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4-硝基-1,5-二羟基萘 | 104750-79-0

中文名称
4-硝基-1,5-二羟基萘
中文别名
——
英文名称
4-nitro-1,5-dihydroxynaphtalene
英文别名
4-Nitronaphthalene-1,5-diol
4-硝基-1,5-二羟基萘化学式
CAS
104750-79-0
化学式
C10H7NO4
mdl
——
分子量
205.17
InChiKey
OTBYXMNGHGGLQZ-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
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  • SDS
  • 制备方法与用途
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  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
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  • 相关功能分类
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计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    2.3
  • 重原子数:
    15
  • 可旋转键数:
    0
  • 环数:
    2.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.0
  • 拓扑面积:
    86.3
  • 氢给体数:
    2
  • 氢受体数:
    4

反应信息

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文献信息

  • Nitrocyclohexadienones: Convenient new mono-nitrating agents for aromatic compounds
    作者:J. Roussel、M. Lemaire、A. Guy、J.P. Guetté
    DOI:10.1016/s0040-4039(00)83930-1
    日期:1986.1
    Nitrocyclohexadienones are effective nitrating agents for naphthols in dry ether at room temperature to give good yields of mononitrated products.
    硝基环己是室温下干醚中萘酚的有效硝化剂,可产生良好的单硝化产物收率。
  • ROUSSEL, J.;LEMAIRE, M.;GUY, A.;GUETTE, J. P., TETRAHEDRON LETT., 1986, 27, N 1, 27-28
    作者:ROUSSEL, J.、LEMAIRE, M.、GUY, A.、GUETTE, J. P.
    DOI:——
    日期:——
  • LEMAIRE M.; GUY A.; ROUSSEL J.; GUETTE J. -P., TETRAHEDRON, 43,(1987) N 5, 835-844
    作者:LEMAIRE M.、 GUY A.、 ROUSSEL J.、 GUETTE J. -P.
    DOI:——
    日期:——
  • RESIST OVERLAYER FILM FORMING COMPOSITION FOR LITHOGRAPHY AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME
    申请人:NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
    公开号:US20150248057A1
    公开(公告)日:2015-09-03
    A resist overlayer film forming composition that is used for a lithography process for manufacturing semiconductor devices, and selectively transmits EUV only, in particular, by blocking exposure light undesirable for EUV exposure, such as UV and DUV, without intermixing with a resist, and that can be developed with a developing solution after exposure. A resist overlayer film forming composition including: a hydroxyl group-containing novolac-based polymer containing a structure of (Formula 1-1): (in (Formula 1-1), Ar 1 is a divalent organic group that contains 1 to 3 benzene ring(s) and optionally contains a hydroxy group; Ar 2 is a benzene ring group, a naphthalene ring group, or an anthracene ring group; each of the hydroxy group and R 1 is a substituent for a hydrogen atom on a ring of Ar 2 ); and a solvent.
  • US9494864B2
    申请人:——
    公开号:US9494864B2
    公开(公告)日:2016-11-15
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