4-sulfobenzyl chloride sodium salt

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 4-sulfobenzyl chloride sodium salt
• 英文别名: Sodium;4-(chloromethyl)benzenesulfonate
• 化学式: C₇H₆ClO₃S*Na
• 分子量: 228.632
• InChiKey: APNZOHKZHRCYHW-UHFFFAOYSA-M

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -1.67
• 重原子数：
  13
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.14
• 拓扑面积：
  65.6
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  乙醇 、 4-溴甲基苯磺酰氯 在 sodium hydroxide 作用下， 以 水 为溶剂， 反应 3.0h， 生成 4-sulfobenzyl chloride sodium salt 、 、 4-(溴甲基)苯磺酸钠盐
  参考文献：
  名称：

  [EN] ANTIVIRAL TREATMENT
  [FR] TRAITEMENT ANTIVIRAL

  摘要：

  本描述涉及使用肥皂草碱、其衍生物及其形式用于治疗或改善由包膜病毒引起的感染，制备这些化合物的方法以及含有这些化合物的药物组合物。特别是使用肥皂草碱、其衍生物和形式来治疗或改善由冠状病毒引起的感染。更具体地，本描述涉及使用肥皂草碱、其衍生物及其形式来治疗或改善冠状病毒病2019（COVID-19）。

  公开号：

  WO2021176010A1

文献信息

• ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM AND PATTERN FORMING METHOD EACH USING THE COMPOSITION, MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE, SEMICONDUCTOR DEVICE AND PRODUCTION METHOD OF RESIN
  申请人：FUJIFILM CORPORATION

  公开号：US20140212797A1

  公开（公告）日：2014-07-31

  An actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition includes: (P) a resin that contains (A) a repeating unit capable of decomposing upon irradiation with an actinic ray or radiation to generate an acid in a side chain of the resin (P) and (C) a repeating unit represented by the following formula (I) as defined in the specification, wherein a polydispersity of the resin (P) is 1.20 or less.
• [EN] ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM AND PATTERN FORMING METHOD EACH USING THE COMPOSITION, MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE, SEMICONDUCTOR DEVICE AND PRODUCTION METHOD OF RESIN<br/>[FR] COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE À UN RAYONNEMENT ACTINIQUE OU SENSIBLE AUX RAYONS ACTINIQUE, COUCHE DE RÉSERVE ET PROCÉDÉ DE FORMATION D'UN MOTIF QUI UTILISENT CHACUN LA COMPOSITION, PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN DISPOSITIF SEMI-CONDUCTEUR, DISPOSITIF SEMI-CONDUCTEUR ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE LA RÉSINE
  申请人：FUJIFILM CORP

  公开号：WO2013047895A1

  公开（公告）日：2013-04-04

  An actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition includes: (P) a resin that contains (A) a repeating unit capable of decomposing upon irradiation with an actinic ray or radiation to generate an acid in a side chain of the resin (P) and (C) a repeating unit represented by the following formula (I) as defined in the specification, wherein a polydispersity of the resin (P) is 1.20 or less.