the deprotection process can be initiated by illumination with light without the necessity of adding additional reagents such as acids or bases that can perturb biological activity. In solid phase peptide synthesis (SPPS), the most common photoremovable group used for thiol protection is the o-nitrobenzyl group and related analogues. In earlier work, we explored the use of the nitrodibenzofuran (NDBF)
可光除去的笼罩基团对于
生物学应用是有用的,因为脱保护过程可以通过用光照射来引发,而无需添加额外的试剂,例如会扰乱
生物学活性的酸或碱。在固相肽合成(
SPPS)中,用于
硫醇保护的最常见的可光去除基团是邻硝基苄基和相关类似物。在较早的工作中,我们探索了使用硝基
二苯并呋喃(N
DBF)基团进行
硫醇保护,发现相对于简单的基于硝化
萘基的保护基团和有用的两光子横截面,它显示出更快的UV光解速率。在这里,我们描述了带有甲氧基取代基的新的基于N
DBF的保护基的合成,并用它来制备适用于
SPPS的半胱
氨酸的保护形式。然后,该试剂用于组装两个
生物学上相关的肽,并表征它们在紫外和双光子介导的反应中的光解动力学。新保护基的两光子作用横截面为0.71-1.4 GM,这一点尤为显着。最后,通过紫外线或双光子激活对这些受保护的肽进行解封被用于通过法呢基转移酶开始其随后的酶促加工。这些实验突显了这种新的保护基在
SPPS和
生物学