1-isopropoxy-1,2,3,4-tetrahydronaphthalene

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 四氢化萘
• 英文名称: 1-isopropoxy-1,2,3,4-tetrahydronaphthalene
• 英文别名: 1-Propan-2-yloxy-1,2,3,4-tetrahydronaphthalene；1-propan-2-yloxy-1,2,3,4-tetrahydronaphthalene
• 化学式: C₁₃H₁₈O
• 分子量: 190.285
• InChiKey: RMTFRZXBAJMCOZ-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.2
• 重原子数：
  14
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.54
• 拓扑面积：
  9.2
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  1,2,3,4-四氢-1-萘酚 、 异丙醇 在 silver hexafluoroantimonate 、 三苯基膦氯金 作用下， 以 1,2-二氯乙烷 为溶剂， 反应 1.5h， 以73%的产率得到1-isopropoxy-1,2,3,4-tetrahydronaphthalene
  参考文献：
  名称：

  醇的金催化 SN1 型反应生成醚和 Cbz 保护的胺

  摘要：

  据报道，使用金催化的微波协议通过分子间 SN1 型反应活化醇，直接形成不对称醚和 N-苄氧基氨基甲酸酯 (Cbz) 保护的胺。结果表明该反应具有高度重现性和耐湿性，并且获得了中等至高的产品产率（53-99%）。值得注意的是，醇的分子间催化胺化直接提供 Cbz 保护的胺是迄今为止前所未有的使用金催化。

  DOI：

  10.1055/s-0034-1380128

文献信息

• AMINO ACID COMPOUNDS AND METHODS OF USE
  申请人：Pliant Therapeutics, Inc.

  公开号：US20200109141A1

  公开（公告）日：2020-04-09

  The invention relates to compounds of formula (I): or a salt thereof, wherein R 1 , G, L 1 , L 2 , L 3 , and Y are as described herein. Compounds of formula (I) and pharmaceutical compositions thereof are inhibitors of one, or both of, αvβ 1 integrin and αvβ 6 integrin that are useful for treating fibrosis such as in nonalcoholic steatohepatitis (NASH), idiopathic pulmonary fibrosis (IPF) and nonspecific interstitial pneumonia (NSIP).

  本发明涉及如下公式(I)的化合物： 或其盐，其中R1、G、L1、L2、L3和Y如本文所述。公式(I)的化合物及其药物组合物是αvβ1整合素和/或αvβ6整合素的一种或两种的抑制剂，用于治疗纤维化，如非酒精性脂肪肝炎（NASH）、特发性肺纤维化（IPF）和非特异性间质性肺炎（NSIP）。
• COMPOUND, ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM, AND PATTERN FORMATION METHOD, AND METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE USING SAME, AND ELECTRONIC DEVICE
  申请人：FUJIFILM CORPORATION

  公开号：US20160024005A1

  公开（公告）日：2016-01-28

  There is provided an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition containing a compound represented by the following formula (1) or (2), and the formula (1) and (2) are defined as herein, and a resist film comprising the actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, and a pattern forming method comprising a step of exposing the resist film, and a step of developing the exposed film, and a method for manufacturing an electronic device, comprising the pattern forming method, and an electronic device manufactured by the manufacturing method of an electronic device.

  提供了一种包含下列式子（1）或（2）所代表的化合物的光致射线敏感或辐射敏感的树脂组合物，其中式（1）和（2）的定义如本文所述，以及包括该光致射线敏感或辐射敏感的树脂组合物的光阻膜，以及包括曝光光阻膜的步骤和显影曝光膜的步骤的图案形成方法，以及包括图案形成方法的制造电子装置的方法，以及由电子装置的制造方法制造的电子装置。
• PATTERN FORMING METHOD, ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND RESIST FILM
  申请人：Enomoto Yuichiro

  公开号：US20120282548A1

  公开（公告）日：2012-11-08

  Provided is a pattern forming method comprising (i) a step of forming a film from an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, (ii) a step of exposing the film, and (iii) a step of developing the exposed film by using an organic solvent-containing developer, wherein the actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition comprises (A) a resin capable of decreasing the solubility for an organic solvent-containing developer by the action of an acid, (B) a compound capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation, (D) a solvent, and (G) a compound having at least either one of a fluorine atom and a silicon atom and having basicity or being capable of increasing the basicity by the action of an acid.

  提供的是一种形成图案的方法，包括(i)使用光致或辐射敏感树脂组成物形成薄膜的步骤，(ii)曝光薄膜的步骤，以及(iii)使用有机溶剂含有的显影剂显影曝光后的薄膜的步骤，其中光致或辐射敏感树脂组成物包括(A)一种能够通过酸的作用降低有机溶剂含有的显影剂的溶解度的树脂，(B)一种能够在光致或辐射照射下生成酸的化合物，(D)一种溶剂，以及(G)一种具有氟原子和硅原子中的至少一种，并具有碱性或能够通过酸的作用增加碱性的化合物。
• ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM, PATTERN FORMING METHOD, MANUFACTURING METHOD OF ELECTRONIC DEVICE USING THE SAME, AND ELECTRONIC DEVICE
  申请人：FUJIFILM CORPORATION

  公开号：US20150185612A1

  公开（公告）日：2015-07-02

  There is provided an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition comprising: (A) a resin having a repeating unit represented by the specific formula and a group capable of decomposing by an action of an acid to produce a polar group; and an ionic compound represented by the specific formula, and a resist film comprising the actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition.

  提供一种光致射线敏感或辐射敏感的树脂组合物，包括：（A）具有特定公式表示的重复单元和能够通过酸作用分解产生极性基团的基团的树脂；以及具有特定公式表示的离子化合物，以及包括该光致射线敏感或辐射敏感的树脂组合物的抗蚀膜。
• A SN1 mechanistic approach to the Williamson ether reaction via photoredox catalysis applied to benzylic C(sp3)–H bonds
  作者：Nicholas A. Fitzpatrick、Leila Zamani、Mrinmoy Das、Hatice G. Yayla、Manjinder S. Lall、Patricia Z. Musacchio

  DOI：10.1016/j.tet.2022.132986

  日期：2022.10

  The Williamson ether reaction typically requires harsh conditions including strong base, elevated temperatures and long reaction times. The importance of ethers in valuable small molecules has thus motivated a search for mild alternatives. We report on a photochemical SN1 reaction that employs C–H precursors in place of C–Br/Cl/OTs electrophiles. The key design in achieving the SN1 approach relies on

  奉献：这篇文章献给 Stephen F. Martin 教授，我在本科时就开始了他的实验室。正是在这里，我意识到我对有机化学的热爱，我将其归功于史蒂夫努力在他的团队中建立的关怀环境。这项工作：威廉姆森醚反应通常需要苛刻的条件，包括强碱、高温和长反应时间。因此，醚在有价值的小分子中的重要性促使人们寻找温和的替代品。我们报告了使用 C-H 前体代替 C-Br/Cl/OTs 亲电试剂的光化学 S N 1 反应。实现 S N的关键设计一种方法依赖于通过光氧化还原催化的形式氢化物提取过程从给定的 C-H 键直接生成碳正离子。实现了由 1°、2° 和 3° 醇组成的广泛底物范围，包括与威廉姆森醚条件不兼容的碱敏感官能团的示例。还证明了药物支架的后期醚化。