1-(4-hydroxy-1-naphthyl)thiolanium chloride | 51843-78-8

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 萘
• 英文名称: 1-(4-hydroxy-1-naphthyl)thiolanium chloride
• 英文别名: 4-hydroxynaphthyl-1-tetrahydrothiophenium chloride；1-(4-Hydroxynaphthalen-1-yl)thiolan-1-ium chloride；4-(thiolan-1-ium-1-yl)naphthalen-1-ol;chloride
• CAS: 51843-78-8
• 化学式: C₁₄H₁₅OS*Cl
• 分子量: 266.792
• InChiKey: WHBKLBUAIMNRNF-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  0.32
• 重原子数：
  17
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.29
• 拓扑面积：
  21.2
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  sodium 2-(1-adamantanecarbonyloxy)-1,1,3,3,3-pentafluoropropane-sulfonate 、 1-(4-hydroxy-1-naphthyl)thiolanium chloride 在 二氯甲烷 、 4-甲基-2-戊酮 、 水 、 异丙醚 作用下， 生成 4-hydroxynaphthyl-1-tetrahydrothiophenium 2-(adamantane-1-carbonyloxy)-1,1,3,3,3-pentafluoropropanesulfonate
  参考文献：
  名称：

  NITROGEN-CONTAINING ORGANIC COMPOUND, CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS

  摘要：

  一种以咪唑基为基础的芳基氨基甲酸酯作为淬灭剂是有效的。在化学增感正向光阻组成物中，包含了这种氨基甲酸酯，当暴露于高能辐射时，与所产生的酸反应会发生去保护反应，从而使组成物在暴露前后改变其碱度，导致具有高分辨率、矩形形状和最小化暗亮差异等优点的图案轮廓。

  公开号：

  US20120052441A1
• 作为产物：
  描述：

  四甲基亚砜 、 萘酚 在 盐酸 作用下， 以 甲醇 为溶剂， 生成 1-(4-hydroxy-1-naphthyl)thiolanium chloride
  参考文献：
  名称：

  술포늄염, 레지스트 재료 및 패턴 형성 방법

  摘要：

  本发明提供了用以下化学式（1a）或（1b）表示的锡盐。在上述式中，R表示直链、支链或环状的1个碳氢基，其包括杂原子，碳数为7〜30，n'表示1〜4的整数。本发明的锡盐具有与通常的锡盐不同的高亲水性酚性羟基或乙二醇醚，并且当将本发明的锡盐与特定阴离子组合并用于光刻胶材料时，其溶出度低，并且具有较小的模式依赖性（暗亮度），因此作为化学放大型光刻胶材料的光敏剂非常有用。

  公开号：

  KR101498326B1
• 作为试剂：
  描述：

  萘酚 、 四甲基亚砜 、 盐酸 、 、 sodium 2-(1-adamantanecarbonyloxy)-1,1,3,3,3-pentafluoropropane-sulfonate 在 氮气 、 水 、 异丙醚 、 1-(4-hydroxy-1-naphthyl)thiolanium chloride 、 二氯甲烷 、 4-甲基-2-戊酮 作用下， 以 甲醇 为溶剂， 生成 4-hydroxynaphthyl-1-tetrahydrothiophenium 2-(adamantane-1-carbonyloxy)-1,1,3,3,3-pentafluoropropanesulfonate
  参考文献：
  名称：

  POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERNING PROCESS

  摘要：

  一种正性光阻组合物，包括（A）一种聚合物，其中包含适于在高能辐射作用下产生酸和酸不稳定单元的特定结构的重复单元，该聚合物具有碱溶性，在酸的作用下碱溶性增加，以及（B）一种特定结构的磺酸盐，能够在形成细小尺寸图案，通常是沟槽和孔图案时，表现出高分辨率。轮廓、深度焦点和粗糙度的光刻特性得到改善。

  公开号：

  US20120135350A1

文献信息

• NITROGEN-CONTAINING ORGANIC COMPOUND, CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：SAGEHASHI Masayoshi

  公开号：US20120052441A1

  公开（公告）日：2012-03-01

  An aralkylcarbamate of imidazole base is effective as the quencher. In a chemically amplified positive resist composition comprising the carbamate, deprotection reaction of carbamate takes place by reacting with the acid generated upon exposure to high-energy radiation, whereby the composition changes its basicity before and after exposure, resulting in a pattern profile with advantages including high resolution, rectangular shape, and minimized dark-bright difference.

  咪唑基团的芳烷基碳酸酯作为猝灭剂是有效的。在包含该碳酸酯的化学放大正性光刻胶组合物中，碳酸酯的去保护反应是通过与在暴露于高能辐射时产生的酸反应来实现的，通过这种方式，组合物在曝光前后改变其碱性，从而得到具有高分辨率、矩形形状和最小化暗亮差异等优点的图案轮廓。
• SULFONIUM SALT, RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：OHSAWA Youichi

  公开号：US20120045724A1

  公开（公告）日：2012-02-23

  A sulfonium salt of a naphthylsulfonium cation having a hydrophilic phenolic hydroxyl group or ethylene glycol chain with a specific anion is provided. The sulfonium salt is used as a photoacid generator to form a resist composition which when processed by immersion lithography, offers advantages of restrained dissolution in the immersion water and less pattern dependence or dark-bright difference.

  提供了一种具有亲水性酚羟基或乙二醇链的萘基磺鎓阳离子的磺鎓盐，带有特定阴离子。该磺鎓盐用作光酸发生剂，形成一种抗蚀剂组合物，当通过浸没光刻法处理时，具有在浸没水中受限溶解和较少的图案依赖性或暗亮差异的优点。
• Nitrogen-containing organic compound, chemically amplified positive resist composition, and patterning process
  申请人：Sagehashi Masayoshi

  公开号：US08778591B2

  公开（公告）日：2014-07-15

  An aralkylcarbamate of imidazole base is effective as the quencher. In a chemically amplified positive resist composition comprising the carbamate, deprotection reaction of carbamate takes place by reacting with the acid generated upon exposure to high-energy radiation, whereby the composition changes its basicity before and after exposure, resulting in a pattern profile with advantages including high resolution, rectangular shape, and minimized dark-bright difference.

  一种以咪唑基为基础的阿拉基氨基甲酸酯作为淬灭剂是有效的。在化学增强正性光阻组成中，包括该氨基甲酸酯，当暴露于高能辐射时，与产生的酸反应，从而发生氨基甲酸酯的脱保护反应，使得组成物在暴露前后改变其碱性，从而导致具有高分辨率，矩形形状和最小化暗亮差异等优点的图案轮廓。
• Sulfonium salt, resist composition, and patterning process
  申请人：Ohsawa Youichi

  公开号：US08535869B2

  公开（公告）日：2013-09-17

  A sulfonium salt of a naphthylsulfonium cation having a hydrophilic phenolic hydroxyl group or ethylene glycol chain with a specific anion is provided. The sulfonium salt is used as a photoacid generator to form a resist composition which when processed by immersion lithography, offers advantages of restrained dissolution in the immersion water and less pattern dependence or dark-bright difference.

  提供了一种具有亲水性酚酸羟基或乙二醇链的萘基磺鎓阳离子的磺鎓盐，其中具有特定阴离子。该磺鎓盐用作光酸发生剂，形成一种抗蚀剂组合物，该组合物在浸润光刻工艺中加工时，具有抑制在浸润水中的溶解和较少的图案依赖性或暗亮差异的优点。
• POLYMER, MAKING METHOD, RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：US20130224659A1

  公开（公告）日：2013-08-29

  A sulfonic acid anion-containing polymer having an alkylsulfonium cation not in covalent bond thereto can be readily prepared by reacting a sulfonic acid anion-containing polymer having an ammonium or metal cation with an alkylsulfonium salt under mild conditions. A resist composition comprising the inventive polymer is effective for suppressing acid diffusion since the sulfonium salt is bound to the polymer backbone. When processed by the ArF lithography, the polymer exhibits a lower absorption at the exposure wavelength than the triarylsulfonium salt form PAGs, resulting in improved resolution, mask fidelity, and LWR.

  一种含有烷基磺酸铵阳离子的聚合物，其烷基磺酸铵阳离子与聚合物主链上的其他部分不形成共价键，可以通过在温和条件下将含有铵或金属阳离子的磺酸根聚合物与烷基磺酸盐反应而容易制备。由该聚合物构成的抗蚀剂组合物对抑制酸扩散有效，因为磺酸盐与聚合物主链相结合。当通过ArF光刻工艺进行处理时，该聚合物在曝光波长处的吸收较三芳基磺酸盐形式的PAGs低，从而提高了分辨率、掩模保真度和LWR。