申请人:Arzneimittelwerk Dresden G.m.b.H.
公开号:US05776932A1
公开(公告)日:1998-07-07
1,3,5-trisubstituted indazole derivatives of the formula ##STR1## wherein R1 is H, (b) a C.sub.1-6 straight or branched, substituted or unsubstituted alkyl residue, (c) a C.sub.3-7 cycloalkyl residue, (d) an unsustituted or substituted phenyl, naphthyl, anthranyl, or fluorenyl residue, (e) a quinolin-2-ylmethoxy, or pyridin-2-ylmethoxy residue; X is O, or a --NH, --NH--(C.dbd.O)--NH--, --NH--(C.dbd.O)--O--, --NH--(C.dbd.O)--, or --NH--CH.sub.2 --(C.dbd.O)-- residue; Y is O, or S; R.sub.2 is H; Z is a SO, SO.sub.2, --(CH.sub.2).sub.p --, --(CH.sub.2).sub.p --O--, --O--(CH.sub.2).sub.p --, --(CH.sub.2).sub.p --(C.dbd.O)--, --(C.dbd.O)--(CH.sub.2).sub.p --, --(CH.sub.2).sub.p --(C.dbd.O)--NH--, --NH--(C.dbd.O)--(CH.sub.2).sub.p --, --(CH.sub.2).sub.p --CHOH--, --CHOH--(CH.sub.2).sub.p --, --(CH.sub.2).sub.p --CH.dbd.CH--, or --CH.dbd.CH--(CH.sub.2).sub.p -- residue, wherein p is between 1 and 6; A is a phenyl, naphthyl, anthranyl, fluorenyl, thiophenyl, pyridinyl, isoxazolyl, benzimidazolyl, benz\x9b1,3!dioxolyl, pyrimidyl, pyrimidine-2,4-dionyl, quinolinyl, quinoxazolinyl, morpholinyl, or pyrrolidinyl residue; and, R.sub.3, R.sub.4, and R.sub.5, the same or different, are defined in the specification; and pharmaceutically acceptable salts, stereoisomers, racemates, racemic modifications, and enantiomers thereof. The invention also relates to specific compounds, processes for preparing and for treating an allergic, asthmatic, inflamed condition of a host, or for modulating the immune system of a host.
该专利涉及一种化合物,其为1,3,5-三取代吲唑衍生物,化学式为##STR1##其中R1为H,(b)为C.sub.1-6直链或支链,取代或未取代的烷基残基,(c)为C.sub.3-7环烷基残基,(d)为未取代或取代的苯基,萘基,蒽基或芴基残基,(e)为喹啉-2-基甲氧基或吡啶-2-基甲氧基残基;X为O,或--NH,--NH--(C.dbd.O)--NH--,--NH--(C.dbd.O)--O--,--NH--(C.dbd.O)--,或--NH--CH.sub.2--(C.dbd.O)--残基;Y为O,或S;R.sub.2为H;Z为SO,SO.sub.2,--(CH.sub.2).sub.p--,--(CH.sub.2).sub.p--O--,--O--(CH.sub.2).sub.p--,--(CH.sub.2).sub.p--(C.dbd.O)--,--(C.dbd.O)--(CH.sub.2).sub.p--,--(CH.sub.2).sub.p--(C.dbd.O)--NH--,--NH--(C.dbd.O)--(CH.sub.2).sub.p--,--(CH.sub.2).sub.p--CHOH--,--CHOH--(CH.sub.2).sub.p--,--(CH.sub.2).sub.p--CH.dbd.CH--,或--CH.dbd.CH--(CH.sub.2).sub.p--残基,其中p为1到6之间;A为苯基,萘基,蒽基,芴基,噻吩基,吡啶基,异噁唑基,苯并咪唑基,苯并[1,3]二氧杂环基,嘧啶基,嘧啶-2,4-二酮基,喹啉基,喹啉氧杂唑基,吗啉基或吡咯烷基残基;以及其药物可接受的盐,立体异构体,外消旋体,外消旋体修饰物和对映体。该发明还涉及特定化合物,制备和治疗宿主的过敏,哮喘,炎症状况或调节宿主免疫系统的过程。