2-[[19-(2-Hydroxyethoxy)-2-(4-phenylphenyl)-13-oxapentacyclo[12.8.0.03,12.04,9.017,22]docosa-1(14),3(12),4(9),5,7,10,15,17(22),18,20-decaen-7-yl]oxy]ethanol

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 苯并吡喃
• 英文名称: 2-[[19-(2-Hydroxyethoxy)-2-(4-phenylphenyl)-13-oxapentacyclo[12.8.0.03,12.04,9.017,22]docosa-1(14),3(12),4(9),5,7,10,15,17(22),18,20-decaen-7-yl]oxy]ethanol
• 英文别名: 2-[[19-(2-hydroxyethoxy)-2-(4-phenylphenyl)-13-oxapentacyclo[12.8.0.03,12.04,9.017,22]docosa-1(14),3(12),4(9),5,7,10,15,17(22),18,20-decaen-7-yl]oxy]ethanol
• 化学式: C₃₇H₃₀O₅
• 分子量: 554.642
• InChiKey: PWIYVUDBWSRYGQ-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  7.69
• 重原子数：
  42.0
• 可旋转键数：
  8.0
• 环数：
  7.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.14
• 拓扑面积：
  68.15
• 氢给体数：
  2.0
• 氢受体数：
  5.0

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  2,6-萘二酚 在 硫酸 、 potassium carbonate 作用下， 以 N,N-二甲基甲酰胺 为溶剂， 反应 22.0h， 生成 2-[[19-(2-Hydroxyethoxy)-2-(4-phenylphenyl)-13-oxapentacyclo[12.8.0.03,12.04,9.017,22]docosa-1(14),3(12),4(9),5,7,10,15,17(22),18,20-decaen-7-yl]oxy]ethanol
  参考文献：
  名称：

  COMPOUND, RESIN, COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMATION METHOD AND CIRCUIT PATTERN FORMATION METHOD

  摘要：

  本发明提供一种具有以下式（0）所代表的特定结构的化合物，具有从该化合物衍生的组分单元的树脂，含有该化合物和/或树脂的各种组合物，以及使用这些组合物的各种方法。

  公开号：

  US20210070685A1

文献信息

• RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, POLYPHENOLIC COMPOUND FOR USE IN THE COMPOSITION, AND ALCOHOLIC COMPOUND THAT CAN BE DERIVED THEREFROM
  申请人：Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.

  公开号：US20160145231A1

  公开（公告）日：2016-05-26

  A resist composition containing a compound represented by the general formula (1) or (2), a method for forming a resist pattern using the composition, a polyphenolic compound for use in the composition, and an alcoholic compound that can be derived therefrom are described.

  描述了一种包含由通式（1）或（2）表示的化合物的光刻胶组合物，使用该组合物形成光刻胶图案的方法，用于该组合物的多酚化合物，以及可以由其衍生的醇化合物。
• COMPOUND, RESIN, COMPOSITION AND PATTERN FORMATION METHOD
  申请人：Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.

  公开号：US20210070727A1

  公开（公告）日：2021-03-11

  The present invention provides a compound represented by following formula (0):

  本发明提供了以下式（0）表示的化合物。
• RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, POLYPHENOLIC COMPOUND FOR IN THE COMPOSITION, AND ALCOHOLIC COMPOUND THAT CAN BE DERIVED THEREFROM
  申请人：Echigo Masatoshi

  公开号：US20140248561A1

  公开（公告）日：2014-09-04

  A resist composition containing a compound represented by the general formula (1) or (2), a method for forming a resist pattern using the composition, a polyphenolic compound for use in the composition, and an alcoholic compound that can be derived therefrom are described.
• US9540339B2
  申请人：——

  公开号：US9540339B2

  公开（公告）日：2017-01-10
• US9598392B2
  申请人：——

  公开号：US9598392B2

  公开（公告）日：2017-03-21