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二氟氨基自由基 | 3744-07-8

中文名称
二氟氨基自由基
中文别名
——
英文名称
difluoroamino radical
英文别名
nitrogen difluoride
二氟氨基自由基化学式
CAS
3744-07-8
化学式
F2N
mdl
——
分子量
52.0035
InChiKey
BBZREMAMWBDNHH-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    0.9
  • 重原子数:
    3
  • 可旋转键数:
    0
  • 环数:
    0.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.0
  • 拓扑面积:
    1
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    2

SDS

SDS:223703131727d6886f8ab9dda311e038
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反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    二氟氨基自由基 以 gaseous matrix 为溶剂, 生成 四氟代肼
    参考文献:
    名称:
    Bedzhanyan, Yu. R., Kinetics and Catalysis, 1993, vol. 34/5, p. 708 - 711
    摘要:
    DOI:
  • 作为产物:
    参考文献:
    名称:
    所述N个2 ˚F 4 ⇌2NF 2平衡用的可调谐红外二极管激光器的研究
    摘要:
    用于N焓变2 ˚F 4 ⇌2NF 2平衡已在50和200之间的温度下被确定℃,并使用红外二极管激光器测量相对NF 5和26托之间的压力2浓度; 使用线路中的ν 1 NF的带2,以确定强度并且允许在压力有限离解度所使用的,对于78±ΔH摩尔6kJ的值-1计算,在与先前的判定一致。
    DOI:
    10.1039/c39820000690
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文献信息

  • Microwave plasma torch operating in a chamber at a low pressure
    作者:Han S. Uhm、Soon C. Cho、Yong C. Hong
    DOI:10.1063/1.2965459
    日期:2008.8.4
    A microwave plasma torch was operated in a chamber at a reduced pressure, and the properties of the torch plasma were investigated. The argon torch plasma at a reduced pressure of 150Torr was observed to be well diffused in the discharge tube instead of the filamentary structures at the atmospheric pressure. The typical torch plasma density and electron temperature are measured to be ne=2×1014∕cm3
    微波等离子体炬在减压室中运行,并研究了炬等离子体的性质。观察到在 150Torr 减压下的氩炬等离子体在放电管中很好地扩散,而不是在大气压下的丝状结构。对于 150Torr 的氩等离子体,测量典型的炬等离子体密度和电子温度分别为 ne=2×1014∕cm3 和 Te=1.5eV。还发现低压下的微波等离子体炬可以有效地产生化学自由基。
  • NF3 decomposition behind shock waves in the intermediate pressure range
    作者:N.N. Kudriavtsev、A.M. Sukhov、D.P. Shamshev
    DOI:10.1016/0009-2614(92)80103-i
    日期:1992.12
    Rates of NF3 thermal decomposition in the temperature range 1450–2050 K and pressure range 1.2–4.2 atm were measured by a shock tube technique. NF3 decomposition was monitored by UV absorption of the produced NF2 radicals. The bimolecular rate constant of the NF3 decomposition reaction essentially depends upon pressure. An empirical formula was obtained from the experimental data which correctly expresses
    采用激波管技术测量了1450-2050 K温度范围和1.2-4.2 atm压力范围内NF 3的热分解速率。通过UV吸收产生的NF 2自由基来监测NF 3分解。NF 3分解反应的双分子速率常数基本上取决于压力。从实验数据中获得了一个经验公式,该公式正确地表示了测得的分解速率常数对冲击波后反应混合物的温度和压力的依赖性。
  • Reactions forming electronically-excited free radicals. Part 2.—Formation of N<sup>4</sup>S, N<sup>2</sup>D and N<sup>2</sup>P atoms in the H + NF<sub>2</sub>reaction, and N atom reactions
    作者:Chew Toong Cheah、Michael A. A. Clyne
    DOI:10.1039/f29807601543
    日期:——
    The kinetics of reactions (at 298 K) involving ground-state N 4S and excited-state N 2D, 2P atoms have been studied using resonance-fluorescence detection in a discharge-flow system. The N 4S+ NO reaction has been studied as a reference reaction: N 4S+ NO [graphic omitted] N2+ O; k1=(3.4 ± 0.3)× 10–11 cm3 molecule–1 s–1(1σ). Also, the rate constant k2 for the N 4S+ NF2 reaction has been determined:
    在放电流系统中使用共振荧光检测研究了涉及基态N 4 S和激发态N 2 D,2 P原子的反应动力学(在298 K下)。已经研究了N 4 S + NO反应作为参考反应:N 4 S + NO [省略图示] N 2 + O; k 1 =(3.4±0.3)×10 –11 cm 3分子–1 s –1(1σ)。另外,N 4 S + NF的速率常数k 2已确定2反应:N 4 S + NF 2 [图中省略] 2 NF; k 2 =(4.6±0.3)×10 –12 cm 3分子–1 s –1( 1σ)。将反应ħ 2小号+ NF 2给出了NF的基团一个1个Δ状态与分支比0.9:H 2小号+ NF 2 →NF一个1 Δ+ HF X 1 Σ +。该结论是根据对N 4浓度分布的研究得出的。小号和N 2个d的状态下-选择性的反应原子(4一),(4 b):H 2小号+ NF一个1 Δ→Ñ 2 d + HF X 1 Σ +(4一),H
  • Reactions forming electronically-excited free radicals. Part 1.—Ground-state reactions involving NF<sub>2</sub>and NF radicals
    作者:Chew Toong Cheah、Michael A. A. Clyne、Philip D. Whitefield
    DOI:10.1039/f29807600711
    日期:——
    and secondary processes in the overall reaction of H 2S atoms with NF2 radicals from 298 to 550 K. Rate constants for the following elementary reactions have been determined directly [k298/cm3 molecule–1 s–1(1 σ)]: H + NF2 [graphic omitted] HF + NF; k1=(1.5 ± 0.2)× 10–11; O + NF2 [graphic omitted] NF + FO; k5=(1.8 ± 0.9)× 10–12; N + NF2 [graphic omitted] NF + NF; k8=(3.0 ± 1.2)× 10–12.
    远真空紫外线中的原子共振吸收和原子共振荧光已被用于研究H 2 S原子与298 2至550 K的NF 2自由基整体反应中一级和二级过程的动力学。以下基本反应的速率常数已直接确定[ k 298 / cm 3分子– 1 s – 1(1σ)]:H + NF 2 [未显示图形] HF + NF;k 1 =(1.5±0.2)×10 –11 ; O + NF 2 [省略图示] NF + FO;k 5 =(1.8±0.9)×10–12 ; N + NF 2 [省略图示] NF + NF;k 8 =(3.0±1.2)×10 –12。
  • Gmelin Handbuch der Anorganischen Chemie, Gmelin Handbook: C: MVol.C2, 1.9.4, page 146 - 147
    作者:
    DOI:——
    日期:——
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