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p-Anilinobenzenediazonium sulphate (2:1) | 150-33-4

中文名称
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中文别名
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英文名称
p-Anilinobenzenediazonium sulphate (2:1)
英文别名
4-anilinobenzenediazonium;sulfate
p-Anilinobenzenediazonium sulphate (2:1)化学式
CAS
150-33-4
化学式
C24H20N6O4S
mdl
——
分子量
488.5
InChiKey
QBAQKRUAIKKDST-UHFFFAOYSA-L
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    6.49
  • 重原子数:
    35
  • 可旋转键数:
    4
  • 环数:
    4.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.0
  • 拓扑面积:
    169
  • 氢给体数:
    2
  • 氢受体数:
    8

文献信息

  • Strahlungsempfindliches Gemisch und Verfahren zur Herstellung von Reliefbildern
    申请人:HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT
    公开号:EP0006627A2
    公开(公告)日:1980-01-09
    Es wird ein strahlungsempfindliches Gemisch beschrieben. das (a) eine unter Einwirkung von aktinischer Strahlung. insbesondere UV-Licht, Säure bildende Verbindung und (b) eine Verbindung enthält, die mindestens eine Enoläthergruppe entnält, und deren Löslichkeit in einem flüßigen Entwickler durch Einwirkung von Säure erhöht wird. Der Enoläther ist bevorzugt eine Verbindung der ailgemeinen Formel I in der R, einen n-wertigen aliphatischen Rest mit wenigstens 2 Kohlenstoffatomen bedeutet. R2, R3 und R4 gleich oder verschieden sind und Wasserstoffatome. Alkyl- oder Arylreste bedeuten oder jeweils zu zweit zu einem gesättigten oder olefinisch ungesättigten Ring verbunden sind, und eine ganze Zahl von 1 bis 4 ist. Das Gemisch wird in Form einer strahlungsempfindlichen Schicht bildmäßig bestrahlt und an den bestrahlten Stellen mit einem Entwickler ausgewaschen, so daß ein positives Reliefbild entsteht
    本文描述了一种辐射敏感混合物,它含有 (a) 在光辐射,特别是紫外线作用下会形成酸的化合物,以及 (b) 至少含有一个烯醇醚基团的化合物,在酸的作用下,该化合物在液体显影剂中的溶解度会增加。烯醇醚最好是通式 I 的化合物 其中 R 是至少有 2 个碳原子的正价脂族基。 R2、R3 和 R4 相同或不同,均为氢原子。是烷基或芳基,或各自成对连接形成饱和环或烯烃不饱和环,以及 是 1 至 4 的整数。 混合物以辐射敏感层的形式进行图像辐照,并用显影剂冲洗辐照区域,从而形成正浮雕图像。
  • Method of forming a pattern employing a photosensitive composition
    申请人:Hitachi, Ltd.
    公开号:EP0042704A2
    公开(公告)日:1981-12-30
    photosensitive composition for use in forming color picture tubes contains an aromatic diazonium compound of the general formula: where R1 and R2 are straight chain alkyl radicals, R3 and R4 are each one of H, CH3 or OCH3 except that R3 and R4 cannot both be H, and A is CL½ZnCl2, BF4 or HSO4. The sensitivity of the composition is approximately 10 - 20% higher than that of conventional compositions.
    用于形成彩色显象管的感光组合物含有通式为 A 的芳香族重氮化合物: 其中 R1 和 R2 为直链烷基,R3 和 R4 分别为 H、CH3 或 O 中的一种,但 R3 和 R4 不能同时为 H,A 为 CL½ZnCl2、BF4 或 HSO4。该组合物的灵敏度比传统组合物高约 10-20%。
  • Lichtempfindliches Polykondensationsprodukt, Verfahren zu seiner Herstellung und dieses enthaltendes lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial
    申请人:AMERICAN HOECHST CORPORATION
    公开号:EP0061150A1
    公开(公告)日:1982-09-29
    Lichtempfindliches Polykondensationsprodukt, Verfahren zu seiner Herstellung und dieses enthaltendes lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial Es wird ein lichtempfindliches Polykondensationsprodukt aus wiederkehrenden aromatischen Diazoniumsalzeinheiten und Einheiten der allgemeinen Formel II beschrieben, worin n 0 oder eine Zahl von 1 bis 3, M der Rest eines aromatischen Kohlenwasserstoffs. Phenolethers, aromatischen Thioethers, aromatischen Amins. aromatischen Sulfons. aromatischen Ketons oder Diketons. m eine Zahl von 0 bis 9, Y -CH2- oder -CH2OCH2- und T ein Wasserstoffatom ist, wenn Y -CH2-O-CH2- bedeutet, und ein Rest R" ist, wenn Y -CH2 bedeutet. Das Kondensationsprodukt ist für die Herstellung von Druckplatten und Photoresists geeignet und weist eine höhere Lichtempfindlichkeit als vergleichbare bekannte Verbindungen auf.
    感光缩聚产物、其制备方法和含有该产物的感光记录材料 一种重复芳香重氮盐单元和通式 II 单元的光敏缩聚产物 其中 n 为 0 或 1 至 3 的数字、 M 是芳香烃的基团。M 是芳香烃的基团,如苯酚醚、芳香醚、芳香胺、芳香砜、芳香酮或二酮。 m 是 0 至 9 之间的数字、 Y 是-CH2-或- O -,以及 当 Y 为- -O- -时,T 为氢原子;当 Y 为- -时,T 为自由基 R"。 该缩合产物适用于印制板和光刻胶的生产,其感光度高于同类已知化合物。
  • Lichtempfindliches, Diazoniumgruppen enthaltendes Polykondensationsprodukt und damit hergestelltes lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial
    申请人:HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT
    公开号:EP0074580A2
    公开(公告)日:1983-03-23
    Es wird ein lichtempfindliches, Diazoniumgruppen enthaltendes Polykondensationsprodukt aus einem Dialdehyd oder einem Acetal oder Ester eines Dialdehydhydrats und einem Diazoniumsalz der allgemeinen Formel beschrieben, worin R1, R2 und R3 Wasserstoffatome, Halogenatome, Alkylgruppen mit 1 bis 3 Kohlenstoffatomen oder Alkoxygruppen mit 1 bis 6 Kohlenstoffatomen bedeuten und X das Anion des Diazoniumsalzes ist. Das Kondensationsprodukt ist zur Herstellung von lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterialien, besonders Druckplatten, mit hoher Lichtempfindlichkeit und Auflagenleistung geeignet.
    一种由二甲醛或二甲醛合物的缩醛或酯与通式如下的重氮盐缩聚而成的含重氮基团的光敏缩聚产物 其中 R1、R2 和 R3 是氢原子、卤素原子、具有 1 至 3 个碳原子的烷基或具有 1 至 6 个碳原子的烷氧基,以及 X 是重氮盐的阴离子。 该缩合产物适用于生产光敏记录材料,特别是印刷版,具有较高的光敏性和印刷性能。
  • Photosensitive composition and pattern forming process using same
    申请人:HITACHI, LTD.
    公开号:EP0100920A1
    公开(公告)日:1984-02-22
    A photosensitive composition becoming sticky upon exposure to light which comprises (a) a salt of a diazonium compound represented by the formula wherein R, and R2 are independently -H, -CH3, -OCH3 or but R1 and R2 cannot be at the same time; and R3 and R4 are independently a straight-chain lower alkyl group, and (b) a salt of an aromatic diazonium compound having no -OH group directly bonding to a benzene ring, has an improved sensitivity because it contains the salt of the compound represented by the above formula. By using said photosensitive composition, there is provided a process for forming a pattern of powder coated layer excellent in light sensitivity.
    一种光敏组合物,在光照下会变得粘稠,该组合物包括 (a) 由式表示的重氮化合物的盐 其中 R 和 R2 独立地为-H、-CH3、-O 或 但 R1 和 R2 不能同时为 R3和R4独立地为直链低级烷基,以及(b)没有-OH基团直接键合到苯环上的芳香族重氮化合物的盐。通过使用上述光敏组合物,提供了一种形成感光性极佳的粉末涂层图案的工艺。
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