Sodium Tricyclohexylbenzenesulfonate

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: Sodium Tricyclohexylbenzenesulfonate
• 英文别名: sodium;2,3,4-tricyclohexylbenzenesulfonate
• 化学式: C₂₄H₃₅O₃S*Na
• 分子量: 426.596
• InChiKey: UEXZEPCZAYBEDF-UHFFFAOYSA-M

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.74
• 重原子数：
  29
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.75
• 拓扑面积：
  65.6
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  氯代环己烷 在 三氯化铝 作用下， 以 氘代丙酮 、 苯 为溶剂， 生成 三环己基苯 、 Sodium Tricyclohexylbenzenesulfonate
  参考文献：
  名称：

  Actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition and method of forming pattern using the composition

  摘要：

  根据本发明，一种光敏射线或辐射敏感的树脂组合物包括一种通过酸作用分解以生成体积为240 Å3或更大的磺酸的磺酸生成化合物，以及一种在暴露于光敏射线或辐射时生成酸的化合物。

  公开号：

  US09223208B2

文献信息

• [EN] ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PATTERN WITH THE COMPOSITION<br/>[FR] COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE AUX RAYONS ACTINIQUES OU AU RAYONNEMENT ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIFS AU MOYEN DE LA COMPOSITION
  申请人：FUJIFILM CORP

  公开号：WO2010035905A1

  公开（公告）日：2010-04-01

  An actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition comprising any of the compounds of general formula (I) below; wherein: Ar represents an aromatic ring that may have a substituent other than the -(A-B) groups; n is an integer of 1 or greater; A represents any one, or a combination of two or more members selected from a single bond, an alkylene group, -O-, -S-, -C(=O)-, -S(=O)-, -S(=O)?2- and OS(=O)2-, provided that -C(=O)O- is excluded; B represents a group containing a hydrocarbon group having 4 or more carbon atoms wherein either a tertiary or a quaternary carbon atom is contained, when n is 2 or greater, the two or more -(A-B) groups may be identical to or different from each other; and M+ represents an organic onium ion.

  一种光化学射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物，包括下面的通式(I)中的任何一种化合物；其中：Ar代表可能具有除了-(A-B)基团之外的取代基的芳香环；n为大于等于1的整数；A代表从单键、烷基基团、-O-、-S-、-C(=O)-、-S(=O)-、-S(=O)2-和OS(=O)2-中选取的任意一个或两个以上成员的组合，但不包括-C(=O)O-；B代表含有4个或更多碳原子的烃基团的基团，当n大于等于2时，两个或更多个-(A-B)基团可以相同或不同；M+代表有机离子。
• ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PATTERN WITH THE COMPOSITION
  申请人：TSUCHIMURA Tomotaka

  公开号：US20110171577A1

  公开（公告）日：2011-07-14

  An actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition includes any of the compounds of general formula (I) below; wherein: Ar represents an aromatic ring that may have a substituent other than the -(A-B) groups; n is an integer of 1 or greater; A represents any one, or a combination of two or more members selected from a single bond, an alkylene group, —O—, —S—, —C(═O)—, —S(═O)—, —S(═O) 2 — and —OS(═O) 2 —, provided that —C(═O)O— is excluded; B represents a group containing a hydrocarbon group having 4 or more carbon atoms wherein either a tertiary or a quaternary carbon atom is contained, when n is 2 or greater, the two or more -(A-B) groups may be identical to or different from each other; and M + represents an organic onium ion.

  一种感光射线敏感或辐射敏感的树脂组合物包括下列通式（I）中的任何一种化合物；其中：Ar代表可能具有除了-(A-B)基团以外的取代基的芳香环；n是大于等于1的整数；A代表从单键、烷基、—O—、—S—、—C（═O）—、—S（═O）—、—S（═O）2—和—OS（═O）2—中任意选择一个或两个或两个以上成员的组合，但不包括—C（═O）O—；B代表一个含有4个或更多碳原子的烃基团，其中包含一个三级或季级碳原子，当n大于等于2时，两个或两个以上的-(A-B)基团可以相同或不同；M+代表有机阳离子。
• CHEMICAL AMPLIFICATION RESIST COMPOSITION, AND MOLD PREPARATION METHOD AND RESIST FILM USING THE SAME
  申请人：Fujimori Toru

  公开号：US20120006788A1

  公开（公告）日：2012-01-12

  A chemical amplification resist composition that is used for preparation of a mold, and a mold preparation method and a resist film each using the composition are provided.

  提供一种用于制备模具的化学放大型光阻组合物，以及使用该组合物的模具制备方法和光阻膜。
• ACTINIC-RAY- OR RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION, ACTINIC-RAY- OR RADIATION-SENSITIVE FILM THEREFROM AND METHOD OF FORMING PATTERN
  申请人：FUJIFILM Corporation

  公开号：US20140099572A1

  公开（公告）日：2014-04-10

  According to one embodiment, an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition includes a compound (P) containing at least one phenolic hydroxyl group and at least one group with a phenolic hydroxyl group whose hydrogen atom is replaced by any of groups of general formula (1) below.

  根据一种实施例，一种光致射线或辐射敏感的树脂组合物包括化合物（P），该化合物含有至少一个酚羟基和至少一个含有酚羟基的基团，该基团的氢原子被下列通式（1）的任何基团所替换。
• Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film using the composition and pattern forming method
  申请人：Inasaki Takeshi

  公开号：US08735048B2

  公开（公告）日：2014-05-27

  An actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition comprising (P) a resin having a repeating unit represented by the following formula (1), a resist film using the composition, and a pattern forming method.

  一种感光树脂组合物，它是一种紫外线或辐射敏感的树脂组合物，包括(P)具有以下公式（1）所表示的重复单元的树脂，使用该组合物的光阻膜，以及形成图案的方法。