2-甲基-3-吲嗪羰基氯化物 | 70601-77-3

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 吡咯并吡啶类
• 中文名称: 2-甲基-3-吲嗪羰基氯化物
• 英文名称: 2-methyl-3-indolizinecarbonyl chloride
• 英文别名: 2-methyl-indolizine-3-carbonyl chloride；2-Methyl-indolizin-3-carbonylchlorid；2-Methylindolizine-3-carbonyl chloride
• CAS: 70601-77-3
• 化学式: C₁₀H₈ClNO
• 分子量: 193.633
• InChiKey: MFVLBXQARRXRSO-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.7
• 重原子数：
  13
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.1
• 拓扑面积：
  21.5
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2-甲基-3-吲嗪羰基氯化物 在 吡啶 、 乙醚 、 乙醇 、 sodium carbonate 、 一水合肼 、 乙二醇 作用下， 反应 2.0h， 生成 2-甲基-3-吲嗪甲醛
  参考文献：
  名称：

  吡咯啉的化学。第七部分 2-甲基吡咯啉的进一步实验

  摘要：

  DOI：

  10.1039/jr9550001504
• 作为产物：
  描述：

  2-甲基吲嗪 、 光气 在 甲苯 作用下， 生成 2-甲基-3-吲嗪羰基氯化物
  参考文献：
  名称：

  吡咯啉的化学。第七部分 2-甲基吡咯啉的进一步实验

  摘要：

  DOI：

  10.1039/jr9550001504

文献信息

• Production of etch-resist colloid and material suitable therefor
  申请人：AGFA-GEVAERT N.V.

  公开号：US04202697A1

  公开（公告）日：1980-05-13

  A radiation-sensitive material is described that comprises a hydrophilic colloid layer containing a dispersed phase of at least one radiation sensitive polymer the polymer chain of which comprises units with side substituents containing oxime ester groups. Upon imagewise exposure to actinic radiation the polymer in the exposed areas reduces the permeability of the hydrophilic colloid layer for an etchant in the absence of any ethylenically unsaturated monomer. The layer having upon image-wise exposure to radiation image-wise differentiations in permeability for an etchant can be used as etch-resist, without needing a washing away step, to modify image-wise the surface of an element e.g. to produce printed circuits or printing forms.

  描述了一种辐射敏感材料，其包括一个亲水胶体层，其中包含至少一种辐射敏感聚合物的分散相，该聚合物链包含具有含氧肟酯基团的侧基取代物的单元。在图像曝光到光辐射后，聚合物在暴露区域降低了亲水胶体层对缓蚀剂的渗透性，而没有任何乙烯基不饱和单体。该层在图像曝光到辐射时，具有图像差异的渗透性，可以用作蚀刻抗蚀材料，无需洗涤步骤，以图像方式修改元素表面，例如生产印刷电路板或印刷版。
• Process for image-wise modifying the surface of an etchable support and material suitable therefor comprising a colloid layer containing polymers with oxime-ester groups
  申请人：AGFA-GEVAERT naamloze vennootschap

  公开号：EP0000082A1

  公开（公告）日：1978-12-20

  A radiation-sensitive material is described that comprises a hydrophilic colloid layer containing a dispersed phase of at least one radiation sensitive polymer the polymer chain of which comprises units with side substituents containing oxime ester groups. Upon imagewise exposure to actinic radiation of the polymer in the exposed areas reduces the permeability of the hydrophilic colloid layer for an etchant in the absence of any ethylenically unsaturated monomer. The layer having upon imagewise exposure to radiation image-wise differentiations in permeability for an etchant can be used as etch-resist, without needing a washing away step, to modify image-wise the surface of an element e.g. to produce printed circuits or printing forms.

  描述了一种辐射敏感材料，它包括一个亲水胶体层，该胶体层含有至少一种辐射敏感聚合物的分散相，该聚合物的聚合物链包括侧取代基含有肟酯基团的单元。当聚合物在受照区域受到光辐射时，亲水胶体层在没有乙烯不饱和单体的情况下对蚀刻剂的渗透性会降低。在图像上暴露于辐射时，该层对蚀刻剂的渗透性随图像的变化而变化，可用作蚀刻-抗蚀剂，无需清洗步骤，就能在图像上改变元件的表面，例如生产印刷电路或印刷品。
• Ceder, Olof; Sharif, Mohammed Rashid, Chemische Berichte, 1987, vol. 120, p. 239 - 242
  作者：Ceder, Olof、Sharif, Mohammed Rashid

  DOI：——

  日期：——
• US4202697A
  申请人：——

  公开号：US4202697A

  公开（公告）日：1980-05-13