Gegen oxidativen, thermischen oder strahlungsinduzierten Abbau empfindliches organisches Material kann durch Zusatz einer stabilisierenden Menge einer Verbindung der Formel
worin R, Wasserstoff oder C1-C4Alkyl ist, R2 C1-C17-Alkyl, Cyclohexyl, Cyclohex-3-enyl, Phenyl oder 3,5-Di-tert.-butyl-4-hydroxy-phenyl bedeutet, wobei R, und R2 zusammen mindestens 5 Kohlenstoffatome aufweisen müssen, oder R1 und R2 zusammen C5-C11Alkylen bilden, ausgezeichnet stabilisiert werden.
对氧化、热或辐射引起的降解敏感的有机材料可通过添加一定量的式化合物来稳定,式中
其中 R 是氢或 C1-C4 烷基,R2 是 C1-C17 烷基、环己基、环己-3-烯基、苯基或 3,5-二叔丁基-
4-羟基苯基,其中 R 和 R2 加在一起必须至少有 5 个碳原子,或 R1 和 R2 加在一起形成 C5-C11 烷基。