hydrogensulfonyl radical | 61508-72-3

• 分子结构分类: 无机化合物 - 均质非金属化合物 - 其他非金属有机物
• 英文名称: hydrogensulfonyl radical
• CAS: 61508-72-3
• 化学式: HO₂S
• 分子量: 65.0727
• InChiKey: IMEGLOMEFOZAIU-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -0.94
• 重原子数：
  3.0
• 可旋转键数：
  0.0
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  34.14
• 氢给体数：
  1.0
• 氢受体数：
  2.0

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  hydrogensulfonyl radical 、 氧气 以 gaseous matrix 为溶剂， 生成 二氧化硫 、 hydroperoxyl radical
  参考文献：
  名称：

  巯基和巯基氧基与臭氧反应的动力学

  摘要：

  DOI：

  10.1021/j100388a009
• 作为产物：
  描述：

  硫代过氧自由基 、 臭氧 以 gaseous matrix 为溶剂， 以>99.7的产率得到hydrogensulfonyl radical
  参考文献：
  名称：

  巯基和巯基氧基与臭氧反应的动力学

  摘要：

  DOI：

  10.1021/j100388a009

文献信息

• Kinetics of Sulfur Oxide, Sulfur Fluoride, and Sulfur Oxyfluoride Anions with Atomic Species at 298 and 500 K
  作者：Anthony J. Midey、A. A. Viggiano

  DOI：10.1021/jp066198c

  日期：2007.3.1

  The rate constants and product-ion branching ratios for the reactions of sulfur dioxide (SO2-), sulfur fluoride (SFn-), and sulfur oxyfluoride anions (SOxFy-) with H, H2, N, N2, NO, and O have been measured in a selected-ion flow tube (SIFT). H atoms were generated through a microwave discharge on a H2/He mixture, whereas O atoms were created via N atoms titrated with NO, where the N had been created

  二氧化硫（SO2-），氟化硫（SFn-）和氟氧化硫阴离子（SOxFy-）与H，H2，N，N2，NO和O反应的速率常数和产物离子支化比为在选定离子流量管（SIFT）中测量。H原子是通过在H2 / He混合物上进行微波放电而生成的，而O原子是通过用NO滴定的N原子生成的，其中N是通过N2上的微波放电生成的。没有离子与H2，N2或NO反应；因此，速率常数为<1 x 10（-12）cm3 s-1。SOxFy离子仅在298和500 K时通过氟原子的提取与H反应形成HF。在任何一个温度下都不会连续去除F原子，并且速率常数在此有限范围内没有温度依赖性。SO2-和F-与H缔合缔合，形成中性分子和电子。对HSO2-异构体的结构和能量进行了理论计算，结果表明离子型和中性HSO2物种之间的结构差异至少可以解释SO2- + H反应中反应性的局限性。所有的SOxFy离子都与O反应；但是，只有SO2-与N和O反应。与