4-(diethylamino)diazobenzene

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氮化合物
• 英文名称: 4-(diethylamino)diazobenzene
• 英文别名: p-Diazodiethylaniline；4-diazo-N,N-diethylcyclohexa-1,5-dien-1-amine
• 化学式: C₁₀H₁₅N₃
• 分子量: 177.249
• InChiKey: YZYFPMLAGIGAJJ-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2
• 重原子数：
  13
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.5
• 拓扑面积：
  5.2
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  4-(diethylamino)diazobenzene 在 盐酸 、 锌 作用下， 以 水 为溶剂， 反应 4.0h， 生成 N,N-二乙基对苯二胺
  参考文献：
  名称：

  一种阳离子蓝染料的制备方法

  摘要：

  本发明属于染料技术领域，具体涉及一种阳离子蓝染料的制备方法。本发明首次采用化合物II作为重氮组分、化合物I作为偶合组分合成阳离子蓝染料，具有工艺简单，绿色环保，产品纯度、收率高等优点。且发明人经过多次中试以上大规模生产实验发现，反应过程中的母液(例如步骤(2)、(3)、(4)的母液)不需要处理即可循环使用6‑8次，高盐、高COD、高色度的废水量大幅度减少，并且在进一步提高产品收率和节约反应试剂成本的同时，有效改善了工作环境，产品仍保持较高的纯度，使产品的质量得到保证，降低了生产成本，具有明显的经济效益、社会效益和环境效益。

  公开号：

  CN110724395B
• 作为产物：
  描述：

  N,N-二乙基苯胺 在 盐酸 、 sodium nitrite 作用下， 以 水 为溶剂， 反应 2.0h， 生成 4-(diethylamino)diazobenzene
  参考文献：
  名称：

  一种阳离子蓝染料的制备方法

  摘要：

  本发明属于染料技术领域，具体涉及一种阳离子蓝染料的制备方法。本发明首次采用化合物II作为重氮组分、化合物I作为偶合组分合成阳离子蓝染料，具有工艺简单，绿色环保，产品纯度、收率高等优点。且发明人经过多次中试以上大规模生产实验发现，反应过程中的母液(例如步骤(2)、(3)、(4)的母液)不需要处理即可循环使用6‑8次，高盐、高COD、高色度的废水量大幅度减少，并且在进一步提高产品收率和节约反应试剂成本的同时，有效改善了工作环境，产品仍保持较高的纯度，使产品的质量得到保证，降低了生产成本，具有明显的经济效益、社会效益和环境效益。

  公开号：

  CN110724395B

文献信息

• Diazotype compositions and materials
  申请人：Andrews Paper and Chemical Co., Inc.

  公开号：EP0122523A2

  公开（公告）日：1984-10-24

  The use of soluble methylol compounds from primary or secondary amines or ammonia with formaldehyde in diazotypes improves solution compatibility and prevents coupler migration upon storage of diazotype materials. The methylol compounds may be reacted with couplers separately or added to the coating preparations.

  在重氮涂料中使用由伯胺、仲胺或氨与甲醛组成的可溶性甲醇化合物，可提高溶液的相容性，并防止重氮涂料储存时耦合剂迁移。甲醇化合物可以单独与耦合剂反应，也可以添加到涂层制剂中。
• Water-developable, bi-layer or mono-layer, negative-working, lithographic plate
  申请人：W.R. GRACE & CO.

  公开号：EP0170041A2

  公开（公告）日：1986-02-05

  This invention is directed to the reaction product of an O-epoxyalkylated tetrakis (hydroxyphenyl) alkane resin with a phenol, which is used either as an upper layer over a lower layer of a diazo resin in a bi-layer system or as a homogeneous mixture with a diazo resin in a mono-layer system to provide a water-developable, negative-working, lithographic printing plate.

  本发明涉及一种 O-环氧烷基化四（羟基苯基）烷烃树脂与苯酚的反应产物，在双层体系中作为上层覆盖在下层重氮树脂上，或在单层体系中作为与重氮树脂的均匀混合物使用，以提供一种水显影、底片工作的平版印刷板。
• Acetal copolymers and use thereof in photosensitive compositions
  申请人：Kodak Polychrome Graphics Company Ltd.

  公开号：EP1162209A1

  公开（公告）日：2001-12-12

  The present invention relates to particular acetal copolymers and radiation-sensitive compositions comprising said copolymers and, inter alia, are excellently suitable for the production of lithographic printing plates. In particular, the invention relates to acetal copolymers containing units of formula wherein each Z is independently selected from the group consisting of O, S, and NR5 with R5 being selected from the group consisting of hydrogen, C1-C4 alkyl and phenyl, the phenyl being optionally substituted with one or two substituents selected from the group consisting of halogen, C1-C4 alkoxy and C1-C4 alkyl; R3 and R4 are independently selected from C1-C4 alkyl and a phenyl group, the phenyl being optionally substituted with one or two substituents selected from the group consisting of halogen, C1-C4 alkoxy and C1-C4 alkyl; m is 0, 1 or 2 and n is 0, 1, 2 or 3; each A being the same or different, each C being the same or different and each D being the same or different.

  本发明涉及特殊的缩醛共聚物和由上述共聚物组成的辐射敏感性组合物，尤其适用于平版印刷板的生产。特别是，本发明涉及含有式中单元的缩醛共聚物 式中 每个 Z 独立地选自由 O、S 和 NR5 组成的组，其中 R5 选自由氢、C1-C4 烷基和苯基组成的组，苯基可选择被一个或两个选自由卤素、C1-C4 烷氧基和 C1-C4 烷基组成的组的取代基取代； R3 和 R4 独立选自 C1-C4 烷基和苯基，苯基可任选被一个或两个选自卤素、C1-C4 烷氧基和 C1-C4 烷基的取代基取代；m 为 0、1 或 2，n 为 0、1、2 或 3； 每个 A 相同或不同，每个 C 相同或不同，每个 D 相同或不同。
• PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, DISPLAY MEMBER, AND PROCESS FOR PRODUCING THE SAME
  申请人：TORAY INDUSTRIES, INC.

  公开号：EP1980910A1

  公开（公告）日：2008-10-15

  Disclosed is a photosensitive composition comprising 50 to 5% by weight of a photosensitive organic component and 50 to 95% by weight of a glass powder, wherein the glass powder contains 70 to 85% by weight of Bi2O3, 3 to 15% by weight of SiO2, 5 to 20% by weight of B2O3, 0 to 3% by weight of ZrO2 and 1 to 10% by weight of ZnO, expressed in terms of oxide. The present invention provides a photosensitive composition which enables fine pattern work by photolithography to be used in various members of a flat panel display and a fluorescence emission tube.

  本发明公开了一种光敏组合物，该组合物包括50-5%（重量）的光敏有机组分和50-95%（重量）的玻璃粉，其中玻璃粉含有70-85%（重量）的Bi2O3、3-15%（重量）的SiO2、5-20%（重量）的B2O3、0-3%（重量）的ZrO2和1-10%（重量）的ZnO，以氧化物表示。 本发明提供了一种光敏组合物，它可以在平板显示器和荧光发射管的各种部件中使用光刻技术进行精细图案加工。
• ADHEREND RECOVERY METHOD, ADHEREND RECOVERY DEVICE, GAS GENERATION MEMBRANE, AND RESIN COMPOSITION
  申请人：JSR Corporation

  公开号：EP3040411A1

  公开（公告）日：2016-07-06

  An object of the invention is to provide an adherend recovery method capable of recovering adherends such as cells no matter the types of adherends. [Solution] An adherend recovery method for recovering an adherend from a support includes exposing a stack disposed on the support, the stack including a photosensitive gas generation layer, an adhesive layer and the adherend in this order on the support, generating a gas from the photosensitive gas generation layer by the exposure to separate the support and the stack from each other by the action of the gas, and recovering the adherend from the support by recovering the stack separated.

  本发明的目的是提供一种附着物复原方法，无论附着物的类型如何，都能复原细胞等附着物。 [解决方案］ 一种用于从支架上回收粘附物的粘附物回收方法包括：曝光设置在支架上的堆栈，该堆栈包括依次设置在支架上的光敏气体发生层、粘合剂层和粘附物；通过曝光从光敏气体发生层产生气体，以便在气体的作用下将支架和堆栈相互分离；以及通过回收分离的堆栈从支架上回收粘附物。