4-tert-butyl-2-methyl-benzenesulfonic acid

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 4-tert-butyl-2-methyl-benzenesulfonic acid
• 英文别名: 4-tert-Butyl-2-methyl-benzolsulfonsaeure；4-Tert-butyl-2-methylbenzenesulfonic acid
• 化学式: C₁₁H₁₆O₃S
• 分子量: 228.312
• InChiKey: WRZWPTWCDUSESD-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.7
• 重原子数：
  15
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.45
• 拓扑面积：
  62.8
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  4-tert-butyl-2-methyl-benzenesulfonic acid 、 alkaline earth salt of/the/ methylsulfuric acid 生成 2-羟基-4-甲基苯甲醛
  参考文献：
  名称：

  Baur, Chemische Berichte, 1894, vol. 27, p. 1606

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  3-叔丁基甲苯 在 硫酸 作用下， 生成 4-tert-butyl-2-methyl-benzenesulfonic acid
  参考文献：
  名称：

  Kelbe; Baur, Chemische Berichte, 1883, vol. 16, p. 2560

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Kelbe; Baur, Chemische Berichte, 1883, vol. 16, p. 2560
  作者：Kelbe、Baur

  DOI：——

  日期：——
• PATTERN FORMING PROCESS AND SHRINK AGENT
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：US20160139512A1

  公开（公告）日：2016-05-19

  A negative pattern is formed by applying a resist composition onto a substrate, exposing the resist film, and developing the exposed resist film in an organic solvent developer. The process further involves coating the negative pattern with a shrink agent solution of a polymer comprising recurring units capable of forming lactone under the action of acid in a C 7 -C 16 ester or C 8 -C 16 ketone solvent, baking the coating, and removing the excessive shrink agent via organic solvent development for thereby shrinking the size of spaces in the pattern.
• US9632415B2
  申请人：——

  公开号：US9632415B2

  公开（公告）日：2017-04-25
• Baur, Chemische Berichte, 1894, vol. 27, p. 1606
  作者：Baur

  DOI：——

  日期：——
• Noelting, Chemische Berichte, 1892, vol. 25, p. 791
  作者：Noelting

  DOI：——

  日期：——