N,N-di(2-ethylhexyl)-n-octylamine

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氮化合物
• 英文名称: N,N-di(2-ethylhexyl)-n-octylamine
• 英文别名: N,N-bis(2-ethylhexyl)octan-1-amine
• 化学式: C₂₄H₅₁N
• 分子量: 353.676
• InChiKey: XEUFXZZQCZXEJO-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  9.9
• 重原子数：
  25
• 可旋转键数：
  19
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  3.2
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  正辛醛 、 二异辛胺 在 5%-palladium/activated carbon 、 氢气 作用下， 120.0 ℃ 、800.01 kPa 条件下， 反应 14.0h， 以57%的产率得到N,N-di(2-ethylhexyl)-n-octylamine
  参考文献：
  名称：

  第三級アミン化合物及び第三級アミン化合物を含むコバルト抽出剤

  摘要：

  问题：在从含钴水溶液中提取钴的溶剂萃取过程中，提供一种具有高钴萃取率且生成少量不溶于芳香族烃类溶剂且可能导致包覆物的分解生成物的钴萃取剂。 解决方案：以下式（1）表示的三级胺化合物和包含所述三级胺化合物的钴萃取剂。式（1）：（其中，R1、R2表示可能具有支链结构的烷基，其碳数为8〜11。但是，当R1和R2均为1-甲基庚基时，以及当R1和R2均为2-乙基己基时除外。）【选择图】无

  公开号：

  JP2020055754A

文献信息

• PHOTORESIST COMPOSITION
  申请人：Matsuoka Hiroshi

  公开号：US20090035696A1

  公开（公告）日：2009-02-05

  Disclosed are a photoresist composition characterized by containing a polymer (A) containing a carboxyl group or a hydroxyl group, a polyfunctional alkenyl ether (B) represented by the general formula (I) below, and a photoacid generator (C) and the like. (In the formula, R 1 and R 2 may be the same as or different from each other and respectively represent a substituted or unsubstituted alkyl, a substituted or unsubstituted allyl, or a substituted or unsubstituted aralkyl, or alternatively R 1 and R 2 may form a substituted or unsubstituted alicyclic hydrocarbon ring together with an adjacent carbon atom; X represents a substituted or unsubstituted alkane from which n hydrogen atoms are removed; and n represents an integer of not less than 2.)