摘要:
间苯乙烯芪的反式顺式光异构化,即 2,4,6-三异丙基-3'-苯乙烯芪 (TISS)、2,4,6-三甲基-3'-苯乙烯芪 (TMSS) 和 3-苯乙烯芪 (SS)和二苯乙烯,即 2,4,6-三异丙基二苯乙烯 (TIS)、2,4,6-三甲基二苯乙烯 (TMS) 和二苯乙烯 (S),在己烷中二苯甲酮敏化辐射的直接照射下进行研究。异构化量子产率的测量表明,虽然苯乙烯二苯乙烯分子带有两个苯乙烯基,但该反应具有高度区域选择性,这取决于激发条件和反应物结构。例如,反式、反式-TISS 和反式、顺式-TISS 的异构化发生在直接激发时的 2,4,6-三取代苯乙烯基侧或敏化激发时的未取代的苯乙烯基侧。当起始材料带有未取代的顺式苯乙烯基团时,主要的异构化总是通过直接或敏化激发在该部分发生,例如,cis,trans-TISS ..-->.. trans,trans-TISS, cis,cis -TISS ..-->