申请人:IMPERIAL CHEMICAL INDUSTRIES PLC
公开号:EP0072608A2
公开(公告)日:1983-02-23
The invention relates to a process for the manufacture of a cephalosporin derivative of the formula I:-
in which X is a sulphur or oxygen atom or a sulphinyl radical, R' is any one of the C-3 substituents from antibacterially- active cephalosporins known in the art, R2 is a hydrogen atom or a 1-6C alkyl or 2-6C alkenyl radical, R3 is a hydrogen atom or one of a variety of radicals defined in the specification, and the pharmaceutically-acceptable acid- and base- addition salts thereof, characterised by reaction of a compound of the formula IX:-
in which R16 and R17 individually have one of the values given above for R2 and R3, or a derivative thereof in which the carbonyl group is masked, with a compound of the formula X:-
in which R18 is a hydrogen atom or any one of the cephalosporin 3-carboxylic acid protecting groups known in the art; whereafter, when R18 is other than a hydrogen atom, the protecting group R18 is replaced by hydrogen by conventional means.
本发明涉及一种式 I 的头孢菌素衍生物的制造工艺
其中 X 是硫或氧原子或亚磺酰基,R'是本领域已知的具有抗菌活性的头孢菌素的 C-3 取代基中的任一个,R2 是氢原子或 1-6C 烷基或 2-6C 烯基,R3 是氢原子或说明书中定义的各种基之一,以及其药学上可接受的酸和碱加成盐,其特征在于与式 IX 的化合物反应: - 其中 R16 和 R17 各自具有上述 R2 和 R3 的数值之一,或与式 IX 的化合物反应: - 其中 R16 和 R17 各自具有上述 R2 和 R3 的数值之一,或与式 IX 的化合物反应: - 其中 R16 和 R17 各自具有上述 R2 和 R3 的数值之一,或与式 IX 的化合物反应: - 其中 R16 和 R17 各自具有上述 R2 和 R3 的数值之一。
式中 R16 和 R17 分别具有上述 R2 和 R3 的值之一,或其衍生物(其中羰基被遮蔽)与式 X:- 的化合物反应。
其中 R18 为氢原子或本领域已知的任何一种头孢菌素 3-羧酸保护基团;此后,当 R18 不是氢原子时,保护基团 R18 通过常规方法被氢取代。