lactol bis-tetrahydropyranyl ether

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 氧烷类
• 英文名称: lactol bis-tetrahydropyranyl ether
• 英文别名: 2-[1-(Oxan-2-yloxy)propan-2-yloxy]oxane
• 化学式: C₁₃H₂₄O₄
• 分子量: 244.331
• InChiKey: TUUMBXWEWBADRB-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.1
• 重原子数：
  17
• 可旋转键数：
  5
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  36.9
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  3,4-二氢-2H-吡喃 、 1,2-丙二醇 在 对甲苯磺酸 作用下， 以 水 为溶剂， 反应 7.0h， 以88%的产率得到1-[(四氢吡喃-2-基)氧基]-2-丙醇
  参考文献：
  名称：

  Boruwa, Joshodeep; Bhuyan, Ranjana; Gogoi, Naminita, Indian Journal of Chemistry - Section B Organic and Medicinal Chemistry, 2005, vol. 44, # 2, p. 331 - 334

  摘要：

  DOI：

文献信息

• COMPOUND, ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM, AND PATTERN FORMATION METHOD, AND METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE USING SAME, AND ELECTRONIC DEVICE
  申请人：FUJIFILM CORPORATION

  公开号：US20160024005A1

  公开（公告）日：2016-01-28

  There is provided an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition containing a compound represented by the following formula (1) or (2), and the formula (1) and (2) are defined as herein, and a resist film comprising the actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, and a pattern forming method comprising a step of exposing the resist film, and a step of developing the exposed film, and a method for manufacturing an electronic device, comprising the pattern forming method, and an electronic device manufactured by the manufacturing method of an electronic device.

  提供了一种包含下列式子（1）或（2）所代表的化合物的光致射线敏感或辐射敏感的树脂组合物，其中式（1）和（2）的定义如本文所述，以及包括该光致射线敏感或辐射敏感的树脂组合物的光阻膜，以及包括曝光光阻膜的步骤和显影曝光膜的步骤的图案形成方法，以及包括图案形成方法的制造电子装置的方法，以及由电子装置的制造方法制造的电子装置。
• US3933889A
  申请人：——

  公开号：US3933889A

  公开（公告）日：1976-01-20
• US3984458A
  申请人：——

  公开号：US3984458A

  公开（公告）日：1976-10-05
• US3954835A
  申请人：——

  公开号：US3954835A

  公开（公告）日：1976-05-04
• US3984457A
  申请人：——

  公开号：US3984457A

  公开（公告）日：1976-10-05