4-[1-(4-hydroxyphenyl)-1-methyl-ethyl]pyrogallol

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 4-[1-(4-hydroxyphenyl)-1-methyl-ethyl]pyrogallol
• 英文别名: 4-[2-(4-Hydroxyphenyl)propan-2-yl]benzene-1,2,3-triol
• 化学式: C₁₅H₁₆O₄
• 分子量: 260.29
• InChiKey: DUDHQMBWDYUTSK-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.3
• 重原子数：
  19
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.2
• 拓扑面积：
  80.9
• 氢给体数：
  4
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  4-异丙基苯酚 、 邻苯三酚 在 ion exchange resin 作用下， 以 乙酸乙酯 为溶剂， 反应 2.0h， 以72.68%的产率得到4-[1-(4-hydroxyphenyl)-1-methyl-ethyl]pyrogallol
  参考文献：
  名称：

  树脂法制备4-[1-（4-羟苯基）-1-甲基-乙基]邻苯三酚的方法

  摘要：

  本发明提供了一种树脂法制备4‑[1‑(4‑羟苯基)‑1‑甲基‑乙基]邻苯三酚的方法，包括以下步骤：将4‑异丙烯基苯酚和/或4‑异丙烯基苯酚线性二聚体与邻苯三酚加入与之互溶且能够溶清的有机溶剂中，得到溶清的原料溶液；将原料溶液中加入适量强酸型离子交换树脂，搅拌，完成反应；或，将原料溶液通过装有强酸型离子交换树脂的树脂柱，控制流速，当原料溶液流出树脂柱时，反应完成；将反应后所得反应液经过浓缩、萃取、析晶等后处理程序得到产品。本发明采用树脂法，且所用酸性树脂经活化后可重复使用，具有合成方法简单、对设备要求低、环境污染小等特点；制备得到的4‑[1‑(4‑羟苯基)‑1‑甲基‑乙基]邻苯三酚可广泛应用于微电子、电路产品的制造领域中。

  公开号：

  CN113443969A

文献信息

• 一种酸法合成多羟基酚类化合物的方法
  申请人：辽宁靖帆新材料有限公司

  公开号：CN113620786A

  公开（公告）日：2021-11-09

  本发明提供了一种酸法合成多羟基酚类化合物的方法，包括以下步骤：将4‑异丙烯基苯酚和/或4‑异丙烯基苯酚线性二聚体与邻苯三酚加入与之互溶的溶剂中，所述溶剂为质子性溶剂或非质子性溶剂；使用酸性催化剂进行催化反应；将反应后所得反应液经过萃取、浓缩、析晶等后处理程序即可得到多羟基酚类化合物。本发明使用4‑异丙烯基苯酚和/或4‑异丙烯基苯酚线性二聚体与邻苯三酚在酸性催化剂的作用下，调整二者之间的摩尔比，即可制备得到不同的多羟基化合物；本发明具有合成方法简单、所用原料少、对设备要求低、环境污染小等特点；制备得到的产品符合微电子电路产品的制造的要求，能够广泛应用于符合微电子电路产品的制造要求的原料领域。
• Heat-resistant and flame-retardant or flameproof PUR hot melt adhesive
  申请人：H.B. FULLER LICENSING & FINANCING, INC.

  公开号：EP0587942A1

  公开（公告）日：1994-03-23

  The invention relates to a heat-resistant and flameproof, moisture-reactive PUR hot melt adhesive having a polyester or a polyether as its polyhydroxy component. The polyhydroxy component is segmented by a brominated bisphenol-A-diol. Furthermore, the brominated bisphenol-A-diol can be contained in the PUR hot melt adhesive distributed in block-like form or statistically. The invention further relates to a heat protection laminate consisting of at least two material layers and an adhesive mixture bonding the two layers together which laminate is used for producing labour safety materials which are highly heat resistant and flexible. The adhesive mixture of this laminate contains the following components: a) a heat resistant, moisture-reactive PUR hot melt adhesive containing a halogenated diol compound, b) a phosphoric acid ester, c) a multifunctional isocyanate compound. The interaction of the heat-resistant, moisture-reactive PUR hot melt adhesive containing brominated bisphenol-A-diol as its diol component, the phosphoric acid ester and the multi-functional isocyanate in the adhesive mixture produces heat resistance and high flexibility, in particular in a heat protection laminate. The adhesive mixture according to the invention can be applied directly onto foils. Subsequently, tissue is applied onto the foil pretreated in this manner. The adhesive mixture cures under the influence of moisture.

  本发明涉及一种以聚酯或聚醚为聚羟基成分的耐热、阻燃、防潮 PUR 热熔胶。聚羟基成分由溴化双酚-A-二醇分割而成。此外，溴化双酚-A-二醇可包含在以块状或统计形式分布的 PUR 热熔胶中。 本发明还涉及一种防热层压材料，它由至少两层材料和将两层材料粘合在一起的胶粘剂混合物组成，这种层压材料可用于生产具有高度耐热性和柔韧性的劳动安全材料。这种层压材料的粘合剂混合物包含以下成分： a) 一种含有卤化二元醇化合物的耐热、湿反应 PUR 热熔粘合剂、 b) 一种磷酸酯 c) 一种多功能异氰酸酯化合物。 在粘合剂混合物中，含有溴化双酚-A-二醇作为二元醇成分的耐热、湿气反应型 PUR 热熔粘合剂、磷酸酯和多功能异氰酸酯的相互作用产生耐热性和高柔韧性，特别是在防热层压板中。 本发明的胶粘剂混合物可直接涂抹在铝箔上。然后，再将纸巾涂抹在以这种方式预处理过的箔上。胶粘剂混合物在湿气的影响下固化。
• PRODUCTION METHOD FOR SEMICONDUCTOR SUBSTRATE
  申请人：TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.

  公开号：EP3896522A1

  公开（公告）日：2021-10-20

  Provided is a method for producing a semiconductor substrate which is capable of easily reducing residue of an ion injection mask formed using a composition containing an organopolysiloxane. This method comprises: a mask formation step of forming a mask on a semiconductor substrate to be processed, using an energy-sensitive composition comprising an organopolysiloxane, an ion implantation step of implanting ions into the semiconductor substrate to be processed, the semiconductor substrate being provided with the mask, and a mask removal step of removing the mask, wherein the mask removal step comprises: a first step comprising at least one of: contacting the mask with a first treatment liquid containing an oxidizing agent and irradiating the mask with plasma generated using an oxygen-containing gas, and a second step comprising bringing the mask after being subjected to the first step into contact with a second treatment liquid comprising fluoride ions.

  本发明提供了一种生产半导体衬底的方法，该方法能够轻松减少使用含有有机聚硅氧烷的组合物形成的离子注入掩模的残留物。该方法包括：使用包含有机聚硅氧烷的能量敏感组合物在待处理的半导体衬底上形成掩膜的掩膜形成步骤；将离子注入待处理的半导体衬底的离子注入步骤，该半导体衬底带有掩膜；以及去除掩膜的掩膜去除步骤，其中掩膜去除步骤包括：第一步骤，包括将掩膜与含有氧化剂的第一处理液接触，以及用含氧气体产生的等离子体照射掩膜，以及第二步骤，包括将经过第一步骤处理后的掩膜与含有氟离子的第二处理液接触。
• Photosensitive resin composition, protective film, and liquid crystal display element
  申请人：Chi Mei Corporation

  公开号：US10162260B2

  公开（公告）日：2018-12-25

  The invention shows a photosensitive resin composition which can be used in protective film and liquid crystal display element and provides good transparency and high chemical resistance. The composition includes a complex resin (A), an o-naphthoquinone diazide sulfonate (B), and a solvent (C). The complex resin (A) includes a main chain and a side chain. The main chain includes a repeating unit derived from siloxane (meth)acrylate based monomer (a1-2). The side chain includes a repeating unit derived from siloxane based monomer (a2), and is bonded to the repeating unit derived from siloxane (meth)acrylate based monomer (a1-2). The complex resin (A) satisfies at least one of the following conditions (I) and (II): Condition (I): the main chain further includes a repeating unit derived from unsaturated monomer (a1-1) including a carboxylic acid or a carboxylic anhydride. Condition (II): the siloxane based monomer (a2) includes a monomer (a2-1) represented by formula (A-4).

  本发明展示了一种光敏树脂组合物，可用于保护膜和液晶显示元件，具有良好的透明性和高耐化学腐蚀性。该组合物包括复合树脂（A）、邻萘醌重氮磺酸盐（B）和溶剂（C）。复合树脂（A）包括一条主链和一条侧链。主链包括由硅氧烷（甲基）丙烯酸酯单体（a1-2）衍生的重复单元。侧链包括硅氧烷基单体（a2）衍生的重复单元，并与硅氧烷（甲基）丙烯酸酯基单体（a1-2）衍生的重复单元键合。复合树脂（A）至少满足以下条件（I）和（II）之一： 条件 (I)：主链还包括一个由不饱和单体（a1-1）衍生的重复单元，不饱和单体（a1-1）包括羧酸或羧酸酐。 条件（II）：硅氧烷基单体（a2）包括由式（A-4）表示的单体（a2-1）。
• Novolak resin solution, positive photoresist composition and preparation method thereof
  申请人：——

  公开号：US20040081909A1

  公开（公告）日：2004-04-29

  There is provided a method of producing a resist composition which yields a resist composition with good storage stability, and no fluctuation in characteristics between production lots. There are provided: a novolak resin solution formed by adding benzoquinone to a novolak resin solution produced by dissolving a novolak resin in an organic solvent; a positive photoresist composition comprising the novolak resin solution and a photosensitive component; a positive photoresist composition comprising the novolak resin solution, a photosensitive component, and hydroquinone; and a method of producing a positive photoresist composition involving mixing the novolak resin solution described above and a photosensitive component.

  本发明提供了一种光刻胶组合物的生产方法，该方法生产的光刻胶组合物具有良好的储 存稳定性，并且在不同批次生产之间不会出现特性波动。提供了：通过向将酚醛树脂溶解在有机溶剂中生成的酚醛树脂溶液中添加苯醌而形成的酚醛树脂溶液；由酚醛树脂溶液和感光成分组成的正性光刻胶组合物；由酚醛树脂溶液、感光成分和对苯二酚组成的正性光刻胶组合物；以及生产正性光刻胶组合物的方法，其中包括混合上述酚醛树脂溶液和感光成分。