2-[(2,2-Diphenylacetyl)amino]ethanesulfonic acid

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 2-[(2,2-Diphenylacetyl)amino]ethanesulfonic acid
• 化学式: C₁₆H₁₇NO₄S
• 分子量: 319.4
• InChiKey: DBFWRHWHOHZJHD-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.7
• 重原子数：
  22
• 可旋转键数：
  6
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.19
• 拓扑面积：
  91.8
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  4

文献信息

• Nouveaux dérivés acylés de la taurine et leurs sels et procédé pour leur préparation
  申请人：SOCIETE BFB

  公开号：EP0022022A1

  公开（公告）日：1981-01-07

  L'invention concerne des dérivés acylés de la taurine de formule: dans laquelle l'un des deux groupes RI et R2 peut représenter un atome d'hydrogène, l'autre ou chacun des deux représentant un groupe alkyle, aryle ou arylalkyle (à l'exclusion des cas où R1 étant un atome d'hydrogène, R2 est un groupe méthyle ou éthyle) et leurs sels et en particulier leurs sels avec les aminoacides. Ces dérivés sont utiles comme médicaments cardioves- culaires et neurotropes.

  本发明涉及式中两个基团 RI 和 R2 中的一个可以代表氢原子，另一个或两个基团中的每一个代表烷基、芳基或芳烷基（不包括 R1 为氢原子而 R2 为甲基或乙基的情况）的牛磺酸酰化衍生物及其盐，特别是它们与氨基酸的盐。 这些衍生物可用作强心剂和神经促进剂。
• COMPOUND, ACTIVE LIGHT SENSITIVE OR RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM USING SAME, RESIST-COATED MASK BLANK, PHOTOMASK, PATTERN FORMING METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE, AND ELECTRONIC DEVICE
  申请人：FUJIFILM Corporation

  公开号：US20160116840A1

  公开（公告）日：2016-04-28

  Provided is an active light sensitive or radiation sensitive resin composition which contains a compound (A) represented by General Formula (I) or (II): in the formulae, each of Y 1 and Y 2 represents a monovalent organic group; each of M 1 + and M 2 + represents an organic onium ion; each of X 1 and X 2 represents a group that is represented by —S—, —NH—, or —NR 1 —; R 1 represents a monovalent organic group; each of n1 and n2 represents an integer of 1 or more; and R 1 and Y 1 or Y 2 may bond with each other to form a ring.