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1,3-dioxoisoindolin-2-yl 4-(trifluoromethyl)benzenesulfonate | 335385-82-5

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
1,3-dioxoisoindolin-2-yl 4-(trifluoromethyl)benzenesulfonate
英文别名
2-{[4-(Trifluoromethyl)benzene-1-sulfonyl]oxy}-1H-isoindole-1,3(2H)-dione;(1,3-dioxoisoindol-2-yl) 4-(trifluoromethyl)benzenesulfonate
1,3-dioxoisoindolin-2-yl 4-(trifluoromethyl)benzenesulfonate化学式
CAS
335385-82-5
化学式
C15H8F3NO5S
mdl
——
分子量
371.293
InChiKey
JBRLLSJLVKFBJL-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    3
  • 重原子数:
    25
  • 可旋转键数:
    3
  • 环数:
    3.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.07
  • 拓扑面积:
    89.1
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    8

上下游信息

  • 上游原料
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    1,3-dioxoisoindolin-2-yl 4-(trifluoromethyl)benzenesulfonate三甲基硅基苯甲酮 在 [ruthenium(II)(η6-1-methyl-4-isopropyl-benzene)(chloride)(μ-chloride)]2silver(l) oxide双三氟甲烷磺酰亚胺银盐 作用下, 以 二氯甲烷 为溶剂, 反应 18.0h, 以34%的产率得到2-(2-((trimethylsilyl)carbonyl)phenyl)isoindoline-1,3-dione
    参考文献:
    名称:
    钌催化芳酰基硅烷的 C-H 胺化
    摘要:
    酰基硅烷代表合成化学中有价值的合成子。我们报告了钌 ( II ) 催化的芳酰基硅烷的邻-C-H 胺化,以提供合成有用的亚氨基苯甲酰基硅烷和甲苯磺酰基-氨基苯甲酰基硅烷的简便途径。该协议具有广泛的底物范围和出色的官能团耐受性,通过C-H 环金属化作用实现了酰基硅烷的弱螯合辅助。
    DOI:
    10.1039/d1ob00935d
  • 作为产物:
    描述:
    N-羟基邻苯二甲酰亚胺 、 p-(trifluoromethyl)benzenediazonium tetrafluoroborate 在 1,4-diazabicyclo[2.2.2]octane-triethylenediamine-bis(sulfur dioxide) 作用下, 以 1,2-二氯乙烷 为溶剂, 反应 8.0h, 以90%的产率得到1,3-dioxoisoindolin-2-yl 4-(trifluoromethyl)benzenesulfonate
    参考文献:
    名称:
    通过插入二氧化硫和氢原子转移获得O-氨基磺酸盐和磺酰胺的途径
    摘要:
    在无催化剂和无添加剂的条件下,四氟硼酸芳基重氮,1,4-二氮杂双环[2.2.2]辛烷·双(二氧化硫)加合物[DABCO·(SO 2)2 ]与羟胺的三组分反应已实现。开发出高收率的芳基O-氨基磺酸盐。在四氟硼酸芳基重氮鎓,DABCO⋅(SO 2)2与胺在N-羟基苯并三唑存在下的反应,也可以通过一锅法获得磺酰胺。提出了涉及二氧化硫插入和氢原子转移的机理,并得到理论计算的支持。
    DOI:
    10.1002/adsc.201700501
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文献信息

  • Novel carbazole derivative and chemically amplified radiation-sensitive resin composition
    申请人:——
    公开号:US20020172885A1
    公开(公告)日:2002-11-21
    A carbazole derivative of the following formula (1), 1 wherein R 1 and R 2 individually represent a hydrogen atom or a monovalent organic group, or R 1 and R 2 form, together with the carbon atom to which R 1 and R 2 bond, a divalent organic group having a 3-8 member carbocyclic structure or a 3-8 member heterocyclic structure, and R 3 represents a hydrogen atom or a monovalent organic group. The carbazole derivative is suitable as an additive for increasing sensitivity of a chemically amplified resist. A chemically amplified radiation-sensitive resin composition, useful as a chemically amplified resist, comprising the carbazole derivative is also disclosed.
    以下是该段文字的中文翻译: 一种具有以下式(1)的咔唑衍生物,其中R1和R2分别代表氢原子或一价有机基团,或者R1和R2与其结合的碳原子一起形成具有3-8个成员碳环结构或3-8个成员杂环结构的二价有机基团,R3代表氢原子或一价有机基团。该咔唑衍生物适用作为增加化学增感抗蚀性的添加剂。还公开了一种化学增感辐射敏感树脂组合物,该组合物用作化学增感抗蚀剂,包括该咔唑衍生物。
  • Novel anthracene derivative and radiation-sensitive resin composition
    申请人:——
    公开号:US20030194634A1
    公开(公告)日:2003-10-16
    A novel anthracene derivative useful as an additive to a radiation-sensitive resin composition is disclosed. The anthracene derivative has the following formula (1), 1 wherein R 1 groups individually represent a hydroxyl group or a monovalent organic group having 1-20 carbon atoms, n is an integer of 0-9, X is a single bond or a divalent organic group having 1-12 carbon atoms, and R 2 represents a monovalent acid-dissociable group. The radiation-sensitive resin composition comprises the anthracene derivative of the formula (1), a resin insoluble or scarcely soluble in alkali, but becomes alkali soluble in the presence of an acid, and a photoacid generator. The composition is useful as a chemically-amplified resist for microfabrication utilizing deep ultraviolet rays, typified by a KrF excimer laser and ArF excimer laser.
    揭示了一种作为辐射敏感树脂组合物添加剂有用的新型蒽衍生物。该蒽衍生物具有以下化学式(1),其中R1基分别表示一个羟基或具有1-20个碳原子的一价有机基团,n是0-9的整数,X是一个单键或具有1-12个碳原子的二价有机基团,R2表示一价酸可解离基团。辐射敏感树脂组合物包括化学式(1)的蒽衍生物,一种在碱性条件下不溶或几乎不溶但在存在酸时变为碱溶的树脂,以及光酸发生剂。该组合物可用作化学放大光刻胶,用于利用KrF准分子激光和ArF准分子激光等深紫外线进行微加工。
  • Ultrasound Accelerated Expedient and Eco-Friendly Synthesis of Aryl Sulfonates Using I2As Catalyst At Ambient Conditions
    作者:Sha Zhu、Bin-Bin Wang、Mei-Chen Tan、Xiaofu Qian、Shengneng Ying、Yang Liu、Cehua Li、Zheng Jin、Hongmei Jiang、Qing-Wen Gui
    DOI:10.2174/1570178618666210929124259
    日期:2022.4
    :

    Aryl sulfonates were developed by ssing an energy-saving and eco-friendly approach, through ultrasound-assisted coupling reaction of readily sodium sulfinates with N-hydroxyphthalimide, under metal-free and mild conditions within 10 min at room temperature.

    芳基磺酸盐是通过超声波辅助偶联反应的节能环保方法开发的,该方法使用易得的亚磺酸钠与N-羟基邻苯二甲酰亚胺在无金属且温和的条件下,在室温下10分钟内完成反应。
  • Acid generator, sulfonic acid, sulfonic acid derivatives and radiation-sensitive resin composition
    申请人:——
    公开号:US20030113658A1
    公开(公告)日:2003-06-19
    A novel photoacid generator containing a structure of the following formula (I), 1 wherein R is a monovalent organic group with a fluorine content of 50 wt % or less, a nitro group, a cyano group, or a hydrogen atom, and Z 1 and Z 2 are individually a fluorine atom or a linear or branched perfluoroalkyl group having 1-10 carbon atoms, is provided. When used in a chemically amplified radiation-sensitive resin composition, the photoacid generator exhibits high transparency, comparatively high combustibility, and no bioaccumulation, and produces an acid exhibiting high acidity, high boiling point, moderately short diffusion length in the resist coating, and low dependency to mask pattern density.
    提供一种新型光酸发生剂,其含有以下式(I)的结构,其中R是一种具有50重量%或以下氟含量,硝基,氰基或氢原子的一价有机基团,Z1和Z2分别是氟原子或具有1-10个碳原子的线性或支链全氟烷基团。当用于化学增感辐射敏感树脂组成物中时,该光酸发生剂表现出高透明度,相对高的可燃性和无生物积累,并产生具有高酸度,高沸点,适度短的扩散长度在抗蚀涂层中,并且对掩模图案密度的依赖性低的酸。
  • Positive photosensitive composition
    申请人:Kodama Kunihiko
    公开号:US20070003871A1
    公开(公告)日:2007-01-04
    A positive photosensitive composition comprises a compound capable of generating a specified sulfonic acid upon irradiation with one of an actinic ray and radiation and (B) a resin capable of decomposing under the action of an acid to increase the solubility in an alkali developer.
    一种正性光敏组合物包括一种化合物,该化合物能够在接受活性光线或辐射照射后产生一种指定的磺酸,并且(B)一种树脂,该树脂在酸作用下分解以增加在碱性显影剂中的溶解度。
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