depending directly on the electronic effect (electron-donating or electron-withdrawing) of the substituent attached to the product. Finally, the UV-Vis DNA interaction experiments indicated that the compounds can interact with the DNA molecule due to intercalation, except for 3g (which interacted via electrostatic interaction). Plasmid cleavage assay presented positive results only for 3f that presented the
制备了一系列
硒化的恶二唑,并研究了它们与DNA的相互作用。光物理研究表明,所有
硒化的化合物均表现出270至329 nm的吸收,并分配给组合的n→π*和π→π*跃迁,并发出强烈的蓝光发射(325-380 nm),量子产率在Φ范围内F = 0.1-0.4。还进行了DFT和TD-DFT计算,以研究这些化合物的可能几何形状和激发态。电
化学研究表明,电离势能(-5.13至-6.01 eV)和电子亲和能(-2.25至-2.83 eV)直接取决于附着在产物上的取代基的电子效应(给电子或吸电子) 。最后,UV-Vis DNA相互作用实验表明,由于嵌入,化合物可以与DNA分子相互作用,但3g(通过静电相互作用而相互作用)除外。质粒切割分析仅对3f呈现阳性结果,而3f呈现最强的相互作用结果。这些结果使得经测试的
硒代化的恶二唑成为用于药物开发和与结构相关的治疗剂设计的合适结构。