tridecanedinitrile | 6006-37-7

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氮化合物
• 英文名称: tridecanedinitrile
• 英文别名: Tridecandinitril
• CAS: 6006-37-7
• 化学式: C₁₃H₂₂N₂
• 分子量: 206.331
• InChiKey: RMWAOHBYAMMDGT-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  213 °C(Press: 16 Torr)
• 密度：
  0.897±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.4
• 重原子数：
  15
• 可旋转键数：
  10
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.85
• 拓扑面积：
  47.6
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  tridecanedinitrile 在 甲醇 、 sodium 作用下， 生成 十三烷-1,13-二胺
  参考文献：
  名称：

  Zaimis, British Journal of Pharmacology and Chemotherapy, 1950, vol. 5, p. 424,426

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  1,9-二溴壬烷 在 乙醚 、 乙醇 、 氢溴酸 、 magnesium 作用下， 生成 tridecanedinitrile
  参考文献：
  名称：

  Tibolone Exerts Its Protective Effect on Trabecular Bone Loss Through the Estrogen Receptor

  摘要：

  替泊龙（Org OD14）根据组织类型具有雌激素样、孕激素样和/或雄激素样的活性。在绝经后女性中，替泊龙可以防止骨质流失，而不会刺激子宫内膜。替泊龙通过减少骨代谢，即骨吸收，像雌激素一样有效地预防年轻和年老卵巢切除（OVX）大鼠的周围和轴骨的骨小梁流失。我们评估了各种激素活性对替泊龙维持骨骼的贡献。三个月大的OVX大鼠接受替泊龙（每只125微克或500微克，双次每日），单独或与抗雌激素、抗雄激素或抗孕激素联合用药，评估其对骨小梁骨质量和骨代谢的影响。假手术和对照OVX组接受车辆处理。其余OVX组每天口服替泊龙，单独或与（a）抗雌激素ICI 164.384，（b）抗雄激素氟他胺，或（c）抗孕激素Org 31710联合用药。为了比较，17β-雌二醇和睾酮的效果也进行了研究。经过4周的处理后，测定了远端股骨的骨小梁矿物质密度（BMD）、血浆骨钙素和尿液去氧吡啶酮/肌酐比率（Dpyr/Cr）。替泊龙或17β-雌二醇显著阻止了卵巢切除所致的骨小梁BMD减少，并通过降低Dpyr/Cr比率和骨钙素分别抑制了骨吸收和骨代谢。这两种化合物的效果均被抗雌激素所抵消。这表明雌激素受体在替泊龙影响骨代谢中的主要作用。然而，抗雄激素和抗孕激素并未抵消替泊龙的作用，排除了替泊龙的雄激素样和孕激素样活性对其抗骨小梁流失作用的主要角色。结果表明，替泊龙几乎完全通过激活雌激素受体来影响骨骼。

  DOI：

  10.1359/jbmr.2001.16.9.1651

文献信息

• [EN] PHOSPHINYL AMIDINE COMPOUNDS, METAL COMPLEXES, CATALYST SYSTEMS, AND THEIR USE TO OLIGOMERIZE OR POLYMERIZE OLEFINS<br/>[FR] COMPOSÉS DE PHOSPHINYLAMIDINE, COMPLEXES DE MÉTAL, SYSTÈMES DE CATALYSEUR, ET LEUR UTILISATION POUR OLIGOMÉRISER OU POLYMÉRISER DES OLÉFINES
  申请人：CHEVRON PHILLIPS CHEMICAL CO

  公开号：WO2011082192A1

  公开（公告）日：2011-07-07

  N2-phosphinyl amidine compounds, N2-phosphinyl amidinates, N2-phosphinyl amidine metal salt complexes, N2-phosphinyl amidinate metal salt complexes are described. Methods for making N2-phosphinyl amidine compounds, N2-phosphinyl amidinates, N2-phosphinyl amidine metal salt complexes, and N2-phosphinyl amidinate metal salt complexes are also disclosed. Catalyst systems utilizing the N2-phosphinyl amidine metal salt complexes and N2-phosphinyl amidinate metal salt complexes are also disclosed along with the use of the N2-phosphinyl amidine compounds, N2-phosphinyl amidinates, N2-phosphinyl amidine metal salt complexes, and N2-phosphinyl amidinate metal salt complexes for the oligomerization and/or polymerization of olefins.

  描述了N2-膦胺化合物、N2-膦胺酸盐、N2-膦胺金属盐络合物、N2-膦胺酸盐金属盐络合物。还公开了制备N2-膦胺化合物、N2-膦胺酸盐、N2-膦胺金属盐络合物和N2-膦胺酸盐金属盐络合物的方法。还公开了利用N2-膦胺金属盐络合物和N2-膦胺酸盐金属盐络合物的催化剂系统，以及利用N2-膦胺化合物、N2-膦胺酸盐、N2-膦胺金属盐络合物和N2-膦胺酸盐金属盐络合物进行烯烃的寡聚和/或聚合的用途。
• Ionic Liquids for Separation of Olefin-Paraffin Mixtures
  申请人：Dai Sheng

  公开号：US20110015461A1

  公开（公告）日：2011-01-20

  The invention is directed to an ionic liquid comprising (i) a cationic portion containing a complex of a silver (I) ion and one or more neutral ligands selected from organoamides, organoamines, olefins, and organonitriles, and (ii) an anionic portion having the chemical formula wherein m and n are independently 0 or an integer of 1 or above, and p is 0 or 1, provided that when p is 0, the group —N—SO 2 —(CF 2 ) n CF 3 subtended by p is replaced with an oxide atom connected to the shown sulfur atom. The invention is also directed to a method for separating an olefin from an olefin-paraffin mixture by passing the mixture through a layer of the ionic liquid described above.

  该发明涉及一种离子液体，包括（i）含有银（I）离子的阳离子部分，该离子与来自有机酰胺、有机胺、烯烃和有机腈中选择的一个或多个中性配体形成的络合物，以及（ii）具有化学式的阴离子部分，其中m和n独立地为0或大于1的整数，p为0或1，但当p为0时，由p支撑的基团—N—SO2—(CF2)nCF3将被连接到所示硫原子的氧原子替代。该发明还涉及一种从烯烃烷烃混合物中分离烯烃的方法，通过将混合物经过上述离子液体的一层来实现。
• CHEMICAL MECHANICAL POLISHING AND WAFER CLEANING COMPOSITION COMPRISING AMIDOXIME COMPOUNDS AND ASSOCIATED METHOD FOR USE
  申请人：Lee Wai Mun

  公开号：US20090130849A1

  公开（公告）日：2009-05-21

  A composition and associated method for chemical mechanical planarization (or other polishing) is described. The composition contains an amidoxime compound and water. The composition may also contain an abrasive and a compound with oxidation and reduction potential. The composition is useful for attaining improved removal rates for metal, including copper, barrier material, and dielectric layer materials in metal CMP. The composition is particularly useful in conjunction with the associated method for metal CMP applications.

  本文描述了一种化学机械平整化（或其他抛光）的组合物及其相关方法。该组合物含有一种酰胺肟化合物和水。该组合物还可以含有磨料和具有氧化还原潜力的化合物。该组合物可用于在金属CMP中获得改进的金属去除速率，包括铜、屏障材料和金属CMP中的介电层材料。该组合物在金属CMP应用的相关方法中特别有用。
• METHODS OF CLEANING SEMICONDUCTOR DEVICES AT THE BACK END OF LINE USING AMIDOXIME COMOSITIONS
  申请人：Lee Wai Mun

  公开号：US20100043823A1

  公开（公告）日：2010-02-25

  The present invention relates to aqueous compositions comprising amidoxime compounds and methods for cleaning plasma etch residue from semiconductor substrates including such dilute aqueous solutions. The compositions of the invention may optionally contain one or more other acid compounds, one or more basic compounds, and a fluoride-containing compound and additional components such as organic solvents, chelating agents, amines, and surfactants. The invention also relates to a method of removing residue from a substrate during integrated circuit fabrication.

  本发明涉及含有酰胺肟化合物的水性组合物及其清洗半导体衬底上等离子体刻蚀残留物的方法，包括这种稀释的水性溶液。本发明的组合物可以选择性地含有一种或多种其他酸性化合物、一种或多种碱性化合物、含氟化合物和其他成分，如有机溶剂、螯合剂、胺和表面活性剂。本发明还涉及一种在集成电路制造过程中从衬底上去除残留物的方法。
• COMPOSITION COMPRISING CHELATING AGENTS CONTAINING AMIDOXIME COMPOUNDS
  申请人：Lee Wai Mun

  公开号：US20100105595A1

  公开（公告）日：2010-04-29

  The present invention is a novel aqueous cleaning solution for use in semiconductor front end of the line (FEOL) manufacturing process wherein the cleaning solution comprises at least one amidoxime compound.

  本发明是一种用于半导体前端制造过程中的新型水性清洗溶液，其中清洗溶液包含至少一种酰胺肟化合物。