2-(4-Ethenylphenyl)ethyl 3,3,3-trifluoro-2-hydroxy-2-(trifluoromethyl)propanoate

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 2-(4-Ethenylphenyl)ethyl 3,3,3-trifluoro-2-hydroxy-2-(trifluoromethyl)propanoate
• 英文别名: 2-(4-ethenylphenyl)ethyl 3,3,3-trifluoro-2-hydroxy-2-(trifluoromethyl)propanoate
• 化学式: C₁₄H₁₂F₆O₃
• 分子量: 342.23
• InChiKey: UJUSATRRVFYMDO-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.3
• 重原子数：
  23
• 可旋转键数：
  6
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.36
• 拓扑面积：
  46.5
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  9

文献信息

• NEGATIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERNING PROCESS
  申请人：SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.

  公开号：US20140212810A1

  公开（公告）日：2014-07-31

  A polymer comprising recurring units (a) of styrene having an HFA group and an ester group adjacent thereto and recurring units (b) having a hydroxyl group is used as base resin to formulate a negative resist composition. The negative resist composition has a high dissolution contrast in alkaline developer, high sensitivity, high resolution, good pattern profile after exposure, and a suppressed acid diffusion rate.
• US9023587B2
  申请人：——

  公开号：US9023587B2

  公开（公告）日：2015-05-05
• US9760010B2
  申请人：——

  公开号：US9760010B2

  公开（公告）日：2017-09-12
• US9846360B2
  申请人：——

  公开号：US9846360B2

  公开（公告）日：2017-12-19