4-butylnaphthalic anhydride

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 萘
• 英文名称: 4-butylnaphthalic anhydride
• 英文别名: 8-Butyl-3-oxatricyclo[7.3.1.05,13]trideca-1(12),5(13),6,8,10-pentaene-2,4-dione；8-butyl-3-oxatricyclo[7.3.1.05,13]trideca-1(12),5(13),6,8,10-pentaene-2,4-dione
• 化学式: C₁₆H₁₄O₃
• 分子量: 254.285
• InChiKey: BHIWQZLVTAOTGB-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.4
• 重原子数：
  19
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.25
• 拓扑面积：
  43.4
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  4-butylnaphthalic anhydride 在 吡啶 、 盐酸羟胺 、 sodium hydroxide 作用下， 以 氯仿 、 水 、 N,N-二甲基甲酰胺 为溶剂， 反应 4.0h， 生成 N-(trifluoromethylsulfonyloxy)-4-butyl-1,8-naphthalenedicarboximide
  参考文献：
  名称：

  NOVEL SULFONIC ACID DERIVATIVE COMPOUND, PHOTOACID GENERATOR, CATIONIC POLYMERIZATION INITIATOR, RESIST COMPOSITION, AND CATIONICALLY POLYMERIZABLE COMPOSITION

  摘要：

  公开号：

  EP2927216B1
• 作为产物：
  描述：

  4-溴-1,8-萘二甲酸酐 、 butylzinc 在 bis-triphenylphosphine-palladium(II) chloride 作用下， 以 四氢呋喃 为溶剂， 反应 1.0h， 以26.5 g的产率得到4-butylnaphthalic anhydride
  参考文献：
  名称：

  NOVEL SULFONIC ACID DERIVATIVE COMPOUND, PHOTOACID GENERATOR, CATIONIC POLYMERIZATION INITIATOR, RESIST COMPOSITION, AND CATIONICALLY POLYMERIZABLE COMPOSITION

  摘要：

  公开号：

  EP2927216B1

文献信息

• [EN] CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE DRY FILM, PRODUCTION METHOD FOR PHOTOSENSITIVE DRY FILM, PRODUCTION METHOD FOR PATTERNED RESIST FILM, AND PRODUCTION METHOD FOR COMPOUND, PHOTO-ACID GENERATOR, AND N–ORGANOSULFONYLOXY COMPOUND<br/>[FR] COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE POSITIVE CHIMIQUEMENT AMPLIFIÉE, FILM SEC PHOTOSENSIBLE, PROCÉDÉ DE PRODUCTION POUR FILM SEC PHOTOSENSIBLE, PROCÉDÉ DE PRODUCTION POUR FILM DE RÉSERVE À MOTIFS, ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION POUR COMPOSÉ, GÉNÉRATEUR DE PHOTO-ACIDE ET COMPOSÉ N-ORGANOSULFONYLOXY<br/>[JA] 化学増幅型ポジ型感光性樹脂組成物、感光性ドライフィルム、感光性ドライフィルムの製造方法、パターン化されたレジスト膜の製造方法、化合物及び光酸発生剤並びにＮ－オルガノスルホニルオキシ化合物の製造方法
  申请人：TOKYO OHKA KOGYO CO LTD

  公开号：WO2021024925A1

  公开（公告）日：2021-02-11

  含有される酸発生剤が溶剤溶解性に優れ且つマスクリニアリティに優れたレジストパターンが形成しやすい化学増幅型ポジ型感光性樹脂組成物と、当該化学増幅型ポジ型感光性樹脂組成物からなる感光性層を備える感光性ドライフィルム、当該感光性ドライフィルムの製造方法と、前述の化学増幅型ポジ型感光性樹脂組成物を用いるパターン化されたレジスト膜の製造方法と、前述の化学増幅型ポジ型感光性樹脂組成物に好ましく配合しうる化合物及び光酸発生剤を提供すること。　活性光線又は放射線の照射により酸を発生する酸発生剤（Ａ）と、酸の作用によりアルカリに対する溶解性が増大する樹脂（Ｂ）と、を含む化学増幅型ポジ型感光性樹脂組成物であって、酸発生剤（Ａ）が式（Ａ１）で表される化合物を含む。
• NOVEL SULFONIC ACID DERIVATIVE COMPOUND, PHOTOACID GENERATOR, CATIONIC POLYMERIZATION INITIATOR, RESIST COMPOSITION, AND CATIONICALLY POLYMERIZABLE COMPOSITION
  申请人：Adeka Corporation

  公开号：EP2927216B1

  公开（公告）日：2018-10-24