1,1,1,7-tetramethoxy-3,5,7-trimethyl-3,5,7-trivinyltetrasiloxane

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机金属化合物 - 有机类金属化合物
• 英文名称: 1,1,1,7-tetramethoxy-3,5,7-trimethyl-3,5,7-trivinyltetrasiloxane
• 英文别名: 1,1,1,7-Tetramethoxy-3,5,7-trimethyl-3,5,7-trivinyltetrasiloxane；[ethenyl-[ethenyl-(ethenyl-methoxy-methylsilyl)oxy-methylsilyl]oxy-methylsilyl] trimethyl silicate
• 化学式: C₁₃H₃₀O₇Si₄
• 分子量: 410.719
• InChiKey: AWCCWNZWLPCHPQ-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.45
• 重原子数：
  24
• 可旋转键数：
  13
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.54
• 拓扑面积：
  64.6
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  7

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  正硅酸甲酯 、 2,4,6-三乙烯基-2,4,6-三甲基环三硅氧烷 在 三氟甲磺酸 作用下， 反应 2.5h， 以49.5%的产率得到1,1,1,7-tetramethoxy-3,5,7-trimethyl-3,5,7-trivinyltetrasiloxane
  参考文献：
  名称：

  Polysiloxane–silica hybrids from novel precursors by the sol–gel process

  摘要：

  1,1,1,7-四甲氧基-3,3,5,5,7,7-六甲基-1,3,5,7-四硅氧烷{TMOS-D3}和1,1,1,7-四甲氧基-3 ,5,7-三甲基-3,5,7-三乙烯基-1,3,5,7-四硅氧烷{TMOS-V3}分别通过六甲基环三硅氧烷(D3)或2,4,6-三甲基的阳离子调聚制备-2,4,6-三乙烯基环三硅氧烷 (V3) 与四甲氧基硅烷 (TMOS)。这些化合物被用作硅氧烷-二氧化硅材料的前体。它们的结构导致产生短的三硅氧烷链段，这些链段很好地分散在形成的杂化框架中。这些前体或其与 TMOS 的混合物在分散体中或在 NaOH 催化下进行本体溶胶-凝胶缩聚。硅氧烷-二氧化硅杂化材料要么以各种规则或不规则形状的沉淀颗粒（1-80μm）的形式获得，要么以干燥时分解的整体材料的形式获得。在溶胶凝胶分散过程中，该过程在表面活性剂十六烷基三甲基溴化铵的存在下进行，几乎所有甲基都转化为桥接两个硅原子的氧，而在本体过程中，一小部分未反应的烷氧基和羟基保留在凝胶。由纯{TMOS-D3}和{TMOS-V3}获得的材料表现出非常低的孔隙率和表面积。相反，具有高表面积的颗粒可以从这些新前体和TMOS的混合物中获得。用HMe2SiCl对由{TMOS-V3}及其与TMOS的混合物制备的凝胶进行氢化硅烷化，并且将硅烷化颗粒用于活性聚硅氧烷聚合物的接枝。

  DOI：

  10.1039/b501833c

文献信息

• Polysiloxane–silica hybrids from novel precursors by the sol–gel process
  作者：K. Rózga-Wijas、J. Chojnowski、M. Ścibiorek、W. Fortuniak

  DOI：10.1039/b501833c

  日期：——

  1,1,1,7-Tetramethoxy-3,3,5,5,7,7-hexamethyl-1,3,5,7-tetrasiloxane TMOS-D3} and 1,1,1,7-tetramethoxy-3,5,7-trimethyl-3,5,7-trivinyl-1,3,5,7-tetrasiloxane TMOS-V3} were made, respectively, by cationic telomerisation of hexamethylcyclotrisiloxane (D3) or 2,4,6-trimethyl-2,4,6-trivinylcyclotrisiloxane (V3) with tetramethoxysilane (TMOS). These compounds were used as precursors of siloxane–silica materials. Their structure resulted in the generation of short trisiloxane segments which were well dispersed in the formed hybrid framework. These precursors or their mixtures with TMOS were subjected to sol–gel polycondensation in dispersions or in bulk catalysed by NaOH. Siloxane–silica hybrid materials were obtained either in the form of precipitated particles (1–80 µm) of various regular or irregular shapes or in the form of a monolithic material disintegrated on drying. In the sol–gel dispersion process, which was performed in the presence of a surfactant, cetyltrimethylammonium bromide, almost all methyl groups were converted to oxygen bridging two silicon atoms while in the bulk process a small fraction of unreacted alkoxyl and hydroxyl groups remained in the gel. Materials obtained from pure TMOS-D3} and TMOS-V3} showed a very low porosity and surface area. In contrast, particles having a high surface area can be obtained from mixtures of these new precursors and TMOS. Gels prepared from TMOS-V3} and its mixture with TMOS were subjected to hydrosilylation with HMe2SiCl and the silylated particles were used for grafting of a living polysiloxane polymer.

  1,1,1,7-四甲氧基-3,3,5,5,7,7-六甲基-1,3,5,7-四硅氧烷TMOS-D3}和1,1,1,7-四甲氧基-3 ,5,7-三甲基-3,5,7-三乙烯基-1,3,5,7-四硅氧烷TMOS-V3}分别通过六甲基环三硅氧烷(D3)或2,4,6-三甲基的阳离子调聚制备-2,4,6-三乙烯基环三硅氧烷 (V3) 与四甲氧基硅烷 (TMOS)。这些化合物被用作硅氧烷-二氧化硅材料的前体。它们的结构导致产生短的三硅氧烷链段，这些链段很好地分散在形成的杂化框架中。这些前体或其与 TMOS 的混合物在分散体中或在 NaOH 催化下进行本体溶胶-凝胶缩聚。硅氧烷-二氧化硅杂化材料要么以各种规则或不规则形状的沉淀颗粒（1-80μm）的形式获得，要么以干燥时分解的整体材料的形式获得。在溶胶凝胶分散过程中，该过程在表面活性剂十六烷基三甲基溴化铵的存在下进行，几乎所有甲基都转化为桥接两个硅原子的氧，而在本体过程中，一小部分未反应的烷氧基和羟基保留在凝胶。由纯TMOS-D3}和TMOS-V3}获得的材料表现出非常低的孔隙率和表面积。相反，具有高表面积的颗粒可以从这些新前体和TMOS的混合物中获得。用HMe2SiCl对由TMOS-V3}及其与TMOS的混合物制备的凝胶进行氢化硅烷化，并且将硅烷化颗粒用于活性聚硅氧烷聚合物的接枝。