tetra-n-butylammonium hypochlorite | 159734-22-2

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氮化合物
• 英文名称: tetra-n-butylammonium hypochlorite
• 英文别名: Tetrabutylammonium hypochlorite；tetrabutylazanium;hypochlorite
• CAS: 159734-22-2
• 化学式: C₁₆H₃₆N*ClO
• 分子量: 293.921
• InChiKey: GEBPXADVOURYDV-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.5
• 重原子数：
  19
• 可旋转键数：
  12
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  23.1
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  5,10,15,20-tetra(2',6'-dichlorophenyl)porphyrinatoiron(III) chloride 、 tetra-n-butylammonium hypochlorite 以 二氯甲烷 为溶剂， 生成
  参考文献：
  名称：

  铁 (III) 卟啉配合物对末端氧化剂的杂解键与均裂键断裂的确定的关键因素

  摘要：

  金属结合的末端氧化剂的杂裂与均裂是确定金属酶和金属催化氧化反应中反应中间体性质的关键。在这里，我们研究了具有 4-甲氧基-2,6-二甲基苯基 (1)、2,4,6-三甲基苯基 (2)、4-氟-2,6- 的铁 (III) 卟啉配合物对次氯酸盐的键裂解过程二甲基苯基 (3)、2-氯-6-甲基苯基 (4)、2,6-二氯苯基 (5) 和 2,4,6-三氯苯基 (6) 基团位于中间位置。Oxoiron(IV) 卟啉 π-阳离子自由基复合物 (CompI) 的特征在于 1-4 与四正丁基次氯酸铵 (TBA-OCl) 在 -80 °C 的二氯甲烷中反应，而 Oxoiron(IV) 卟啉复合物 ( CompII) 在相同条件下对 5 和 6 进行表征。对于所有 1-6，我们发现与 TBA-OCl 的催化反应以良好的产率形成环氧化产物，表明 O-Cl 键发生异裂。氯化物和次氯酸盐将 5 和 6 的 CompI

  DOI：

  10.1021/jacs.7b13037
• 作为产物：
  描述：

  四丁基氯化铵 在 sodium hypochlorite pentahydrate 作用下， 以 二氯甲烷 为溶剂， 生成 tetra-n-butylammonium hypochlorite
  参考文献：
  名称：

  铁 (III) 卟啉配合物对末端氧化剂的杂解键与均裂键断裂的确定的关键因素

  摘要：

  金属结合的末端氧化剂的杂裂与均裂是确定金属酶和金属催化氧化反应中反应中间体性质的关键。在这里，我们研究了具有 4-甲氧基-2,6-二甲基苯基 (1)、2,4,6-三甲基苯基 (2)、4-氟-2,6- 的铁 (III) 卟啉配合物对次氯酸盐的键裂解过程二甲基苯基 (3)、2-氯-6-甲基苯基 (4)、2,6-二氯苯基 (5) 和 2,4,6-三氯苯基 (6) 基团位于中间位置。Oxoiron(IV) 卟啉 π-阳离子自由基复合物 (CompI) 的特征在于 1-4 与四正丁基次氯酸铵 (TBA-OCl) 在 -80 °C 的二氯甲烷中反应，而 Oxoiron(IV) 卟啉复合物 ( CompII) 在相同条件下对 5 和 6 进行表征。对于所有 1-6，我们发现与 TBA-OCl 的催化反应以良好的产率形成环氧化产物，表明 O-Cl 键发生异裂。氯化物和次氯酸盐将 5 和 6 的 CompI

  DOI：

  10.1021/jacs.7b13037
• 作为试剂：
  描述：

  1,3,5-三甲氧基苯 在 C₄₄H₈Cl₂F₂₀FeN₄O₂^(1-)*C₁₆H₃₆N⁽¹⁺⁾ 、 tetra-n-butylammonium hypochlorite 作用下， 以 二氯甲烷 、 乙腈 为溶剂， 反应 1.5h， 以86%的产率得到2-氯-1,3,5-三甲氧基苯
  参考文献：
  名称：

  次氯铁 (III) 卟啉配合物的合成、表征和反应性

  摘要：

  次氯铁 (III) 卟啉种类已被提议作为中性粒细胞抗菌防御系统和血红素催化氯化反应中的关键中间体。我们在此报告了双（次氯）铁（III）卟啉络合物 [(TPFP)Fe(III)(OCl)(2)](-) (1) 和咪唑-次氯铁络合物的制备、光谱表征和反应性(TPFP)Fe(III)(OCl)(1-R-Im) [R = CH(3) (2), H (3), CH(2)CO(2)H (4)]，其中TPFP是 5,10,15,20-四(五氟苯基)卟啉酸盐。1-4 的结构通过吸收、(2)H 和 (19)F 核磁共振、EPR、共振拉曼光谱和低温电喷雾质谱证实。1 和 2 与各种有机底物的反应表明 1 和 2 能够进行氯化、亚磺氧化、

  DOI：

  10.1021/ja3108774

文献信息

• Preparation, Characterization and Reactivity of a Bis-hypochlorite Adduct of a Chiral Manganese(IV) Salen Complex
  作者：Ikuko Araki、Kaoru Fukui、Hiroshi Fujii

  DOI：10.1021/acs.inorgchem.7b02661

  日期：2018.2.19

  2-tBu is much lower than that reported for the catalytic reactions by Jacobsen’s catalyst. The low enantioselectivity is consistent with a planar conformation of the salen ligand, which is suggested by circular dichroism spectroscopy. This study suggests that 2-tBu is not a reactive intermediate of Jacobsen’s enantioselective epoxidation catalysis.

  具有多种手性（R，R）-环己烷-1,2-二胺键（2 - t Bu）的锰（IV）赛伦锰配合物的双次氯酸盐加合物已成功制备并通过各种光谱方法表征。2- t Bu与各种有机底物的反应表明，2- t Bu能够进行硫氧化，环氧化，氯化和夺氢反应。然而，2- t Bu对环氧化反应的对映选择性远远低于雅各布森（Jacobsen）催化剂进行催化反应的报道。低对映选择性与salen配体的平面构象一致，这由圆二色性光谱法表明。这项研究表明2- t Bu不是雅各布森对映选择性环氧化催化反应的中间体。
• PROCESS FOR THE PREPARATION OF 17BETA-HYDROXY-DES-A-ANDROST-9,10-EN-5-ONE
  申请人：INDUSTRIALE CHIMICA S.R.L.

  公开号：US20180339956A1

  公开（公告）日：2018-11-29

  The present invention relates to a new process for the synthesis of 17β-hydroxy-des-A-androst-9,10-en-5-one, the compound of the following formula (1), which can be used as an intermediate in the synthesis of retroprogesterones.

  本发明涉及一种合成17β-羟基-去氢-A-雄烯-9,10-烯-5-酮的新工艺，该化合物的化学式为(1)，可用作合成反孕激素的中间体。
• [EN] PROCESS FOR THE PREPARATION OF 17BETA-HYDROXY-DES-A-ANDROST-9,10-EN-5-ONE<br/>[FR] PROCÉDÉ DE PRÉPARATION DE 17 BÊTA-HYDROXY-DES-A-ANDROST-9,10-EN-5-ONE
  申请人：IND CHIMICA SRL

  公开号：WO2017072719A1

  公开（公告）日：2017-05-04

  The present invention relates to a new process for the synthesis of 17β-hydroxy- des-A-androst-9,10-en-5-one, the compound of the following formula (1), which can be used as an intermediate in the synthesis of retroprogesterones.

  本发明涉及一种新的合成17β-羟基-去氢A-雄烯-9,10-烯-5-酮的方法，该化合物的化学式为（1），可以用作合成反孕激素的中间体。
• How Do the Axial and Equatorial Ligands Modulate the Reactivity of a Metal-Bound Terminal Oxidant? An Answer from the Hypochlorite Adduct of Iron(III) Porphyrin
  作者：Sawako Yokota、Yuna Suzuki、Sachiko Yanagisawa、Takashi Ogura、Shunsuke Nozawa、Masahiko Hada、Hiroshi Fujii

  DOI：10.1021/acscatal.2c01840

  日期：2022.9.2

  bis-hypochlorite adducts of iron(III) porphyrin complexes having various electron-withdrawing substituents. The spectroscopic (ultraviolet–visible absorption, nuclear magnetic resonance, electron paramagnetic resonance, and extended X-ray absorption fine structure) studies and density functional theory calculations indicate that as the electron-donor effect of the porphyrin and axial ligands becomes stronger

  众所周知，过渡金属配合物的末端氧化剂加合物不仅是高价含氧物质的前体，而且是可以催化各种氧化反应的活性化合物。虽然有各种关于过氧化物、过酸和碘代芳烃的末端氧化剂加合物的报道，但关于金属配合物的次氯酸盐加合物的报道却很有限。我们成功地制备和表征了具有各种吸电子取代基的铁 (III) 卟啉配合物的双次氯酸盐加合物。光谱（紫外-可见吸收、核磁共振、电子顺磁共振、和扩展的 X 射线吸收精细结构）研究和密度泛函理论计算表明，随着卟啉和轴向配体的电子供体效应变得更强，铁结合次氯酸盐的 Fe-OCl 和 O-Cl 键变得更弱，因此次氯酸盐络合物变得更不稳定。此外，次氯酸盐配合物的环氧化、氯化、磺化氧化和夺氢反应的动力学分析表明，随着 Fe-OCl 和 O-Cl 键变弱，铁结合的次氯酸盐变得更具反应性。这些结果使我们能够回答轴向和赤道配体如何控制铁结合次氯酸盐的反应性的问题。关键是电子从完全填充的 OCl π*-轨道迁移到空的
• Composition for cleaning microelectronic substrates containing halogen oxygen acids and derivatives thereof
  申请人：MALLINCKRODT BAKER, Inc.

  公开号：EP1840659A2

  公开（公告）日：2007-10-03

  Microelectronic cleaning compositions for cleaning microelectronic substrates, and particularly cleaning compositions useful with and having improved compatibility with microelectronic substrates characterized by silicon dioxide, sensitive low-κ or high-κ dielectrics and copper, tungsten, tantalum, nickel, gold, cobalt, palladium, platinum, chromium, ruthenium, rhodium, iridium, hafnium, titanium, molybdenum, tin and other metallization, as well as substrates of Al or Al(Cu) metallizations and advanced interconnect technologies, are provided by microelectronic cleaning compositions comprising halogen acids, salts and derivatives thereof.

  用于清洁微电子基底的微电子清洁组合物，特别是可与二氧化硅、敏感的低κ或高κ电介质以及铜、钨、钽、镍、金、钴、钯、铂、铬、钌、铑、铱、铪、钛、钼、锡和其他金属化的微电子基底一起使用并具有更好兼容性的清洁组合物、由卤酸、卤酸盐及其衍生物组成的微电子清洁组合物可为具有二氧化硅、敏感的低κ或高κ电介质和铜、钨、钽、镍、金、钴、钯、铂、铬、钌、铑、铱、铪、钛、钼、锡和其他金属化特征的有用基板以及铝或铝（铜）金属化基板和先进的互连技术提供清洁。