bis(6-hydroxy-1,3,5,7-tetraoxo-6,7-dihydropyrrolo[3,4-f]isoindol-2(1H,3H,5H)-yl) 4,4'-oxydibenzenesulfonate | 1184940-68-8

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: bis(6-hydroxy-1,3,5,7-tetraoxo-6,7-dihydropyrrolo[3,4-f]isoindol-2(1H,3H,5H)-yl) 4,4'-oxydibenzenesulfonate
• 英文别名: (6-Hydroxy-1,3,5,7-tetraoxopyrrolo[3,4-f]isoindol-2-yl) 4-[4-(6-hydroxy-1,3,5,7-tetraoxopyrrolo[3,4-f]isoindol-2-yl)oxysulfonylphenoxy]benzenesulfonate
• CAS: 1184940-68-8
• 化学式: C₃₂H₁₄N₄O₁₇S₂
• 分子量: 790.612
• InChiKey: LWFRYWLBVLHSNT-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  0.7
• 重原子数：
  55
• 可旋转键数：
  8
• 环数：
  8.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  303
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  17

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  4,4'-oxybis(benzenesulfonyl chloride) 、 N,N'-二羟基均苯四酸亚胺 生成 bis(6-hydroxy-1,3,5,7-tetraoxo-6,7-dihydropyrrolo[3,4-f]isoindol-2(1H,3H,5H)-yl) 4,4'-oxydibenzenesulfonate
  参考文献：
  名称：

  摘要：

  DOI：

文献信息

• PHOTOLYTIC ACID-GENERATING POLYMERS AND MONOMERS FOR THEIR CONSTRUCTION
  申请人：BRAINARD Robert L.

  公开号：US20110130538A1

  公开（公告）日：2011-06-02

  Polymers for photoresists and monomers for incorporation into those polymers are disclosed. The polymers comprise a photoacid generator (PAG) component and at least a second component that is photolytically stable and acid-stable. The polymers may also contain a third, acid-labile component. The photoacid generator is based on N-sulfoxyimides and related moieties that contain photolabile oxygen-heteroatom and oxygen-aromatic carbon bonds.

  本发明揭示了用于光刻胶的聚合物和用于纳入这些聚合物的单体。聚合物包括光酸发生器（PAG）组分和至少第二个组分，该组分具有光解稳定性和酸稳定性。聚合物还可以包含第三种酸不稳定的组分。光酸发生器基于N-磺酰氧亚胺和相关的含有光敏氧杂原子和氧芳香碳键的基团。
• CHAIN SCISSION POLYESTER POLYMERS FOR PHOTORESISTS
  申请人：Brainard Robert L.

  公开号：US20110127651A1

  公开（公告）日：2011-06-02

  Polymers for extreme ultraviolet and 193 nm photoresists are disclosed. The polymers comprise a photoacid generator (PAG) residue, an acid cleavable residue and a diacid joined by ester linkages. The polymers include a photoacid generating diol, a diacid and an acid table diol.

  揭示了用于极紫外和193纳米光刻胶的聚合物。这些聚合物包括光酸发生剂（PAG）残基，酸可断裂残基和通过酯键连接的二酸。这些聚合物包括光酸发生二元醇，二酸和稳定的酸二元醇。
• US8349990B2
  申请人：——

  公开号：US8349990B2

  公开（公告）日：2013-01-08
• US8404795B2
  申请人：——

  公开号：US8404795B2

  公开（公告）日：2013-03-26
• [EN] CHAIN SCISSION POLYESTER POLYMERS FOR PHOTORESISTS<br/>[FR] POLYMÈRES POLYESTER À SCISSION DE CHAÎNES POUR RÉSINES PHOTOSENSIBLES
  申请人：UNIV NEW YORK STATE RES FOUND

  公开号：WO2009105667A2

  公开（公告）日：2009-08-27

  Polymers for extreme ultraviolet and 193 nm photoresists are disclosed. The polymers comprise a photoacid generator (PAG) residue, an acid cleavable residue and a diacid joined by ester linkages. The polymers include a photoacid generating diol, a diacid and an acid lable diol.