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4-sulfobenzyl chloride sodium salt

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
4-sulfobenzyl chloride sodium salt
英文别名
Sodium;4-(chloromethyl)benzenesulfonate
4-sulfobenzyl chloride sodium salt化学式
CAS
——
化学式
C7H6ClO3S*Na
mdl
——
分子量
228.632
InChiKey
APNZOHKZHRCYHW-UHFFFAOYSA-M
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    -1.67
  • 重原子数:
    13
  • 可旋转键数:
    2
  • 环数:
    1.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.14
  • 拓扑面积:
    65.6
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    3

反应信息

  • 作为产物:
    描述:
    乙醇4-溴甲基苯磺酰氯 在 sodium hydroxide 作用下, 以 为溶剂, 反应 3.0h, 生成 4-sulfobenzyl chloride sodium salt 、 、 4-(溴甲基)苯磺酸钠盐
    参考文献:
    名称:
    [EN] ANTIVIRAL TREATMENT
    [FR] TRAITEMENT ANTIVIRAL
    摘要:
    本描述涉及使用肥皂草碱、其衍生物及其形式用于治疗或改善由包膜病毒引起的感染,制备这些化合物的方法以及含有这些化合物的药物组合物。特别是使用肥皂草碱、其衍生物和形式来治疗或改善由冠状病毒引起的感染。更具体地,本描述涉及使用肥皂草碱、其衍生物及其形式来治疗或改善冠状病毒病2019(COVID-19)。
    公开号:
    WO2021176010A1
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文献信息

  • ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM AND PATTERN FORMING METHOD EACH USING THE COMPOSITION, MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE, SEMICONDUCTOR DEVICE AND PRODUCTION METHOD OF RESIN
    申请人:FUJIFILM CORPORATION
    公开号:US20140212797A1
    公开(公告)日:2014-07-31
    An actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition includes: (P) a resin that contains (A) a repeating unit capable of decomposing upon irradiation with an actinic ray or radiation to generate an acid in a side chain of the resin (P) and (C) a repeating unit represented by the following formula (I) as defined in the specification, wherein a polydispersity of the resin (P) is 1.20 or less.
  • [EN] ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM AND PATTERN FORMING METHOD EACH USING THE COMPOSITION, MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE, SEMICONDUCTOR DEVICE AND PRODUCTION METHOD OF RESIN<br/>[FR] COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE À UN RAYONNEMENT ACTINIQUE OU SENSIBLE AUX RAYONS ACTINIQUE, COUCHE DE RÉSERVE ET PROCÉDÉ DE FORMATION D'UN MOTIF QUI UTILISENT CHACUN LA COMPOSITION, PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN DISPOSITIF SEMI-CONDUCTEUR, DISPOSITIF SEMI-CONDUCTEUR ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE LA RÉSINE
    申请人:FUJIFILM CORP
    公开号:WO2013047895A1
    公开(公告)日:2013-04-04
    An actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition includes: (P) a resin that contains (A) a repeating unit capable of decomposing upon irradiation with an actinic ray or radiation to generate an acid in a side chain of the resin (P) and (C) a repeating unit represented by the following formula (I) as defined in the specification, wherein a polydispersity of the resin (P) is 1.20 or less.
  • [EN] ANTIVIRAL TREATMENT<br/>[FR] TRAITEMENT ANTIVIRAL
    申请人:ECOSYNTH NV
    公开号:WO2021176010A1
    公开(公告)日:2021-09-10
    The present description relates to the use of myramistin, its derivatives and the forms thereof for treating or ameliorating infections caused by enveloped viruses, methods for preparing the compounds and pharmaceutical compositions containing such compounds. In particular the use of myramistin, its derivatives and forms for treating or ameliorating infections caused by coronaviruses. More particularly, the present description relates to the use of myramistin, its derivatives and forms thereof for treating or ameliorating Coronavirus disease 2019 (COVID-19).
    本描述涉及使用肥皂草碱、其衍生物及其形式用于治疗或改善由包膜病毒引起的感染,制备这些化合物的方法以及含有这些化合物的药物组合物。特别是使用肥皂草碱、其衍生物和形式来治疗或改善由冠状病毒引起的感染。更具体地,本描述涉及使用肥皂草碱、其衍生物及其形式来治疗或改善冠状病毒病2019(COVID-19)。
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