O-methacryloyl cyclohexanone oxime

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氮化合物
• 英文名称: O-methacryloyl cyclohexanone oxime
• 英文别名: (Cyclohexylideneamino) 2-methylprop-2-enoate
• 化学式: C₁₀H₁₅NO₂
• 分子量: 181.235
• InChiKey: IFFVLWPXTVIFLZ-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.3
• 重原子数：
  13
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.6
• 拓扑面积：
  38.7
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  环己酮肟 、 丙二烯 、 一氧化碳 在 四(三苯基膦)钯 作用下， 以 四氢呋喃 为溶剂， 反应 16.0h， 以56%的产率得到O-methacryloyl cyclohexanone oxime
  参考文献：
  名称：

  Palladium catalysed reactions of allenes, carbon monoxide and nucleophiles

  摘要：

  Hydridopalladium(II) species generated in situ by oxidative addition of Pd(0) to acetic acid or acidic hydroxyl substrates (phenols, oximes) catalyse the termolecular assembly of allenes, CO and amines (primary, secondary) or oxygen nucleophiles to give methacrylamides or methacrylate esters and derivatives thereof in good to excellent yield. (C) 1998 Elsevier Science Ltd. All rights reserved.

  DOI：

  10.1016/s0040-4020(98)00115-x

文献信息

• Verfahren zur Herstellung von Oximmethacrylaten
  申请人：Röhm GmbH

  公开号：EP0741126A2

  公开（公告）日：1996-11-06

  Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von Methacryloylestern von Ketoximen der allgemeinen Formel I worin R1einen Alkylrest mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen oder R2einen Alkylrest mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen bedeuten oder worin R1 und R2zusammen mit dem Keto-Kohlenstoffatom einen 5 bis 12-gliedrigen alicyclischen Ring bilden, wobei man ein Ketoxim der allgemeinen Formel II    worin R1 und R2 die angegebenen Bedeutungen besitzen mit Methacrylsäureanhydrid umsetzt.

  本发明涉及一种通式 I 的酮肟甲基丙烯酰酯的制备工艺 其中 R1 是具有 1 至 4 个碳原子的烷基或 R2 是具有 1 至 4 个碳原子的烷基，或其中 R1 和 R2 与酮碳原子一起形成 5 至 12 元脂环、 其中通式 II 的酮肟 的酮肟与甲基丙烯酸酐反应。
• PHOTOSENSITIVE POLYMER AND PHOTORESIST COMPOSITION
  申请人：KIM Deog-Bae

  公开号：US20080057436A1

  公开（公告）日：2008-03-06

  A photosensitive polymer which can form a fine circuit pattern by exacting with extreme UV and deep UV, and can improve a line width stability of a pattern by significantly reducing line edge roughness after developing, and a photoresist composition including the same are disclosed. The photosensitive polymer for extreme UV and deep UV includes a repeating unit represented by the following Formula 1, in Formula 1, R 1 and R 1 ′ are independently a hydrogen atom, methyl group, or trifluoromethyl group, and R 2 is wherein Ra and Rb are independently alkyl group of 1 to 10 carbon atoms, aryl group of 6 to 10 carbon atoms, or arylalkyl group of 7 to 12 carbon atoms, and can be connected together to form ring, and a and b are mol % of each repeating unit with respect to the total repeating unit constituting the photosensitive polymer, and are 1 to 99 mol % and 1 to 99 mol % respectively.
• US7504195B2
  申请人：——

  公开号：US7504195B2

  公开（公告）日：2009-03-17