4-(1-methylpropyl)resorcinol

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 4-(1-methylpropyl)resorcinol
• 英文别名: 4-sec-butyl-resorcin；4-sec-butylresorcin；4-Butan-2-ylbenzene-1,3-diol
• 化学式: C₁₀H₁₄O₂
• 分子量: 166.22
• InChiKey: YSOHCCUHDUKAGE-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.9
• 重原子数：
  12
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.4
• 拓扑面积：
  40.5
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  三氟乙腈 、 4-(1-methylpropyl)resorcinol 在 zinc(II) chloride 作用下， 以 乙醚 为溶剂， 生成
  参考文献：
  名称：

  BE853558

  摘要：

  公开号：

文献信息

• ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE FILM, MASK BLANK PROVIDED WITH ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE FILM, PATTERN FORMING METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE, ELECTRONIC DEVICE, AND COMPOUND
  申请人：FUJIFILM Corporation

  公开号：US20160280675A1

  公开（公告）日：2016-09-29

  The actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition includes a crosslinking agent having a polarity converting group and an alkali-soluble resin, in which the polarity converting group is a group capable of decomposing by the action of an alkaline aqueous solution to generate a carboxylic acid or sulfonic acid on the side having a crosslinking group.

  感光树脂或辐射敏感树脂组合物包括具有极性转换基团和可溶于碱性树脂的交联剂，其中极性转换基团是一种能够通过碱性水溶液作用分解并在具有交联基团的侧面生成羧酸或磺酸的基团。
• POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
  申请人：HIRANO Shuji

  公开号：US20080248419A1

  公开（公告）日：2008-10-09

  A positive resist composition, includes: (A) a resin that has a group having absorption at 248 nm at a main chain terminal of the resin (A), and a pattern forming method uses the composition.

  一种正性光刻胶组合物，包括：（A）一种具有在树脂（A）的主链端具有在248nm处吸收的基团的树脂，并且使用该组合物进行图案形成的方法。
• ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, AND RESIST FILM, RESIST-COATED MASK BLANKS, RESIST PATTERN FORMING METHOD AND PHOTOMASK EACH USING THE COMPOSITION
  申请人：FUJIFILM CORPORATION

  公开号：US20150010855A1

  公开（公告）日：2015-01-08

  There is provided an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition containing (α) a compound represented by the formula (αI) capable of generating an acid having a size of 200 Å 3 or more in volume and (β) a compound capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation, and the formula (αI) is defined as herein, and a resist film formed using the actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition, a resist-coated mask blanks coated with the resist film, a resist pattern forming method comprising exposing the resist film and developing the exposed film, a photomask obtained by exposing and developing the resist-coated mask blanks, a method for manufacturing an electronic device, comprising the resist pattern forming method and an electronic device manufactured by the manufacturing method of an electronic device.

  提供一种感光或辐射敏感的组合物，其中包含(α)一种化合物，其由公式(αI)表示，能够产生大小为200Å3或更大的体积的酸，以及(β)一种化合物，能够在受到光辐射或辐射时产生酸，公式(αI)的定义如本文所述。还提供了使用该感光或辐射敏感组合物形成的光阻膜，涂有光阻膜的光阻涂层掩模坯料，包括曝光光阻膜和显影曝光后膜的光阻图案形成方法，通过曝光和显影涂有光阻涂层的掩模坯料获得的光掩模，以及一种电子器件的制造方法，包括光阻图案形成方法和制造电子器件的电子器件制造方法，以及通过该电子器件制造方法制造的电子器件。
• HAIR DEFORMATION TREATMENT AGENT
  申请人：Kao Corporation

  公开号：EP3228300A1

  公开（公告）日：2017-10-11

  An agent for hair deforming treatment comprising the following components (A), (B) and (C) : (A) glyoxylic acid, or a hydrate or a salt thereof, (B) resorcin, and (C) water, wherein the molar ratio of the content of the component (B) to the content of the component (A), (B)/(A), is 0.2 or more and 5 or less.

  一种用于头发变形处理的药剂，由以下成分组成(A)、(B)和(C)： (A) 乙二酸，或其水合物或鹽、 (B) 间苯二酚，以及 (C) 水、 其中(B)组分含量与(A)组分含量的摩尔比(B)/(A)为 0.2 或 0.2 以上 5 或 5 以下。
• ４−アルキルレソルシノール誘導体及びこれを有効成分とする美白剤
  申请人：株式会社資生堂

  公开号：JP2006124358A

  公开（公告）日：2006-05-18

  【課題】 美白効果や安全性に優れる４−アルキルレソルシノール誘導体を提供する。【解決手段】 ４−（１−メチルプロピル）レソルシノール及び４−（１−メチルブチル）レソルシノールから選ばれる４−アルキルレソルシノール誘導体及びその塩。これら誘導体は、メラニン生成抑制効果、チロシナーゼ活性阻害作用が高く、細胞毒性が低い。本発明の４−アルキルレソルシノール誘導体は、４−プロピオニルレソルシノールあるいは４−ブチリルレソルシノールに対し、有機金属化合物を反応させてカルボニル炭素にメチル基を導入した後、還元するか、あるいは、４−アセチルレソルシノールに対し、有機金属化合物を反応させてカルボニル炭素にエチル基あるいはｎ−プロピル基を導入した後、還元することにより得られる。【選択図】 なし

  提供具有优异美白效果和安全性的 4-烷基间苯二酚衍生物。选自 4-(1-甲基丙基)间苯二酚和 4-(1-甲基丁基)间苯二酚的 4-烷基间苯二酚衍生物及其盐类。这些衍生物对黑色素生成和酪氨酸酶活性有较强的抑制作用，细胞毒性较低。本发明的 4-烷基间苯二酚衍生物是通过将 4-丙酰基间苯二酚或 4-丁酰基间苯二酚与有机金属化合物反应，在羰基碳上引入一个甲基，然后还原得到的。4-乙酰基间苯二酚与有机金属化合物反应，在羰基碳上引入乙基或正丙基，然后还原，即可得到本发明的衍生物。无。