3α-acetylcholanic acid

• 分子结构分类: 有机化合物 - 脂质和类脂质分子 - 类固醇和类固醇衍生物
• 英文名称: 3α-acetylcholanic acid
• 英文别名: 3alpha-Acetylcholanic acid；(4R)-4-[(3R,8R,9S,10S,13R,14S,17R)-3-acetyl-10,13-dimethyl-2,3,4,5,6,7,8,9,11,12,14,15,16,17-tetradecahydro-1H-cyclopenta[a]phenanthren-17-yl]pentanoic acid
• 化学式: C₂₆H₄₂O₃
• 分子量: 402.618
• InChiKey: ACUXCRSDTXAZNO-HKIYFDAASA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  6.8
• 重原子数：
  29
• 可旋转键数：
  5
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.92
• 拓扑面积：
  54.4
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  石胆酸 、 乙酰氯 在 三乙胺 作用下， 以 四氢呋喃 、 乙酸乙酯 为溶剂， 生成 3α-acetylcholanic acid
  参考文献：
  名称：

  Additive for photoresist composition for resist flow process

  摘要：

  本发明提供了一种用于抗蚀流程的光阻组合物的添加剂。将具有低玻璃化转变温度的下式1化合物添加到光阻组合物中，该光阻组合物包含由于其高玻璃化转变温度而不适合于抗蚀流程的聚合物，从而改善了光阻组合物的流动性能。因此，包含式1添加剂的光阻组合物可用于抗蚀流程。 式中，A、B、R和R'如本发明说明书中所定义。

  公开号：

  US20020022197A1

文献信息

• US6770414B2
  申请人：——

  公开号：US6770414B2

  公开（公告）日：2004-08-03
• US7150961B2
  申请人：——

  公开号：US7150961B2

  公开（公告）日：2006-12-19
• Additive for photoresist composition for resist flow process
  申请人：——

  公开号：US20020022197A1

  公开（公告）日：2002-02-21

  The present invention provides an additive for a photoresist composition for a resist flow process. A compound of following Formula 1 having low glass transition temperature is added to a photoresist composition containing a polymer which is not suitable for the resist flow process due to its high glass transition temperature, thus improving a flow property of the photoresist composition. As a result, the photoresist composition comprising an additive of Formula 1 can be used for the resist flow process. 1 wherein, A, B, R and R′ are as defined in the specification of the invention.

  本发明提供了一种用于抗蚀流程的光阻组合物的添加剂。将具有低玻璃化转变温度的下式1化合物添加到光阻组合物中，该光阻组合物包含由于其高玻璃化转变温度而不适合于抗蚀流程的聚合物，从而改善了光阻组合物的流动性能。因此，包含式1添加剂的光阻组合物可用于抗蚀流程。 式中，A、B、R和R'如本发明说明书中所定义。