-甲基-4-氧代-3-喹啉羧酸,其中八个位置被氟,氯,甲基或氢取代。这些喹诺酮是由衍生自恶唑啉8和16的合适的2-甲基-3,4,6-三氟苯甲酸合成的。恶唑啉部分既是邻位导向基团(在可行的情况下)又是保护基团;三甲基甲硅烷基部分被用来封闭分子中最酸性的位点。
    DOI:
    10.1002/jhet.5570270616
  • 作为产物:
    参考文献:
    名称:
    5-甲基-4-氧代喹啉羧酸的合成
    摘要:
    制备了一系列5-甲基-4-氧代-3-喹啉羧酸,其中八个位置被氟,氯,甲基或氢取代。这些喹诺酮是由衍生自恶唑啉8和16的合适的2-甲基-3,4,6-三氟苯甲酸合成的。恶唑啉部分既是邻位导向基团(在可行的情况下)又是保护基团;三甲基甲硅烷基部分被用来封闭分子中最酸性的位点。
    DOI:
    10.1002/jhet.5570270616
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文献信息

  • Antibacterial agents
    申请人:Warner-Lambert Company
    公开号:US04920120A1
    公开(公告)日:1990-04-24
    Novel naphthyridine-, and quinolinecarboxylic acids as antibacterial agents are described as well as methods for their manufacture, formulation, and use in treating bacterial infections including the description of certain novel intermediates used in the manufacture of the antibacterial agents.
    描述了新型萘啶基和喹啉基羧酸作为抗菌剂的小说,以及它们的制造、配方和用于治疗细菌感染的方法,包括用于制造抗菌剂的某些新型中间体的描述。
  • CROSS-LINKING MOIETY
    申请人:Ho Peter
    公开号:US20120244294A1
    公开(公告)日:2012-09-27
    A cross-linking moiety having a general formula I: N 3 —Ar F —W, wherein Ar F comprises a fluorinated phenyl azide group having at least one non-fluorine substituent that is bulkier than fluorine at a meta position relative to the azide group, and W comprises an electron-withdrawing group.
    具有一般公式I的交联基团:N3—ArF—W,其中ArF包括至少有一个在与偶氮基团的间位相对的位置上比氟更大的非氟取代基的氟化苯基偶氮基团,并且W包括一个电子吸引基团。
  • Novel quinoline derivatives, processes for preparation thereof and antibacterial agent containing them
    申请人:Dainippon Pharmaceutical Co., Ltd.
    公开号:EP0319906A3
    公开(公告)日:1990-05-02
    1-Substituted-6-fluoro-5-methyl-7-(piperazinyl or pyrrolidinyl)-1,4-dihydro-4-oxoquinoline-3-carboxylic acids (I) and processes for preparation thereof. The acids are used for treatment of a bacterial infectious desease.
    1-取代-6-氟-5-甲基-7-(哌嗪基或吡咯啉基)-1,4-二氢-4-氧基喹啉-3-羧酸(I)及其制备方法。这些酸用于治疗细菌感染性疾病。
  • Processes for the preparation of fluorinated benzoic acids
    申请人:Otsuka Pharmaceutical Co., Ltd.
    公开号:US06333431B1
    公开(公告)日:2001-12-25
    An object of the present invention is to provide a commercially advantageous process for preparing a fluoro benzoic acid. The process according to the present invention comprises either alkylating a fluoro benzoic acid of the formula wherein R1 is halogen, or reducing a fluoro benzoic acid of the formula wherein R1 is as defined above and R2 is lower alkyl to thereby produce a fluoro benzoic acid represented by the formula wherein R1 and R2 are as defined above.
    本发明的目的是提供一种商业上有利的制备氟苯甲酸的方法。根据本发明的方法包括烷基化具有以下式的氟苯甲酸,其中R1为卤素,或还原具有以下式的氟苯甲酸,其中R1如上定义,R2为较低烷基,从而生产由以下式表示的氟苯甲酸,其中R1和R2如上定义。
  • MONOMER, POLYMER, POSITIVE RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
    申请人:Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
    公开号:US20170008982A1
    公开(公告)日:2017-01-12
    A polymer comprising recurring units derived from a polymerizable monomer having two structures of hydroxyphenyl methacrylate having a hydroxy group substituted with an acid labile group is used as base resin in a positive resist composition, especially chemically amplified positive resist composition. The resist composition forms a resist film which is processed by lithography into a pattern of good profile having a high resolution, minimal edge roughness, and etch resistance.
    一种聚合物,包含由可聚合单体衍生的重复单元,该单体具有两种羟基苯甲酸甲酯结构,羟基上取代有酸不稳定基团,作为正性光刻胶组成中的基础树脂,尤其是化学放大正性光刻胶组成中。该光刻胶组成形成一种光刻胶膜,通过光刻技术加工成具有高分辨率、最小边缘粗糙度和蚀刻抗性的良好轮廓图案。
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