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P,P'-亚辛基双酚 | 1233-26-7

中文名称
P,P'-亚辛基双酚
中文别名
——
英文名称
1,1-bis(4-hydroxyphenyl)octane
英文别名
p,p'-octylidenebisphenol;4-[1-(4-hydroxyphenyl)octyl]phenol
P,P'-亚辛基双酚化学式
CAS
1233-26-7
化学式
C20H26O2
mdl
——
分子量
298.425
InChiKey
NBKVULRGDSYCGP-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    6.7
  • 重原子数:
    22
  • 可旋转键数:
    8
  • 环数:
    2.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.4
  • 拓扑面积:
    40.5
  • 氢给体数:
    2
  • 氢受体数:
    2

安全信息

  • 海关编码:
    2907299090

SDS

SDS:3ff5cbd9ebb20b741f092dc39e0c1867
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反应信息

  • 作为产物:
    描述:
    正辛醛苯酚 在 Al(3+)-montmorillonite 作用下, 反应 48.0h, 生成 P,P'-亚辛基双酚4-辛基酚 、 1-(2-hydroxyphenyl)-1-(4-hydroxyphenyl)octane 、 1,1-bis(2-hydroxyphenyl)octane
    参考文献:
    名称:
    Metal cation-exchanged montmorillonite (Mn+-mont)-catalysed aromatic alkylation with aldehydes and ketones
    摘要:
    在各种金属阳离子交换的蒙脱石(Mn+-mont;Mn+ = Zr4+、Al3+、Fe3+、Zn2+、H+、Na+)存在下,研究了芳香化合物与醛和酮的烷基化反应。发现Al3+和Zr4+蒙脱石是有效的催化剂,而Na+蒙脱石则不发生反应。由Al3+蒙脱石催化的苯酚与几种醛的烷基化反应主要或几乎只生成了相应的双(羟苯基)烷烃(双酚),产率良好;而与几种酮的烷基化反应则选择性地生成了相应的烷基苯酚,产率适中至良好。烷基化总是发生在羰基碳上,没有骨架重排,产物的类型很大程度上取决于亲电中间体的碳正离子的空间位阻。茴香醚、邻苯二甲醚和对甲酚的烷基化反应良好进行,而甲苯、苯、氯苯和硝基苯的烷基化反应几乎不发生。
    DOI:
    10.1039/a701744h
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文献信息

  • Optically active compound and photosensitive resin composition
    申请人:——
    公开号:US20030211421A1
    公开(公告)日:2003-11-13
    A photoactive compound is used in combination with a photosensitizer, represented by the following formula (1): A −[( J ) m −( X-Pro )] n (1) wherein A represents a hydrophobic unit comprising at least one kind of hydrophobic groups selected from a hydrocarbon group and a heterocyclic group, J represents a connecting group, X-Pro represents a hydrophilic group protected by a protective group Pro which is removable by light exposure, m represents 0 or 1, and n represents an integer of not less than 1. The protective group Pro may be removable by light exposure in association with the photosensitizer (especially, a photo acid generator), or may be a hydrophobic protective group. The hydrophilic group may be a hydroxyl group or a carboxyl group. The photoactive compound has high sensitivity to a light source of short wavelength beams, for resist application, therefore, the photoactive compound is advantageously used for forming a pattern with high resolution.
    一种光活性化合物与光敏剂结合使用,由以下公式(1)表示: A −[( J ) m −( X-Pro )] n (1) 其中,A代表至少包括一种从烃基和杂环基中选择的疏基的疏单元,J代表连接基团,X-Pro代表由光照可去除的保护基团Pro保护的亲基团,m代表0或1,n代表不少于1的整数。 保护基团Pro可以与光敏剂(特别是光酸发生剂)一起通过光照可去除,也可以是疏保护基团。亲基团可以是羟基或羧基。光活性化合物对短波长光源具有很高的敏感性,用于光刻应用,因此,该光活性化合物有利于形成具有高分辨率的图案。
  • Al<sup>3+</sup>-Exchanged Montmorillonite as an Effective Solid Catalyst for Selective Synthesis of Alkylphenols and Bisphenols
    作者:Jun-ichi Tateiwa、Ei Hayama、Takahiro Nishimura、Sakae Uemura
    DOI:10.1246/cl.1996.59
    日期:1996.1
    Al3+-Exchanged montmorillonite-catalyzed aromatic alkylation of phenol with aldehydes produces the corresponding bisphenols mainly or almost solely in good yields, while that with ketones affords selectively the corresponding alkylphenols in moderate to good yields, the alkylation always occurring at the carbonyl carbon.
    Al3+-交换蒙脱石催化苯酚与醛的芳香烷基化主要或几乎完全以良好的产率产生相应的双,而使用酮则选择性地以中等至良好的产率提供相应的烷基,烷基化总是发生在羰基碳上。
  • POLYCARBONATE RESIN COMPOSITION AND FORMED PRODUCT THEREOF
    申请人:Monden Toshiki
    公开号:US20110245388A1
    公开(公告)日:2011-10-06
    In a polycarbonate resin composition containing a polycarbonate resin and a polycarbosilane compound, the use of the polycarbosilane compound modifies the surface properties of the polycarbonate resin composition without adversely affecting the intrinsic characteristics of the polycarbonate resin, such as transparency, heat resistance, and mechanical properties, e.g., impact resistance. A polycarbonate resin composition containing 100 parts by mass of a polycarbonate resin, 0.001 to 1 part by mass of a metal salt compound, and 0.005 to 5 parts by mass of a polycarbosilane compound has significantly improved flame resistance and high transparency and causes markedly reduced outgassing and mold fouling, without losing impact resistance and heat resistance.
    在含有聚碳酸树脂和聚碳硅烷化合物的聚碳酸树脂组合物中,使用聚碳硅烷化合物可以改变聚碳酸树脂组合物的表面特性,而不会对聚碳酸树脂的固有特性产生不利影响,如透明度、耐热性和机械性能(例如冲击强度)。含有100质量部聚碳酸树脂、0.001至1质量部属盐化合物和0.005至5质量部聚碳硅烷化合物的聚碳酸树脂组合物具有显著提高的阻燃性和高透明度,显著减少气体排放和模具污染,同时不会损失冲击强度和耐热性。
  • POLYHYDRIC PHENOL COMPOUND AND METHOD OF PRODUCING SAME
    申请人:MITSUBISHI CHEMICAL CORPORATION
    公开号:US20190210947A1
    公开(公告)日:2019-07-11
    The present invention provides a polyhydric phenol compound which has an excellent alkali resistance and which does not cause a deterioration in color even when used as a resin raw material or a color developer. The polyhydric phenol compound includes: a bisphenol compound (A) represented by the following Formula (1) and a trisphenol compound (B) represented by the following Formula (2): [wherein R 1 represents a monovalent aliphatic hydrocarbon group having from 6 to 24 carbon atoms; each of R 2 , R 3 , R 4 , R 5 and R 6 represents a monovalent hydrocarbon group having from 1 to 15 carbon atoms; and each of a, b, c, d and e represents an integer from 0 to 4]; wherein the trisphenol compound (B) is contained in an amount, in terms of absorption intensity ratio at 254 nm, of less than 1.6% by area with respect to the amount of the bisphenol compound (A).
    本发明提供了一种聚羟基化合物,具有优异的耐碱性能,并且即使用作树脂原料或颜料开发剂也不会导致颜色恶化。该聚羟基化合物包括:由以下公式(1)表示的双化合物(A)和由以下公式(2)表示的三化合物(B):[其中R1表示具有6至24个碳原子的单价脂肪烃基;R2、R3、R4、R5和R6中的每一个表示具有1至15个碳原子的单价烃基;a、b、c、d和e中的每一个表示0至4的整数];其中,以吸收强度比值(在254 nm处)计算,三化合物(B)的含量在面积上小于双化合物(A)的含量的1.6%。
  • Lichtempfindliches Gemisch auf Basis von o-Naphthochinondiaziden und daraus hergestelltes lichtempfindliches Kopiermaterial
    申请人:HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT
    公开号:EP0069966A1
    公开(公告)日:1983-01-19
    Es wird ein lichtempfindliches Gemisch beschrieben, das als lichtempfindliche Verbindung einen Naphthochinon-(1,2)-diazid-(2)-sulfonsäureester der allgemeinen Formel 1 enthält, worin R und R' Wasserstoffatome oder niedere Alkylgruppen, X eine gesättigte Alkylen-, Hydroxyalkylen- oder Dihydroxyalkylengruppe mit 6 bis 18 Kohlenstoffatomen, D den Naphthochinon-(1,2)-diazid-(2)-sulfonyl-(5)-oder den Naphthochinon-(1,2)-diazid-(2)-sulfonyl-(4)-rest und n eine Zahl von 1 bis 20 bedeutet. Die neuen Chinondiazide ergeben Druckplatten mit hoher Auflage, Entwicklerresistenz und Flexibilität der Druckschabione.
    所述光敏混合物包括通式 1 的醌(1,2)-二叠氮化物(2)-磺酸酯作为光敏化合物 其中 R 和 R'是氢原子或低级烷基、 X 是具有 6 至 18 个碳原子的饱和亚烷基、羟基亚烷基或二羟基亚烷基、 D 代表醌-(1,2)-叠氮-(2)-磺酰基-(5)-或醌-(1,2)-叠氮-(2)-磺酰基-(4)-基,以及 n 是 1 到 20 之间的数字。新型醌重氮化物生产的印版具有高支撑性、耐显影剂性和印刷夹层的灵活性。
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