bis-(4-amino-3-chloro-phenyl)-sulfide | 46833-81-2

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机硫化合物 - 硫醚类
• 英文名称: bis-(4-amino-3-chloro-phenyl)-sulfide
• 英文别名: 3.3'-Dichlor-4.4'-diamino-diphenylsulfid；Bis-(4-amino-3-chlor-phenyl)-sulfid；4-(4-Amino-3-chlorophenyl)sulfanyl-2-chloroaniline
• CAS: 46833-81-2
• 化学式: C₁₂H₁₀Cl₂N₂S
• 分子量: 285.197
• InChiKey: OMHDKWZCHRDYQA-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.9
• 重原子数：
  17
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  77.3
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  邻氯苯胺 在 sulfur 作用下， 生成 bis-(4-amino-3-chloro-phenyl)-sulfide
  参考文献：
  名称：

  Hodgson, Journal of the Society of Dyers and Colourists, vol. 42, p. 79

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Photopolymerisierbare Zusammensetzung, damit beschichtetes Material und Verfahren zur Herstellung von Reliefabbildungen
  申请人：CIBA-GEIGY AG

  公开号：EP0119162A2

  公开（公告）日：1984-09-19

  Photopolymerisierbare Zusammensetzungen aus (a) einer Polymer-Vorstufe mit photopolymerisierbaren olefinischen Doppelbindungen, (b) einem Photoinitiator der Formel worin R1, R2 und R3 die im Patentanspruch 1 angegebene Bedeutung haben, und gegebenenfalls (c) einem Acrylsäure- oder Methacrylsäureester, Allyläther oder Allylester eines Polyols eignen sich dank ihrer hohen Lichtempfindlichkeit zur wirtschaftlichen Herstellung hochtemperaturbeständiger Schutzschichten und Reliefstrukturen mit hoher Auflösung und guter Kantenschärfe.

  可光聚合的组合物，包括(a) 具有可光聚合烯烃双键的聚合物前体，(b) 式中的光引发剂 其中 R1、R2 和 R3 的含义如权利要求 1 所述，以及可选的 (c) 一种多元醇的丙烯酸或甲基丙烯酸酯、烯丙基醚或烯丙基酯，由于其光敏性高，适用于经济地生产具有高分辨率和良好边缘清晰度的耐高温保护涂层和浮雕结构。
• Polyimide, Verfahren zu deren Herstellung und deren Verwendung
  申请人：CIBA-GEIGY AG

  公开号：EP0132221A1

  公开（公告）日：1985-01-23

  Homo- und Copolyimide aus aromarischen Tetracarbonsäuren und aromatischen Diaminen, die in beiden Orthostellungen mindestens eines N-Atomes durch Alkyl, Alkoxy, Alkoxyalkyl, Cycloalkyl oder Aralkyl substituiert sind, sind in organischen Lösungsmitteln löslich und weisen erhöhte Glasumwandlungstemperaturen und damit sehr gute Thermostabilitäten auf. Solche Polyimide, die Reste von einer Banzophenontetracarbonsäure enthalten, sind strahlungsempfindlich und autophotovernetzbar. Die Polyimide eignen sich zur Herstellung von Filmen, Schutzüberzügen und photographischen Reliefabbildungen.

  芳香族四羧酸和芳香族二胺的均聚酰亚胺和共聚酰亚胺（在至少一个 N 原子的两个正交位置上被烷基、烷氧基、烷氧基烷基、环烷基或芳烷基取代）可溶于有机溶剂，并显示出较高的玻璃化转变温度，因此具有非常好的热稳定性。这种聚酰亚胺含有二苯甲酮四羧酸残基，对辐射敏感，可自光交联。这种聚酰亚胺适用于生产薄膜、保护涂层和照相浮雕图像。
• Beschichtetes Material und seine Verwendung
  申请人：CIBA-GEIGY AG

  公开号：EP0134752A1

  公开（公告）日：1985-03-20

  Beschichtetes Material aus einem Träger auf dem eine strahlungsempfindliche aus einem Homo- oder Copolymer mit mindestens 5 Mol.-%, bezogen auf das Polymer, Struktureinheiten der Formel 1 worin R ein zweiwertiger aliphatischer Rest, der durch Heteroatome, aromatische, heterocyclische oder cycloaliphatische Gruppen unterbrochen sein kann, ein cycloaliphatischer, heterocyclischer oder araliphatischer Rest, ein aromatischer Rest, bei dem zwei Arylkerne über eine aliphatische Gruppe verknüpft sind, oder ein durch mindestens eine Alkylgruppe, Cycloalkylgruppe, Alkoxygruppe, Alkoxyalkylgruppe, Alkylthiogruppe, Alkylthioalkylgruppe, Hydroxyalkylgruppe, Hydroxyalkoxygruppe, Hydroxyalkylthiogruppe, Aralkylgruppe oder zwei benachbarte C-Atome des aromatischen Restes durch eine Alkylengruppe substituierter aromatischer Rest ist, R' unabhängig die gleiche Bedeutung wie R hat und q für 0 oder 1 steht, wobei R als aromatischer Rest nicht durch Alkylen und nicht durch die zuvor genannten Reste substituiert ist, wenn q = 0 ist, aufgebracht ist. Die Schicht kann direkt durch Strahlungseinwirkung vernetzt werden. Das Material eignet sich z.B zur Herstellung von Schutzfilmen und von Reliefabbildungen.

  一种涂层材料，包括一种支撑物，在该支撑物上有一种辐射敏感的均聚物或共聚物，该均聚物或共聚物含有至少 5 摩尔%的式 1 结构单元（以聚合物为基数）。 烷硫基、羟基烷基、羟基烷氧基、羟基烷硫基、芳基或被亚烷基取代的芳香基的两个相邻 C 原子，R'独立地具有与 R 相同的含义，q 为 0 或 1，其中作为芳香基的 R 在 q = 0 时未被亚烷基取代，也未被前面提到的基取代。该层可通过辐射直接交联。这种材料适用于制作保护膜和浮雕图像等。
• Strahlungsempfindliches Beschichtungsmittel und dessen Verwendung
  申请人：CIBA-GEIGY AG

  公开号：EP0141781A2

  公开（公告）日：1985-05-15

  Polyimide aus aromatischen Tetracarbonsäurederivaten und aromatischen Diaminen, bei denen beide ortho-Stellungen zu einem an eine Imidgruppe des Polymeren gebundenen Phenylenrest durch Alkylgruppen substituiert sind, können zusammen mit organischen chromophoren Polyaziden durch Bestrahlung vernetzt werden. Lösungen der genannten Polyimide und Polyazide in organischen Lösungsmitteln können als strahlungsempfindliche Beschichtungsmittel z.B. zur Herstellung von lsolier- und Schutzlacken und insbesondere zur Herstellung gedruckter Schaltungen und integrierter Schaltkreise verwendet werden.

  芳香族四羧酸衍生物的聚酰亚胺和芳香族二胺，其中与聚合物的酰亚胺基键合的苯基残基的两个正交位均被烷基取代，可通过辐照与有机发色性多氮化物交联在一起。 上述聚酰亚胺和多氮化物在有机溶剂中的溶液可用作辐射敏感涂层剂，例如用于生产绝缘漆和保护漆，特别是用于生产印刷电路和集成电路。
• Beschichtetes Material und dessen Verwendung
  申请人：CIBA-GEIGY AG

  公开号：EP0200680A2

  公开（公告）日：1986-12-10

  Beschichtetes lichtempfindliches Material aus einem Trägermaterial mit einer Schicht aus Polyamidsäuren und Polyamidsäurearylestern auf der Basis von Tetracarbonsäuren bzw. Aminodicarbonsäuren mit einem Benzophenonstrukturelement und aromatischen Diaminen, die in beiden Orthostellungen mindestens einer Aminogruppe substituiert sind. Das Material ist autophotovernetzbar und eignet sich zur Herstellung von Schutzüberzügen und photographischen Abbildungen, wobei nach der Bestrahlung durch thermische Einwirkung entsprechende Polyimide gebildet werden.

  涂层感光材料，由一种载体材料和一层聚酰胺酸和聚酰胺酸芳基酯组成，聚酰胺酸和聚酰胺酸芳基酯的基础是具有二苯甲酮结构元素的四羧酸或氨基二羧酸，以及在两个正交位置上至少被一个氨基取代的芳香族二胺。 该材料具有自光交联性，适用于生产保护涂层和摄影图像，在热作用照射后形成相应的聚酰亚胺。