di-tert-butyl (naphthalene-1,5-diyl)bis(carbonate) | 195057-82-0

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 萘
• 英文名称: di-tert-butyl (naphthalene-1,5-diyl)bis(carbonate)
• 英文别名: 1,5-di(tert-butoxycarbonyloxy)naphthalene；Tert-butyl [5-[(2-methylpropan-2-yl)oxycarbonyloxy]naphthalen-1-yl] carbonate
• CAS: 195057-82-0
• 化学式: C₂₀H₂₄O₆
• 分子量: 360.407
• InChiKey: DWQAZTAEIJUGIK-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  5.5
• 重原子数：
  26
• 可旋转键数：
  8
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.4
• 拓扑面积：
  71.1
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  6

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  di-tert-butyl (naphthalene-1,5-diyl)bis(carbonate) 在 六甲基磷酰三胺 、 正丁基锂 、 二异丙胺 作用下， 以 四氢呋喃 为溶剂， 反应 10.5h， 以41.5%的产率得到
  参考文献：
  名称：

  碳酸芳基酯的阴离子弗里斯重排。轻松获得邻羟基酯的途径

  摘要：

  碳酸芳基酯与LDA或LiTMP反应生成邻羟基酯。

  DOI：

  10.1016/j.tetlet.2020.152488
• 作为产物：
  描述：

  1,5-二羟基萘 以 甲苯 为溶剂， 生成 di-tert-butyl (naphthalene-1,5-diyl)bis(carbonate)
  参考文献：
  名称：

  Optically active compound and photosensitive resin composition

  摘要：

  一种光活性化合物与光敏剂结合使用，由以下公式（1）表示： A −[( J ) m −( X-Pro )] n (1) 其中，A代表至少包括一种从烃基和杂环基中选择的疏水基的疏水单元，J代表连接基团，X-Pro代表由光照可去除的保护基团Pro保护的亲水基团，m代表0或1，n代表不少于1的整数。 保护基团Pro可以与光敏剂（特别是光酸发生剂）一起通过光照可去除，也可以是疏水保护基团。亲水基团可以是羟基或羧基。光活性化合物对短波长光源具有很高的敏感性，用于光刻应用，因此，该光活性化合物有利于形成具有高分辨率的图案。

  公开号：

  US20030211421A1

文献信息

• Radiation-sensitive resin composition
  申请人：JAPAN SYNTHETIC RUBBER CO., LTD.

  公开号：EP0789278A2

  公开（公告）日：1997-08-13

  A radiation-sensitive resin composition including (A) a resin containing an alicyclic skeleton in its backbone, and (B) a radiation-sensitive acid-generating agent, is provided. This composition is excellent in transparency with respect to radiation and dry etching resistance, and can give a photoresist pattern excellent in adhesion to substrates, sensitivity, resolution, and developability.

  本发明提供了一种辐射敏感树脂组合物，其中包括 (A) 主干中含有脂环族骨架的树脂和 (B) 辐射敏感酸生成剂。这种组合物在抗辐射和抗干蚀刻方面具有极佳的透明度，并能产生对基底具有极佳附着力、灵敏度、分辨率和显影性的光刻胶图案。
• OPTICALLY ACTIVE COMPOUND AND PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION
  申请人：Kansai Research Institute, Inc.

  公开号：EP1375463A1

  公开（公告）日：2004-01-02

  A photoactive compound is used in combination with a photosensitizer, represented by the following formula (1):         A-[(J)m-(X-Pro)]n     (1)    wherein A represents a hydrophobic unit comprising at least one kind of hydrophobic groups selected from a hydrocarbon group and a heterocyclic group, J represents a connecting group, X-Pro represents a hydrophilic group protected by a protective group Pro which is removable by light exposure, m represents 0 or 1, and n represents an integer of not less than 1. The protective group Pro may be removable by light exposure in association with the photosensitizer (especially, a photo acid generator), or may be a hydrophobic protective group. The hydrophilic group may be a hydroxyl group or a carboxyl group. The photoactive compound has high sensitivity to a light source of short wavelength beams, for resist application, therefore, the photoactive compound is advantageously used for forming a pattern with high resolution.

  光活性化合物与光敏剂结合使用，光敏剂由下式（1）表示： A-[(J)m-(X-Pro)]n (1) 其中 A 代表疏水单元，包括至少一种选自烃基和杂环基的疏水基团；J 代表连接基团；X-Pro 代表亲水基团，该亲水基团受保护基团 Pro 的保护，该保护基团可通过光照去除；m 代表 0 或 1；n 代表不小于 1 的整数。 保护基 Pro 可以通过与光敏剂（特别是光酸发生器）一起进行光照射而去除，也可以是疏水保护基。亲水基团可以是羟基或羧基。光活性化合物对短波长光束的光源具有很高的灵敏度，因此在抗蚀剂应用中，光活性化合物可用于形成具有高分辨率的图案。
• US6692887B1
  申请人：——

  公开号：US6692887B1

  公开（公告）日：2004-02-17
• US6727032B1
  申请人：——

  公开号：US6727032B1

  公开（公告）日：2004-04-27
• US7534547B2
  申请人：——

  公开号：US7534547B2

  公开（公告）日：2009-05-19