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2-Heptyl-6-methoxy-4,4-diphenyl-1,3-benzodioxine | 936716-87-9

中文名称
——
中文别名
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英文名称
2-Heptyl-6-methoxy-4,4-diphenyl-1,3-benzodioxine
英文别名
2-heptyl-6-methoxy-4,4-diphenyl-1,3-benzodioxine
2-Heptyl-6-methoxy-4,4-diphenyl-1,3-benzodioxine化学式
CAS
936716-87-9
化学式
C28H32O3
mdl
——
分子量
416.56
InChiKey
MWTVZIVBIRAWHS-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    8
  • 重原子数:
    31
  • 可旋转键数:
    9
  • 环数:
    4.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.36
  • 拓扑面积:
    27.7
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    3

上下游信息

  • 上游原料
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    2-Heptyl-6-methoxy-4,4-diphenyl-1,3-benzodioxine盐酸氨基脲sodium acetate 作用下, 以 乙腈 为溶剂, 反应 24.83h, 以85%的产率得到octanal semicarbazone
    参考文献:
    名称:
    羰基化合物的新型光不稳定保护基。
    摘要:
    [反应:见正文]描述了一种用于羰基化合物的新型光保护基。保护基团很容易在一个步骤中从市售材料中获得。以优异的产率实现了将保护基安装在羰基化合物上。受保护形式的羰基化合物在各种条件下都非常稳定,并且可以高效地光化学释放。
    DOI:
    10.1021/ol070346f
  • 作为产物:
    描述:
    5-甲氧基水杨酸对甲苯磺酸magnesium 作用下, 以 乙醚 为溶剂, 反应 25.0h, 生成 2-Heptyl-6-methoxy-4,4-diphenyl-1,3-benzodioxine
    参考文献:
    名称:
    羰基化合物的新型光不稳定保护基。
    摘要:
    [反应:见正文]描述了一种用于羰基化合物的新型光保护基。保护基团很容易在一个步骤中从市售材料中获得。以优异的产率实现了将保护基安装在羰基化合物上。受保护形式的羰基化合物在各种条件下都非常稳定,并且可以高效地光化学释放。
    DOI:
    10.1021/ol070346f
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文献信息

  • Oxidation with a Photolabile Carbonyl Protecting Group
    作者:Haishen Yang、Feng Mu、Pengfei Wang
    DOI:10.1021/jo201671v
    日期:2011.11.4
    Secondary alcohols are oxidized to the corresponding ketones. Moreover, the photolabile protecting group (PPG) also oxidizes ethers and esters. The oxidation is presumably via hydride abstraction by the tritylium ion generated from 1 under acidic conditions. However, the mechanisms for primary alcohols and secondary alcohols are slightly different.
    已经开发出一种新的氧化方法,该方法利用了坚固的光不稳定的羰基保护基试剂(1)作为氧化剂。与现有方法不同,该方法将伯醇氧化为光敏乙缩醛(例如3),为受保护的醛提供了另一种独特的方法。因此,第一次在一个反应​​中实现了氧化和保护。仲醇被氧化成相应的酮。此外,光不稳定的保护基团(PPG)还会氧化醚和酯。氧化大概是通过在酸性条件下从1生成的三苯甲基离子通过氢化物提取来实现的。但是,伯醇和仲醇的机理略有不同。
  • Novel Photolabile Protecting Group for Carbonyl Compounds
    作者:Pengfei Wang、Huayou Hu、Yun Wang
    DOI:10.1021/ol070346f
    日期:2007.4.1
    [reaction: see text] A novel type of photo-protecting group for carbonyl compounds is described. The protecting group is readily accessed in one step from commercially available material. Installation of the protecting group upon the carbonyl compounds is achieved in excellent yields. The carbonyl compounds in their protected form are remarkably stable under various conditions and can be released photochemically
    [反应:见正文]描述了一种用于羰基化合物的新型光保护基。保护基团很容易在一个步骤中从市售材料中获得。以优异的产率实现了将保护基安装在羰基化合物上。受保护形式的羰基化合物在各种条件下都非常稳定,并且可以高效地光化学释放。
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