4-hydroxy-3,5-dimethyl phenyl dimethyl sulphonium chloride

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 酚类
• 英文名称: 4-hydroxy-3,5-dimethyl phenyl dimethyl sulphonium chloride
• 英文别名: 4-hydroxy-3,5-dimethyl phenyl dimethyl sulfonium chloride；Dimethyl-(4-hydroxy-3,5-dimethyl-phenyl)-sulfoniumchlorid；(4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl)-dimethylsulfanium;chloride
• 化学式: C₁₀H₁₅OS*Cl
• 分子量: 218.748
• InChiKey: RMGYNVXHFIZVCG-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -0.75
• 重原子数：
  13
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.4
• 拓扑面积：
  21.2
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  4-hydroxy-3,5-dimethyl phenyl dimethyl sulphonium chloride 生成 2,6-二甲基-4-(甲硫基)苯酚
  参考文献：
  名称：

  Goethals,E.; de Radzitzky,D., Bulletin des Societes Chimiques Belges, 1964, vol. 73, p. 546 - 559

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  2,6-二甲基苯酚 、 二甲基亚砜 在 盐酸 作用下， 以 甲醇 为溶剂， 反应 6.0h， 生成 4-hydroxy-3,5-dimethyl phenyl dimethyl sulphonium chloride
  参考文献：
  名称：

  Photoresist composition for deep ultraviolet lithography comprising a mixture of photoactive compounds

  摘要：

  本发明涉及一种新型光刻胶组合物，可以用水性碱性溶液进行显影，并且能够在深紫外曝光波长下成像。该发明还涉及一种成像新型光刻胶的方法以及新型光酸发生剂。

  公开号：

  US20030235782A1

文献信息

• Photoresist composition for deep ultraviolet lithography comprising a mixture of photoactive compounds
  申请人：——

  公开号：US20030235782A1

  公开（公告）日：2003-12-25

  The present invention relates to a novel photoresist composition that can be developed with an aqueous alkaline solution, and is capable of being imaged at exposure wavelengths in the deep ultraviolet. The invention also relates to a process for imaging the novel photoresist as well as novel photoacid generators.

  本发明涉及一种新型光刻胶组合物，可以用水性碱性溶液进行显影，并且能够在深紫外曝光波长下成像。该发明还涉及一种成像新型光刻胶的方法以及新型光酸发生剂。
• Photoactive compounds
  申请人：——

  公开号：US20040229155A1

  公开（公告）日：2004-11-18

  The present invention relates to a novel photoactive compounds that can be used in formulating photoresist compositions.

  本发明涉及一种新型光敏化合物，可用于制备光刻胶组成。
• Photoactive Compounds
  申请人：Rahman Dalil M.

  公开号：US20080058542A1

  公开（公告）日：2008-03-06

  The present invention relates to a novel photoactive compounds that can be used in formulating photoresist compositions.

  本发明涉及一种新型光活性化合物，可用于制备光阻组合物。
• [EN] PHOTOACTIVE COMPOUNDS<br/>[FR] COMPOSES PHOTOACTIFS
  申请人：CLARIANT INT LTD

  公开号：WO2004101490A3

  公开（公告）日：2005-01-06
• PHOTOACTIVE COMPOUNDS
  申请人：AZ Electronic Materials USA Corp.

  公开号：EP1641750A2

  公开（公告）日：2006-04-05