bis-heptafluorobutyryl-amine | 336-58-3

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机卤素化合物 - 卤代烷
• 英文名称: bis-heptafluorobutyryl-amine
• 英文别名: Bis-heptafluorbutyryl-amin；2,2,3,3,4,4,4-heptafluoro-N-(2,2,3,3,4,4,4-heptafluorobutanoyl)butanamide
• CAS: 336-58-3
• 化学式: C₈HF₁₄NO₂
• 分子量: 409.079
• InChiKey: XILCYRONWVIFHA-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 熔点：
  82-83 °C(Solv: benzene (71-43-2))
• 沸点：
  168.4±40.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.703±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.2
• 重原子数：
  25
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.75
• 拓扑面积：
  46.2
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  16

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  bis-heptafluorobutyryl-amine 在 lithium aluminium tetrahydride 、 乙醚 作用下， 生成 N,N-bis-(1H,1H-heptafluoro-butyl)-acetamide
  参考文献：
  名称：

  Nu, nu-bis(1, 1-dihydroperfluoroalkyl) acylamides and polymers thereof

  摘要：

  公开号：

  US02782184A1
• 作为产物：
  描述：

  全氟丁胺 、 七氟丁酸酐 生成 bis-heptafluorobutyryl-amine
  参考文献：
  名称：

  US2701814

  摘要：

  公开号：

文献信息

• PATTERN FORMING METHOD, ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM, MANUFACTURING METHOD OF ELECTRONIC DEVICE, ELECTRONIC DEVICE AND COMPOUND
  申请人：FUJIFILM CORPORATION

  公开号：US20160070167A1

  公开（公告）日：2016-03-10

  There is provided a pattern forming method comprising (i) a step of forming a film containing an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition containing (A) a compound represented by the specific formula, (B) a compound different from the compound (A) and capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation, and (P) a resin that does not react with the acid generated from the compound (A) and is capable of decreasing the solubility for an organic solvent-containing developer by the action of the acid generated from the compound (B), (ii) a step of exposing the film, and (iii) a step of developing the exposed film by using an organic solvent-containing developer to form a negative pattern; the actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition above; a resist film using the composition.

  提供了一种图案形成方法，包括（i）形成一种薄膜，其中包含一种感光树脂组成物，该组成物包含（A）一种特定化学式代表的化合物，（B）一种不同于化合物（A）的化合物，在接受光辐射后能够产生酸，并且（P）一种树脂，该树脂不会与从化合物（A）产生的酸发生反应，并且能够通过来自化合物（B）产生的酸的作用降低有机溶剂含有的显影剂的溶解度，（ii）曝光薄膜，（iii）使用有机溶剂含有的显影剂对曝光后的薄膜进行显影，形成负图案；上述感光树脂组成物；使用该组成物的抗蚀膜。
• Solvolyis reactions of perfluoro-5-aza-4-nonene, C3F7CFNC4F9
  作者：A.R Siedle、Robert J Webb、R.A Newmark、Myles Brostrom、David A Weil、Kristin Erickson、Fred.E Behr、Victor G Young

  DOI：10.1016/s0022-1139(03)00084-8

  日期：2003.8

  Hydrolysis of the imine perfluoro-5-aza-4-nonene, C3F7-CF=N-C4F9, in ether was studied by several spectroscopic techniques including O-17 NMR. The initial product is C3F7-CO-NH-C4F9 which is converted to (C3F7CO)(2)NH and then to C3F7CONH2 and C3F7CO2H. Solvolysis in liquid ammonia afforded the amidine C3F7-C(=NH)NH2. Reaction with hydrazine produced 3,5-bis(heptafluoropropyl)-1,2,4-triazole whose crystal structure is reported. (C) 2003 Elsevier Science B.V. All rights reserved.
• US9523912B2
  申请人：——

  公开号：US9523912B2

  公开（公告）日：2016-12-20