2,13-bis(trimethylsilyl)tetrathia[7]helicene | 863198-42-9

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 苯并噻吩类
• 英文名称: 2,13-bis(trimethylsilyl)tetrathia[7]helicene
• 英文别名: Trimethyl-(23-trimethylsilyl-7,12,17,22-tetrathiaheptacyclo[14.10.0.02,13.03,11.04,8.018,26.021,25]hexacosa-1(16),2(13),3(11),4(8),5,9,14,18(26),19,21(25),23-undecaen-6-yl)silane
• CAS: 863198-42-9；958223-24-0；958223-25-1
• 化学式: C₂₈H₂₆S₄Si₂
• 分子量: 546.949
• InChiKey: RZGNYTJITOILTD-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  9.94
• 重原子数：
  34
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  7.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.21
• 拓扑面积：
  113
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2,13-bis(trimethylsilyl)tetrathia[7]helicene 在 四丁基氟化铵 作用下， 以 四氢呋喃 为溶剂， 反应 0.33h， 以99%的产率得到(M)-bisthieno[3',2':4,5]benzo[1,2-b:4,3-b']di[1]benzothiophene
  参考文献：
  名称：

  甲硅烷基取代的四硫 [7] 螺旋烯：合成、X 射线表征和反应性

  摘要：

  我们描述了三烷基甲硅烷基取代的反式-1,2-双（噻吩并[3,2-e]苯并噻吩-2-基）乙烯作为制备相应的甲硅烷基化四硫杂[7]螺旋烯的合适可溶性前体的合成，其中，反过来，可以通过甲硅烷基取代基的亲电取代脱甲硅烷基化或转化为二卤代衍生物。X 射线结构研究表明，末端噻吩环上两个三异丙基甲硅烷基的存在是烯烃的高溶解度和螺旋烯中非常大的二面角的原因。(© Wiley-VCH Verlag GmbH & Co. KGaA, 69451 Weinheim, Germany, 2007)

  DOI：

  10.1002/ejoc.200700494
• 作为产物：
  描述：

  2,13-bis(triisopropylsilyl)tetrathia[7]helicene 在 正丁基锂 、 四丁基氟化铵 作用下， 以 四氢呋喃 、 正己烷 为溶剂， 反应 6.5h， 生成 2,13-bis(trimethylsilyl)tetrathia[7]helicene
  参考文献：
  名称：

  甲硅烷基取代的四硫 [7] 螺旋烯：合成、X 射线表征和反应性

  摘要：

  我们描述了三烷基甲硅烷基取代的反式-1,2-双（噻吩并[3,2-e]苯并噻吩-2-基）乙烯作为制备相应的甲硅烷基化四硫杂[7]螺旋烯的合适可溶性前体的合成，其中，反过来，可以通过甲硅烷基取代基的亲电取代脱甲硅烷基化或转化为二卤代衍生物。X 射线结构研究表明，末端噻吩环上两个三异丙基甲硅烷基的存在是烯烃的高溶解度和螺旋烯中非常大的二面角的原因。(© Wiley-VCH Verlag GmbH & Co. KGaA, 69451 Weinheim, Germany, 2007)

  DOI：

  10.1002/ejoc.200700494