ω,4-dibromo-2-acetyl-1-naphthol | 80309-01-9

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 萘
• 英文名称: ω,4-dibromo-2-acetyl-1-naphthol
• 英文别名: 2-bromo-1-(4-bromo-1-hydroxy-[2]naphthyl)-ethanone；2-Brom-1-(4-brom-1-hydroxy-[2]naphthyl)-aethanon；2-Bromo-1-(4-bromo-1-hydroxynaphthalen-2-yl)ethan-1-one；2-bromo-1-(4-bromo-1-hydroxynaphthalen-2-yl)ethanone
• CAS: 80309-01-9
• 化学式: C₁₂H₈Br₂O₂
• 分子量: 344.002
• InChiKey: QRIXCLHYMMGNOJ-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.5
• 重原子数：
  16
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.08
• 拓扑面积：
  37.3
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  ω,4-dibromo-2-acetyl-1-naphthol 在 sodium hydroxide 作用下， 生成 5-bromo-naphtho[1,2-b]furan-3-ol
  参考文献：
  名称：

  Akram et al., Proceedings - Indian Academy of Sciences, Section A, 1940, # 11, p. 139,142

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  (2-乙酰基萘-1-基)乙酸酯 在 四氯化碳 、 氢溴酸 、 溴 作用下， 生成 ω,4-dibromo-2-acetyl-1-naphthol
  参考文献：
  名称：

  Halogenation of Chelated Aryl Alkyl Ketones. I. Bromination of 2-Acetylnaphthol and Several of its Derivatives

  摘要：

  DOI：

  10.1021/ja01631a040

文献信息

• PdCl ₂ /CuCl ₂ /Bi(OTf) ₃ ‐promoted Construction of Sulfonyl Dibenzooxabicyclo[3.3.1]nonanes and Arylnaphthalenes via Intramolecular Annulation of Sulfonyl <i>o</i> ‐Allylarylchromanones
  作者：Nai‐Chen Hsueh、Meng‐Yang Chang

  DOI：10.1002/adsc.202001021

  日期：2020.12.22

  PdCl2/CuCl2/Bi(OTf)3‐promoted intramolecular domino annulation of sulfonyl o‐allylarylchromanones provides tetracyclic sulfonyl dibenzooxabicyclo[3.3.1]nonanes and bicyclic arylnaphthalenes with good to excellent yields in MeOH at room (25 °C) and refluxing (65 °C) temperature, respectively. The starting sulfonyl o‐allylarylchromanones can be easily obtained from the intermolecular cyclocondensation of α‐sulfonyl

  PdCl 2 / CuCl 2 / Bi（OTf）3促进的磺酰基邻烯丙基芳基苯并二氢呋喃酮分子内环化反应提供了四环磺酰基二苯并氧杂双环[3.3.1]壬烷和双环芳基萘，在室温（25°C）和回流条件下，在MeOH中的产率高至优异（65°C）温度。起始磺酰ø -allylarylchromanones可以从α磺酰基的分子间环化缩合而容易地获得ö -hydroxyacetophenones和ö烯丙基甲醛。为了方便的转化，本文研究了各种催化剂和溶剂体系的用途。提出并讨论了一种可行的机制。该协议通过碳-碳（CC）键的形成提供一锅闭环。
• Photomask and manufacturing method of an electronic device therewith
  申请人：——

  公开号：US20020086222A1

  公开（公告）日：2002-07-04

  In the step of manufacturing a photomask, an opaque pattern is formed by using a photosensitive resin composition containing a specified light absorbent, which then used to manufacture a photomask for KrF excimer laser lithography in a short manufacturing time and at a reduced cost. Accordingly, the manufacturing time and the cost for semiconductor integrated circuit devices is reduced.

  在制造光掩膜的步骤中，通过使用含有特定光吸收剂的光敏树脂组合物形成不透明图案，然后用它来制造用于 KrF 准分子激光光刻的光掩膜，制造时间短，成本低。因此，半导体集成电路设备的制造时间和成本都得以降低。
• Anand; Venkataraman, Proceedings - Indian Academy of Sciences, Section A, 1948, vol. <A> 28, p. 160,164
  作者：Anand、Venkataraman

  DOI：——

  日期：——
• Paranjape, M. V.; Wadokar, K. N., Indian Journal of Chemistry - Section B Organic and Medicinal Chemistry, 1981, vol. <B> 20, # 9, p. 808 - 809
  作者：Paranjape, M. V.、Wadokar, K. N.

  DOI：——

  日期：——
• The bromination of o- and p-hydroxyaryl ketones
  作者：Ng. Ph. Buu-Hoï、Denise Lavit

  DOI：10.1039/jr9550000018

  日期：——