tris(3,5-di-tert-butoxycarbonyloxybenzyl)-1,3,5-benzene-tricarboxylic acid | 364729-34-0

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: tris(3,5-di-tert-butoxycarbonyloxybenzyl)-1,3,5-benzene-tricarboxylic acid
• 英文别名: Tris[[3,5-bis[(2-methylpropan-2-yl)oxycarbonyloxy]phenyl]methyl] benzene-1,3,5-tricarboxylate；tris[[3,5-bis[(2-methylpropan-2-yl)oxycarbonyloxy]phenyl]methyl] benzene-1,3,5-tricarboxylate
• CAS: 364729-34-0
• 化学式: C₆₀H₇₂O₂₄
• 分子量: 1177.22
• InChiKey: CHHCVZWLHGWNAO-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  12.8
• 重原子数：
  84
• 可旋转键数：
  36
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.45
• 拓扑面积：
  292
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  24

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  3,5-di-tert-butoxycarbonyloxybenzylalcohol 、 1,3,5-benzene-tri-carboxylic acid 在 2-bromo-1-ethylpyridin-1-ium tetrafluoroborate 、 三乙胺 作用下， 以 二氯甲烷 为溶剂， 反应 1.0h， 以61%的产率得到tris(3,5-di-tert-butoxycarbonyloxybenzyl)-1,3,5-benzene-tricarboxylic acid
  参考文献：
  名称：

  レジスト用化合物および感放射線性組成物

  摘要：

  要解决的问题：提供一种可用于紫外线如i线和g线以及辐射如包括KrF的准分子激光束、电子束和X射线等的光刻胶化合物，以及含有该化合物的辐射敏感组合物。解决方案：该化合物由以下公式表示（其中R1独立地是从氢、取代甲基基团、叔丁氧羰基基团等中选择的酸解离功能基团，并且至少一个R1是除氢外的特定基团；m是0-3的整数且至少一个m≥1），辐射敏感组合物包括该化合物和一个酸发生剂。版权所有：（C）2005，JPO&NCIPI

  公开号：

  JP2005112814A

文献信息

• レジスト用化合物および感放射線性組成物
  申请人：三菱瓦斯化学株式会社

  公开号：JP2005112814A

  公开（公告）日：2005-04-28

  PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a compound for resists which can be used not only for ultraviolet rays such as i-line and g-line but also for radiation such as an excimer laser beam including KrF, an electron beam, and X-rays, and a radiation sensitive composition containing the same.

  SOLUTION: The compound is represented by the formula (wherein R1is independently an acid dissociative functional group selected from hydrogen, a substituted methyl group, a tert-butoxycarbonyl group and the like, and at least one R1is a specific group other than hydrogen; and m is an integer of 0-3 and at least one m is ≥1), and the radiation-sensitive composition comprises the compound and an acid generator.

  COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

  要解决的问题：提供一种可用于紫外线如i线和g线以及辐射如包括KrF的准分子激光束、电子束和X射线等的光刻胶化合物，以及含有该化合物的辐射敏感组合物。解决方案：该化合物由以下公式表示（其中R1独立地是从氢、取代甲基基团、叔丁氧羰基基团等中选择的酸解离功能基团，并且至少一个R1是除氢外的特定基团；m是0-3的整数且至少一个m≥1），辐射敏感组合物包括该化合物和一个酸发生剂。版权所有：（C）2005，JPO&NCIPI