4-[(2-trimethylsiloxy-ethyl)ethylamino]trimethylsilylethynylbenzene | 186465-99-6

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氮化合物
• 英文名称: 4-[(2-trimethylsiloxy-ethyl)ethylamino]trimethylsilylethynylbenzene
• 英文别名: 4-[(2-Trimethylsiloxyethyl)ethylamino]tri-methylsilylethynylbenzene；N-ethyl-4-(2-trimethylsilylethynyl)-N-(2-trimethylsilyloxyethyl)aniline
• CAS: 186465-99-6
• 化学式: C₁₈H₃₁NOSi₂
• 分子量: 333.621
• InChiKey: NYAAKWXCOIDHRR-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.59
• 重原子数：
  22
• 可旋转键数：
  8
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.56
• 拓扑面积：
  12.5
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  4-[(2-trimethylsiloxy-ethyl)ethylamino]trimethylsilylethynylbenzene 、 四丁基氟化铵 、 乙醚 在 水 、 Sodium sulfate-III 、 silica gel 、 ethyl acetate n-hexane 作用下， 以 tetrahydrofuran methanol 、 四氢呋喃 为溶剂， 反应 1.0h， 以to produce 2.5 g of a viscous yellow oil at an 88% yield的产率得到2-(ethyl(4-ethynylphenyl)amino)ethanol
  参考文献：
  名称：

  Ablatively photodecomposable compositions

  摘要：

  本发明提供了一种具有与聚合物结合的光吸收剂的脱蚀光解聚合物（“脱蚀光解聚合物”），该聚合物不会相分离，也不会结晶。脱蚀光解聚合物提供均匀的蚀刻，高分辨率，并且在优选实施例中，可以承受高锰酸钾蚀剂和三氯化铁蚀剂。脱蚀光解聚合物可剥离，但如果需要，它也可以留在基板上。脱蚀光解聚合物包括聚合物，其中光吸收剂以共价键或离子键结合。本发明还涉及一种利用脱蚀光解聚合物在基板上形成金属图案的方法。

  公开号：

  US05705570A1
• 作为产物：
  描述：

  2-(ethyl(4-iodophenyl)amino)ethanol 、 乙醚 在 三甲基氯硅烷 、 三乙胺 作用下， 以 tetrahydrofuran ("THF") 为溶剂， 生成 4-[(2-trimethylsiloxy-ethyl)ethylamino]trimethylsilylethynylbenzene
  参考文献：
  名称：

  Ablatively photodecomposable compositions

  摘要：

  本发明提供了一种具有光吸收剂与聚合物结合的可烧蚀光降解聚合物（“可烧蚀光降解聚合物”），其不会相分离，也不会结晶。可烧蚀光降解聚合物提供均匀的烧蚀、高分辨率，并且在优选实施例中，可以承受高锰酸钾蚀刻剂和氯化铁蚀刻剂。可烧蚀光降解聚合物可剥离，但如果需要，它也可以保留在基板上。可烧蚀光降解聚合物包括聚合物和光吸收剂，两者通过共价键或离子键结合。本发明还涉及一种使用可烧蚀光降解聚合物在基板上形成金属图案的方法。

  公开号：

  US05672760A1

文献信息

• Ablatively photodecomposable compositions
  申请人：International Business Machines Corporation

  公开号：US05672760A1

  公开（公告）日：1997-09-30

  The present invention provides an ablatively photodecomposable polymer having a photoabsorber bound to the polymer (the "ablatively photodecomposable polymer") which does not phase separate, nor does it crystallize. The ablatively photodecomposable polymer provides even ablation, high resolution and in preferred embodiments, can withstand potassium permanganate etchant and ferric chloride etchant. The ablatively photodecomposable polymer is strippable, although it can remain on the substrate if desired. The ablatively photodecomposable polymer comprises a polymer to which a photoabsorber is bound, either covalently or ionically. The present invention is also directed to a process for forming a metal pattern on a substrate employing the ablatively photodecomposable polymer.

  本发明提供了一种具有光吸收剂与聚合物结合的可烧蚀光降解聚合物（“可烧蚀光降解聚合物”），其不会相分离，也不会结晶。可烧蚀光降解聚合物提供均匀的烧蚀、高分辨率，并且在优选实施例中，可以承受高锰酸钾蚀刻剂和氯化铁蚀刻剂。可烧蚀光降解聚合物可剥离，但如果需要，它也可以保留在基板上。可烧蚀光降解聚合物包括聚合物和光吸收剂，两者通过共价键或离子键结合。本发明还涉及一种使用可烧蚀光降解聚合物在基板上形成金属图案的方法。