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trichlorosilylmethylamine | 35505-18-1

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
trichlorosilylmethylamine
英文别名
Cl3SiNHMe;TSMA;methyltrichlorosilylamine;1,1,1-Trichloro-N-methylsilanamine;N-trichlorosilylmethanamine
trichlorosilylmethylamine化学式
CAS
35505-18-1
化学式
CH4Cl3NSi
mdl
——
分子量
164.494
InChiKey
NCMVPNWADQCPNO-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    1.36
  • 重原子数:
    6
  • 可旋转键数:
    0
  • 环数:
    0.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    1.0
  • 拓扑面积:
    12
  • 氢给体数:
    1
  • 氢受体数:
    1

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    参考文献:
    名称:
    Towards continuous processes for the synthesis of precursors of amorphous Si/B/N/C ceramics
    摘要:
    本报告介绍了一种连续合成 Cl3SiNMeBCl2 (DMTA) 的工艺,它是一种高耐久性 Si/B/N/C 陶瓷的单一来源前体。该工艺基于从四氯化硅和甲胺开始的一系列气相反应。最初形成的 Cl3SiNHMe(TSMA)随后与 BCl3 反应,生成无色、对空气高度敏感的液体 DMTA。胺盐酸盐副产物通过陶瓷过滤器过滤去除。DMTA 结晶为单斜晶系,空间群为 P21/m,a=709.96(13)pm,b=685.61(12)pm,c=897.28(16)pm,Z=2。DMTA 在 -78 °C 的正己烷中通过氨解发生聚合反应,生成聚硼硅氮烷 SiBN2.4C2.5H8.8,热解后生成无定形的 SiBN2.3C1.7 陶瓷,产率为 56%。后者在氩气环境中可通过结晶抗热降解,温度至少可达 1700 °C。
    DOI:
    10.1039/b716144a
  • 作为产物:
    描述:
    甲胺四氯化硅 作用下, 反应 0.01h, 生成 trichlorosilylmethylamine
    参考文献:
    名称:
    Towards continuous processes for the synthesis of precursors of amorphous Si/B/N/C ceramics
    摘要:
    本报告介绍了一种连续合成 Cl3SiNMeBCl2 (DMTA) 的工艺,它是一种高耐久性 Si/B/N/C 陶瓷的单一来源前体。该工艺基于从四氯化硅和甲胺开始的一系列气相反应。最初形成的 Cl3SiNHMe(TSMA)随后与 BCl3 反应,生成无色、对空气高度敏感的液体 DMTA。胺盐酸盐副产物通过陶瓷过滤器过滤去除。DMTA 结晶为单斜晶系,空间群为 P21/m,a=709.96(13)pm,b=685.61(12)pm,c=897.28(16)pm,Z=2。DMTA 在 -78 °C 的正己烷中通过氨解发生聚合反应,生成聚硼硅氮烷 SiBN2.4C2.5H8.8,热解后生成无定形的 SiBN2.3C1.7 陶瓷,产率为 56%。后者在氩气环境中可通过结晶抗热降解,温度至少可达 1700 °C。
    DOI:
    10.1039/b716144a
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文献信息

  • Silicon-boron-carbon-nitrogen ceramics and precursor compounds, methods for the production and use thereof
    申请人:——
    公开号:US20040019230A1
    公开(公告)日:2004-01-29
    The present invention relates to novel processes for preparing borylsilylamines, novel amines, novel borosilazane compounds, novel oligoborosilazane or polyborosilazane compounds which have the structural feature Si—N—B, ceramic material and methods of producing and using them.
    本发明涉及一种制备硼硅胺的新工艺、新胺、新硼硅氮化合物、具有Si-N-B结构特征的新型寡硼硅氮化合物或聚硼硅氮化合物、陶瓷材料及其生产和使用方法。
  • Chlorosilylamines
    作者:J. E. Drake、N. P. C. Westwood
    DOI:10.1039/j19710003617
    日期:——
    Various chlorosilylamines are formed by the hydrogen chloride elimination between an amine and chlorinated silanes. The chlorosilylamines are characterised by mass, i.r., and 1H n.m.r. spectroscopy.
    各种氯甲硅烷基胺是通过胺与氯化硅烷之间的氯化氢消除而形成的。氯甲硅烷基胺的特征在于质谱,红外光谱和1 H nmr光谱。
  • Towards continuous processes for the synthesis of precursors of amorphous Si/B/N/C ceramics
    作者:Markus Weinmann、Matthias Kroschel、Thomas Jäschke、Jürgen Nuss、Martin Jansen、Grigorios Kolios、Aristides Morillo、Carlos Tellaeche、Ulrich Nieken
    DOI:10.1039/b716144a
    日期:——
    The development of a process for the continuous synthesis of Cl3SiNMeBCl2 (DMTA) as a single-source precursor of highly durable Si/B/N/C ceramics is reported. The process is based on a series of gas phase reactions starting from silicon tetrachloride and methylamine. Cl3SiNHMe (TSMA), which is initially formed, is subsequently reacted with BCl3 to yield DMTA as a colorless, highly air-sensitive liquid. Amine hydrochloride byproducts are removed by filtration through ceramic filters. DMTA crystallizes in the monoclinic system, space groupP21/m, with a = 709.96(13) pm, b = 685.61(12) pm, c = 897.28(16) pm, and Z = 2. Polymerization of DMTA by aminolysis in n-hexane at −78 °C releases a polyborosilazane, SiBN2.4C2.5H8.8, which upon thermolysis releases amorphous SiBN2.3C1.7 ceramic in 56% yield. The latter resists thermal degradation by crystallization in Ar atmosphere up to at least 1700 °C.
    本报告介绍了一种连续合成 Cl3SiNMeBCl2 (DMTA) 的工艺,它是一种高耐久性 Si/B/N/C 陶瓷的单一来源前体。该工艺基于从四氯化硅和甲胺开始的一系列气相反应。最初形成的 Cl3SiNHMe(TSMA)随后与 BCl3 反应,生成无色、对空气高度敏感的液体 DMTA。胺盐酸盐副产物通过陶瓷过滤器过滤去除。DMTA 结晶为单斜晶系,空间群为 P21/m,a=709.96(13)pm,b=685.61(12)pm,c=897.28(16)pm,Z=2。DMTA 在 -78 °C 的正己烷中通过氨解发生聚合反应,生成聚硼硅氮烷 SiBN2.4C2.5H8.8,热解后生成无定形的 SiBN2.3C1.7 陶瓷,产率为 56%。后者在氩气环境中可通过结晶抗热降解,温度至少可达 1700 °C。
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