2,3,4,6-tetrahydroxybenzoic acid | 79817-83-7

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 2,3,4,6-tetrahydroxybenzoic acid
• 英文别名: 2,3,4,6-tetrahydroxybenzoate；2,3,4,6-Tetrahydroxy-benzoesaeure；2.3.4.6-Tetraoxy-benzol-carbonsaeure-(1)
• CAS: 79817-83-7
• 化学式: C₇H₆O₆
• 分子量: 186.121
• InChiKey: FMQDZOFOPHKXLA-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.1
• 重原子数：
  13
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  118
• 氢给体数：
  5
• 氢受体数：
  6

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  重氮甲烷 、 2,3,4,6-tetrahydroxybenzoic acid 在 乙醚 作用下， 生成 methyl 2,3,4,6-tetramethoxybenzoate
  参考文献：
  名称：

  Nierenstein, Journal of the Chemical Society, 1917, vol. 111, p. 9

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  2,3,4-三羟基苯甲酸 在 recombinant 3-hydroxybenzoate 6-hydroxylase from Rhodococcus jostii RHA₁ 、 还原型辅酶Ⅰ 作用下， 生成 2,3,4,6-tetrahydroxybenzoic acid
  参考文献：
  名称：

  功能性注释和表征的Rhodococcus jostii RHA1 3-羟苯甲酸酯6-羟化酶。

  摘要：

  玫瑰红球菌RHA1的基因组包含异常大量的加氧酶编码基因。这些基因中的许多基因还具有未知的功能，这表明该革兰氏阳性土壤放线菌的生化和分解代谢生物多样性的显着部分仍然难以捉摸。在这里，我们介绍推定的R. jostii RHA1黄素羟化酶的多重序列比对和系统发育分析。在18个候选序列中，其他可用的红球菌基因组中不存在3个羟化酶。此外，我们报告了3-羟基苯甲酸酯6-羟化酶（3HB6H）的生化特性，3-羟苯甲酸酯6-羟化酶，一种生产龙胆酸酯的酶，最初被误解为水杨酸酯羟化酶。在大肠杆菌中表达的R. jostii RHA1 3HB6H是同源二聚体，每个47kDa亚基均包含非共价结合的FAD辅助因子。该酶的最适pH约为pH 8.3，更喜欢使用NADH作为外部电子供体。3HB6H具有一系列3-羟基苯甲酸酯类似物，在芳香环的邻位或间位带有取代基。Gentisate是一种生理产物，是3HB6H的非底物效应物。该

  DOI：

  10.1016/j.bbapap.2011.12.003

文献信息

• RESIST COMPOSITION, METHOD OF FORMING RESIST PATTERN, AND COMPOUND
  申请人：TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.

  公开号：US20200183273A1

  公开（公告）日：2020-06-11

  A resist composition including a base material component (A) whose solubility in a developing solution is changed due to the action of an acid, and a compound (D0) formed of an anion moiety and a cation moiety which is represented by Formula (d0), in which the cation moiety of the compound (D0) has a Log P value of less than 7.7. In the formula, M m+ represents an m-valent organic cation, R d0 represents a substituent, p represents an integer of 0 to 3, q represents an integer of 0 to 3, n represents an integer of 2 or greater, and a relationship of “n+p≤(q×2)+5” is satisfied.

  一种抗蚀组合物，包括一种基材料组分（A），由于酸的作用而在显影液中溶解性发生改变，以及由阴离子基团和由公式（d0）表示的阳离子基团组成的化合物（D0）。其中，化合物（D0）的阳离子基团的Log P值小于7.7。在公式中，Mm+表示m价有机阳离子，Rd0表示取代基，p表示0到3之间的整数，q表示0到3之间的整数，n表示大于等于2的整数，并且满足“n+p≤（q×2）+5”的关系。
• Polypropylene-based resin compositions
  申请人：TOSOH CORPORATION

  公开号：EP0507576A1

  公开（公告）日：1992-10-07

  A polypropylene-based resin composition containing 0.001 to 10.0 parts by weight of benzoic acid with or without substituent(s) on its benzene ring and/or an acid anhydride of benzoic acid, with or without substituents on its benzene rings, to 100 parts by weight of a polypropylene-based resin is disclosed. The resin can generate mouldings with improved rigidity or transparency.

  本发明公开了一种聚丙烯基树脂组合物，以 100 份聚丙烯基树脂的重量计，含有 0.001 至 10.0 份苯甲酸（无论其苯环上是否有取代基）和/或苯甲酸酸酐（无论其苯环上是否有取代基）。该树脂可制成具有更高硬度或透明度的模制品。
• Composition for forming film protecting against aqueous hydrogen peroxide solution
  申请人：NISSAN CHEMICAL CORPORATION

  公开号：US10894887B2

  公开（公告）日：2021-01-19

  A composition for forming protective film against aqueous hydrogen peroxide solution, composition including resin; compound of following Formula (1a), (1b), or (1c): (wherein X is carbonyl group or methylene group; 1 and m are each independently integer of 0-5 to satisfy relation: 3≤1+m≤10; n is integer of 2-5; u and v are each independently integer of 0-4 to satisfy relation: 3≤u+v≤8; R1-R4 are each independently hydrogen atom, hydroxy group, C1-10 hydrocarbon group, or C6-20 aryl group; when R1-R4 are each the C1-10 hydrocarbon group; and j and k are each independently 0 or 1); crosslinking agent and catalyst; and solvent, wherein amount of compound of Formula (1a), (1b), or (1c) is at most 80% by mass relative to amount of resin, and amount of crosslinking agent is 5%-40% by mass relative to amount of resin.

  一种用于形成过氧化氢水溶液保护膜的组合物，该组合物包括树脂；下式 (1a)、(1b) 或 (1c) 的化合物： (其中 X 为羰基或亚甲基；1 和 m 各自独立地为 0-5 的整数，以满足以下关系：3≤1+m≤10；n 为 2-5 的整数；u 和 v 各自独立地为 0-4 的整数，以满足关系式： 3≤u+v≤8; R1-R4 各自独立地为氢原子：3≤u+v≤8；R1-R4各自独立地为氢原子、羟基、C1-10烃基或C6-20芳基；当R1-R4各自为C1-10烃基时；以及j和k各自独立地为0或1）；交联剂和催化剂；以及溶剂，其中式(1a)、(1b)或(1c)化合物的用量最多为树脂用量的80%，交联剂的用量为树脂用量的5%-40%。
• Protective film-forming composition
  申请人：NISSAN CHEMICAL CORPORATION

  公开号：US11112696B2

  公开（公告）日：2021-09-07

  A composition for forming protective films against aqueous hydrogen peroxide solutions, including: a compound of the following formula (1a) or formula (1b) or a compound having a substituent of the following formula (2) and having a molecular weight of 300 or more and less than 800 or a weight-average molecular weight of 300 or more and less than 800; and a solvent, the composition containing the compound of the formula (1a) or formula (1b) of 0.1% by mass to 60% by mass or the compound having the substituent of the formula (2) of 10% by mass to 100% by mass, relative to solids excluding the solvent: (wherein R1 is a C1-4 alkylene or alkenylene group or a direct bond, k is 0 or 1, m is an integer of 1 to 3, and n is an integer of 2 to 4.)

  一种用于形成针对过氧化氢水溶液的保护膜的组合物，包括： 下式（1a）或式（1b）的化合物或具有下式（2）取代基且分子量为 300 或以上且小于 800 或重量平均分子量为 300 或以上且小于 800 的化合物；以及溶剂，该组合物含有下式（1a）或式（1b）的化合物 0.相对于不包括溶剂的固体，该组合物含有质量分数为 0.1%至 60%的式 (1a) 或式 (1b) 化合物，或质量分数为 10%至 100%的具有式 (2) 取代基的化合物： (其中 R1 为 C1-4 亚烷基或烯基或直接键，k 为 0 或 1，m 为 1 至 3 的整数，n 为 2 至 4 的整数）。
• Resist underlayer film-forming composition
  申请人：NISSAN CHEMICAL CORPORATION

  公开号：US11287741B2

  公开（公告）日：2022-03-29

  A composition for forming a resist underlayer film that functions as an anti-reflective coating during exposure and can be embedded in a recess having a narrow space and a high aspect ratio, and has excellent resistance to an aqueous hydrogen peroxide solution. A resist underlayer film-forming composition containing a resin, a compound of the following Formula (1a) or (1b): wherein X is carbonyl group or methylene group, 1 and m are each independently an integer of 0 to 5 and satisfy a relational expression of 3≤1+m 10, and n is an integer of 2 to 5, and a solvent, wherein the compound of Formula (1a) or (1b) is contained in an amount of 0.01% by mass to 60% by mass relative to the amount of the resin.

  一种用于形成抗蚀剂底层膜的组合物，该抗蚀剂底层膜在曝光时可用作抗反射涂层，并可嵌入具有窄空间和高长宽比的凹槽中，而且对过氧化氢水溶液具有优异的耐受性。抗蚀剂底层成膜组合物含有树脂、下式（1a）或（1b）的化合物： 其中 X 是羰基或亚甲基，1 和 m 各自独立地为 0 至 5 的整数，且满足 3≤1+m 10 的关系式，n 是 2 至 5 的整数，以及溶剂，其中式 (1a) 或 (1b) 化合物的含量为树脂含量的 0.01% 至 60%。