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1-(3,3-dimethyl-2-oxobutyl)tetrahydro-1H-thiophen-1-ium bromide | 303177-16-4

中文名称
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中文别名
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英文名称
1-(3,3-dimethyl-2-oxobutyl)tetrahydro-1H-thiophen-1-ium bromide
英文别名
2-oxo-3,3-dimethylbutyl-thiacyclopentanium bromide;3,3-dimethyl-2-oxobutyl thiacyclopentanium bromide;1-(3,3-dimethyl-2-oxobutyl)-tetrahydrothiophenium bromide;1-(3,3-Dimethyl-2-oxobutyl)thiolan-1-ium bromide;3,3-dimethyl-1-(thiolan-1-ium-1-yl)butan-2-one;bromide
1-(3,3-dimethyl-2-oxobutyl)tetrahydro-1H-thiophen-1-ium bromide化学式
CAS
303177-16-4
化学式
Br*C10H19OS
mdl
——
分子量
267.23
InChiKey
LBEZTPIDVREMPI-UHFFFAOYSA-M
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    -0.98
  • 重原子数:
    13
  • 可旋转键数:
    3
  • 环数:
    1.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.9
  • 拓扑面积:
    18.1
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    2

SDS

SDS:d6379b95e2b003c555333a7643cef3ea
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反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    1-(3,3-dimethyl-2-oxobutyl)tetrahydro-1H-thiophen-1-ium bromidepotassium trifluoromethansulfonate乙腈 为溶剂, 反应 18.0h, 生成 3,3-dimethyl-2-oxobutyl thiacyclopentanium trifluoromethanesulfonate
    参考文献:
    名称:
    Chemical amplifying type positive resist composition
    摘要:
    公开号:
    EP1167349B1
  • 作为产物:
    描述:
    四氢噻吩1-溴频哪酮丙酮 为溶剂, 反应 5.0h, 以90%的产率得到1-(3,3-dimethyl-2-oxobutyl)tetrahydro-1H-thiophen-1-ium bromide
    参考文献:
    名称:
    实用和区域选择性的卤化三氟甲基硫醇。
    摘要:
    据报道,使用双官能度策略,AH 2 O介导的实际和高度区域选择性的硫酰化氯和溴-三氟甲基硫醇化反应。在该反应流程,硫叶立德大概与亲电试剂trifluoromethylthiolating反应生成的α-SCF 3取代的锍盐中间体,然后经历与亲核卤素的取代。
    DOI:
    10.1039/d0cc03171b
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文献信息

  • Salt suitable for an acid generator and a chemically amplified resist composition containing the same
    申请人:Harada Yukako
    公开号:US20070100158A1
    公开(公告)日:2007-05-03
    The present invention provides a salt of the formula (I): wherein ring X represents polycyclic hydrocarbon group having tricycle or more and having 10 to 30 carbon atoms, and one or more hydrogen atom in the ring X is optionally substituted with alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, perfluoroalkyl group having 1 to 4 carbon atoms or cyano group; Q 1 and Q 2 each independently represent fluorine atom or perfluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms; n shows an integer of 1 to 12; and A + represents a cation selected from the group consist of a cation of the following formulae (IIa), (IIb) and (IIc): The present invention also provides a chemically amplified resist composition comprising the salt of the formula (I).
    本发明提供了一种公式(I)的盐:其中,环X代表具有10至30个碳原子的三环或更多多环烃基团,并且环X中的一个或多个氢原子可被选自1至6碳原子的烷基、1至6碳原子的烷氧基、1至4碳原子的全氟烷基或腈基团所取代;Q1和Q2各自独立地代表氟原子或具有1至6碳原子的全氟烷基;n表示1至12的整数;A+代表由以下公式(IIa)、(IIb)和(IIc)组成的阳离子群中选择的一种阳离子:本发明还提供了一种包含公式(I)盐的化学放大抗蚀剂组合物。
  • Chemical amplification type resist composition
    申请人:Yamada Airi
    公开号:US20080269506A1
    公开(公告)日:2008-10-30
    The present invention provides a sulfonium salt of the formula (Ia) a polymeric compound comprising a structural unit of the formula (Ib) and a chemical amplification type positive resist composition comprising (A) an acid generator comprising at least one compound selected from the group consisting of a sulfonium salt of the formula (Ia), a polymeric compound comprising a structural unit of the formula (Ib), and a sulfonium salt of the formula (Ic); and (B) resin which contains a structural unit having an acid labile group and which itself is insoluble or poorly soluble in an alkali aqueous solution but becomes soluble in an alkali aqueous solution by the action of an acid.
    本发明提供了一种公式(Ia)的硫鎓盐,包括一个结构单元的聚合物化合物的公式(Ib),以及一种化学放大型正性光刻胶组合物,包括(A)至少选择自硫鎓盐的公式(Ia)、一个结构单元的聚合物化合物的公式(Ib)和硫鎓盐的公式(Ic)组成的酸发生剂;以及(B)含有酸敏感基团的结构单元的树脂,本身在碱性水溶液中不溶或难溶,但在酸的作用下变得可溶于碱性水溶液。
  • Synthesis of SCF <sub>3</sub> ‐Substituted Sulfonium Ylides from Sulfonium Salts or α‐Bromoacetic Esters
    作者:Yushan Xiao、Yimin Jia、Jinfeng Huang、Xiangyu Li、Zhiwen Zhou、Jing Zhang、Mou Jiang、Xin Zhou、Zhong‐Xing Jiang、Zhigang Yang
    DOI:10.1002/adsc.202101271
    日期:2022.2.15
    A metal-free direct trifluoromethylthiolation of sulfonium ylides with an electrophilic trifluoromethylthiolating reagent has been established, in which sulfonium salt or α-bromoacetic ester is employed as sulfonium ylide precursors. This trifluoromethylthiolation enables the straightforward construction of SCF3-substituted sulfonium ylides from a wide range of substrates, including ketones, esters
    已经建立了用亲电三氟甲基硫醇化试剂对锍叶立德进行无金属直接三氟甲基硫醇化,其中使用锍盐或α-溴乙酸酯作为锍叶立德前体。这种三氟甲基硫醇化能够直接从多种底物(包括酮、酯甚至 PEG 化底物)构建 SCF 3取代的锍叶立德。此外,还探索了该方法在大规模制备中的应用以及产品的荧光和氟19磁共振成像能力。
  • Photosensitive composition, compound for use in the photosensitive composition, and method of pattern formation with the photosensitive composition
    申请人:FUJIFILM Corporation
    公开号:US07449573B2
    公开(公告)日:2008-11-11
    A compound which generates a sulfonic acid having one or more —SO3H groups and one or more —SO2— bonds upon irradiation with an actinic ray or a radiation; a photosensitive composition containing the compound; and a method of pattern formation with the photosensitive composition.
    一种在受到光照射或辐射时生成具有一个或多个—SO3H基团和一个或多个—SO2—键的磺酸化合物;包含该化合物的光敏组合物;以及使用该光敏组合物进行图案形成的方法。
  • Photoacid generator containing two kinds of sulfonium salt compound, chemically amplified resist containing the same and pattern transfer method
    申请人:——
    公开号:US20020182535A1
    公开(公告)日:2002-12-05
    A chemically amplified photo-resist contains a photoacid generator for changing the solubility of resin after exposure to 130-220 nanometer wavelength light, and the photoacid generator contains two kinds of sulfonium salt compound expressed by general formulae [1] and [2] 1 so that the chemically amplified photo-resist is improved in resolution, sensitivity and smoothness on side surfaces of a transferred pattern.
    一种化学增感光阻含有光酸发生剂,用于在暴露于130-220纳米波长的光线后改变树脂的溶解度,而光酸发生剂包含两种磺酸盐化合物,由一般式[1]和[2]1表示,因此,化学增感光阻在转移图案的侧面表面上提高了分辨率、灵敏度和光滑度。
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