2,6-Dinitrobenzyl 4-(trifluoromethyl)benzenesulfonate | 132898-36-3

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 2,6-Dinitrobenzyl 4-(trifluoromethyl)benzenesulfonate
• 英文别名: (2,6-dinitrophenyl)methyl 4-(trifluoromethyl)benzenesulfonate
• CAS: 132898-36-3
• 化学式: C₁₄H₉F₃N₂O₇S
• 分子量: 406.296
• InChiKey: IJKZDHILFNXEPR-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.2
• 重原子数：
  27
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.14
• 拓扑面积：
  143
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  10

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  4-三氟甲基苯磺酰氯 、 2,6-二硝基苄醇 以 四氯化碳 、 氯仿 为溶剂， 以38%的产率得到2,6-Dinitrobenzyl 4-(trifluoromethyl)benzenesulfonate
  参考文献：
  名称：

  Resist materials

  摘要：

  此类抗蚀剂组合物对深紫外光敏感，包括对酸敏感的树脂和一种在暴露于此类辐射时产生酸的组合物。特别是，硝基苄基材料适合用作酸发生剂。

  公开号：

  US05200544A1

文献信息

• New acid-labile group protected hydroxystyrene polymers or copolymers thereof and their application to radiation sensitive materials
  申请人：Clariant Finance (BVI) Limited

  公开号：EP0827970B1

  公开（公告）日：2001-09-26
• US5200544A
  申请人：——

  公开号：US5200544A

  公开（公告）日：1993-04-06
• US5852128A
  申请人：——

  公开号：US5852128A

  公开（公告）日：1998-12-22
• Resist materials
  申请人：AT&T Bell Laboratories

  公开号：US05200544A1

  公开（公告）日：1993-04-06

  A class of resist compositions sensitive to deep ultraviolet radiation includes a resin sensitive to acid and a composition that generates acid upon exposure to such radiation. A group of nitrobenzyl materials is particularly suitable for use as the acid generator.

  此类抗蚀剂组合物对深紫外光敏感，包括对酸敏感的树脂和一种在暴露于此类辐射时产生酸的组合物。特别是，硝基苄基材料适合用作酸发生剂。