(R)-1-N-Boc-4-N-Fmoc-2-哌嗪甲酸 | 209593-18-0

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 芴
• 中文名称: (R)-1-N-Boc-4-N-Fmoc-2-哌嗪甲酸
• 中文别名: (R)-1-n-boc-4-n-Fmoc-2-哌嗪羧酸
• 英文名称: (2R)-1-tert-Butoxycarbonyl-4-(9-fluorenylmethyloxycarbonyl)-2-piperazinecarboxylic acid
• 英文别名: (R)-1-N-Boc-4-N-Fmoc-2-Piperazine carboxylic acid；(2R)-4-(9H-fluoren-9-ylmethoxycarbonyl)-1-[(2-methylpropan-2-yl)oxycarbonyl]piperazine-2-carboxylic acid
• CAS: 209593-18-0
• 化学式: C₂₅H₂₈N₂O₆
• 分子量: 452.507
• InChiKey: ZVHNNCSUTNWKFC-OAQYLSRUSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.5
• 重原子数：
  33
• 可旋转键数：
  6
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.4
• 拓扑面积：
  96.4
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  6

文献信息

• [EN] PIPERAZINE COMPOUNDS AS INHIBITORS OF MMP OR TNF<br/>[FR] COMPOSES DE PIPERAZINE INHIBITEURS DE METALLOPROTEASE MATRICIELLE (MMP) OU DE TNF
  申请人：FUJISAWA PHARMACEUTICAL CO., LTD.

  公开号：WO1998027069A1

  公开（公告）日：1998-06-25

  (EN) A compound of formula (I) wherein A is a sulfonyl or a carbonyl; R1 is an optionally substituted aryl, an optionally substituted heterocyclic group, an optionally substituted lower alkyl or an optionally substituted lower alkenyl; R2 is a hydrogen, an optionally substituted lower alkyl, an optionally substituted aryl or an optionally substituted heterocyclic group; R3 is an optionally substituted lower alkyl, an optionally substituted lower alkoxy, an optionally substituted aryloxy, an optionally substitued lower alkenyl, an optionally substituted aryl, an optionally substituted heterocyclic group or an optionally substitued amino; R4 is a hydrogen, an optionally substituted lower alkyl, an optionally substituted aryl or an optionally substituted heterocyclic group; R5 is a hydrogen, an optionally substituted lower alkyl, an optionally substituted aryl or an optionally substituted heterocyclic group; and R10 is a hydroxy or a protected hydroxy, and a pharmaceutically acceptable salt thereof. The compound of the present invention is useful as a medicament for prophylactic and therapeutic treatment of MMP- or TNF$g(a)-mediated diseases.(FR) Composé de la formule (I) dans laquelle A est un sulfuryle ou un carbonyle; R1 est un aryle éventuellement substitué, un groupe hétérocyclique éventuellement substitué, un alkyle inférieur éventuellement substitué ou un alcényle inférieur éventuellement substitué; R2 est un hydrogène, un alkyle inférieur éventuellement substitué, un aryle éventuellement substitué ou un groupe hétérocyclique éventuellement substitué; R3 est un alkyle inférieur éventuellement substitué, un alkoxy inférieur éventuellement substitué, un aryloxy éventuellement substitué, un alcényle inférieur éventuellement substitué, un aryle éventuellement substitué ou un amino éventuellement substitué; R4 est un hydrogène, un alkyle inférieur éventuellement substitué, un aryle éventuellement substitué ou un groupe hétérocyclique éventuellement substitué ou un groupe hétérocyclique éventuellement substitué, R5 est un hydrogène, un alkyle inférieur éventuellement substitué, un aryle éventuellement substitué ou un groupe hétérocyclique éventuellement substitué; et R10 est un hydroxy ou un hydroxy protégé, et un sel pharmaceutiquement acceptable de ce composé. Ce composé est utile comme médicament pour le traitement préventif et curatif des maladies induites par MMP ou TNF$g(a).

  化合物的化学式为(I)，其中A为磺酰基或羰基；R1为可选取代的芳基，可选取代的杂环基，可选取代的低碳基或可选取代的低碳烯基；R2为氢，可选取代的低碳基，可选取代的芳基或可选取代的杂环基；R3为可选取代的低碳基，可选取代的低碳氧基，可选取代的芳氧基，可选取代的低碳烯基，可选取代的芳基，可选取代的杂环基或可选取代的氨基；R4为氢，可选取代的低碳基，可选取代的芳基或可选取代的杂环基；R5为氢，可选取代的低碳基，可选取代的芳基或可选取代的杂环基；R10为羟基或受保护的羟基，并且其药学上可接受的盐。该化合物可用作MMP或TNFα介导疾病的预防和治疗药物。
• Piperazine compounds as inhibitors of MMP or TNF
  申请人：FUJISAWA PHARMACEUTICAL CO., LTD.

  公开号：US20030060473A1

  公开（公告）日：2003-03-27

  A compound of formula (I) wherein A is a sulfonyl or a carbonyl; R 1 is an optionally substituted aryl, an optionally substituted heterocyclic group, an optionally substituted lower alkyl or an optionally substituted lower alkenyl; R 2 is a hydrogen, an optionally substituted lower alkyl, an optionally substituted aryl or an optionally substituted heterocyclic group; R 3 is an optionally substituted lower alkyl, an optionally substituted lower alkoxy, an optionally substituted aryloxy, an optionally substituted lower alkenyl, an optionally substituted aryl, an optionally substituted heterocyclic group or an optionally substituted amino; R 4 is a hydrogen, an optionally substituted lower alkyl, an optionally substituted aryl or an optionally substituted heterocyclic group; R 5 is a hydrogen, an optionally substituted lower alkyl, an optionally substituted aryl or an optionally substituted heterocyclic group; and R 10 is a hydroxy or a protected hydroxy, and a pharmaceutically acceptable salt thereof. The compound of the present invention is useful as a medicament for prophylactic and therapeutic treatment of MMP-or TNF&agr;-medicated diseases.

  化合物公式（I）其中A是磺酰基或羰基；R1是可选择取代的芳基、可选择取代的杂环基团、可选择取代的低级烷基或可选择取代的低级烯基；R2是氢、可选择取代的低级烷基、可选择取代的芳基或可选择取代的杂环基团；R3是可选择取代的低级烷基、可选择取代的低级烷氧基、可选择取代的芳氧基、可选择取代的低级烯基、可选择取代的芳基、可选择取代的杂环基团或可选择取代的氨基；R4是氢、可选择取代的低级烷基、可选择取代的芳基或可选择取代的杂环基团；R5是氢、可选择取代的低级烷基、可选择取代的芳基或可选择取代的杂环基团；R10是羟基或保护羟基，以及其药学上可接受的盐。本发明的化合物可用作预防和治疗MMP或TNF-α介导疾病的药物。
• Chemical mechanical planarization for tungsten-containing substrates
  申请人：AIR PRODUCTS AND CHEMICALS, INC.

  公开号：EP2779217A2

  公开（公告）日：2014-09-17

  Chemical mechanical polishing (CMP) compositions for polishing tungsten or tungsten-containing substrates comprise an abrasive, at least one solid catalyst, a chemical additive selected from the groups consisting of piperazine derivatives, salts of cyanate, and combinations thereof; and a liquid carrier. Systems and processes use the aqueous formulations for polishing tungsten or tungsten-containing substrates.

  用于抛光钨或含钨基材的化学机械抛光（CMP）组合物包括磨料、至少一种固体催化剂、一种选自哌嗪衍生物、氰酸盐及其组合的化学添加剂；以及一种液体载体。系统和工艺使用水性制剂抛光钨或含钨基材。
• PIPERAZINE COMPOUNDS AS INHIBITORS OF MMP OR TNF
  申请人：FUJISAWA PHARMACEUTICAL CO., LTD.

  公开号：EP0948489A1

  公开（公告）日：1999-10-13
• US20140273458A1
  申请人：——

  公开号：US20140273458A1

  公开（公告）日：2014-09-18