1,3-二(环氧乙烷基甲基)-1,3-二氮杂螺[4.5]癸烷-2,4-二酮 | 15336-84-2

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 唑烷类
• 中文名称: 1,3-二(环氧乙烷基甲基)-1,3-二氮杂螺[4.5]癸烷-2,4-二酮
• 英文名称: 1,3-Bis(oxiranylmethyl)-1,3-diazaspiro[4.5]decane-2,4-dione
• 英文别名: 1,3-bis(oxiran-2-ylmethyl)-1,3-diazaspiro[4.5]decane-2,4-dione
• CAS: 15336-84-2
• 化学式: C₁₄H₂₀N₂O₄
• 分子量: 280.32
• InChiKey: MHVHSPJEOYGUMB-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  0.3
• 重原子数：
  20
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.86
• 拓扑面积：
  65.7
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  4

文献信息

• Einkomponentensysteme auf der Basis kristalliner Epoxidharze und ihre Verwendung
  申请人：CIBA-GEIGY AG

  公开号：EP0018950A1

  公开（公告）日：1980-11-12

  Lagerstabile, in der Wärme in vernetzte Epoxidharze überführbare Einkomponentensysteme, die ein kristallines Epoxidharz mit durchschnittlich mehr als einer Epoxidgruppe pro Molekül und einem Schmelzpunkt zwischen 40 bis 150°C und in homogener Verteilung einen Härtungskatalysator enthalten.

  贮存稳定的单组分体系，可在加热条件下转化为交联环氧树脂，其中包含一种结晶环氧树脂，平均每个分子含有一个以上的环氧基团，熔点在 40 至 150°C 之间，还包含一种均匀分布的固化催化剂。
• Herstellung von Prepregs aus cellulosehaltigen Fasern unter Verwendung wässriger Harzzusammensetzungen
  申请人：CIBA-GEIGY AG

  公开号：EP0091401A2

  公开（公告）日：1983-10-12

  Heisshärtbare Prepregs werden durch Imprägnieren cellulosehaltiger Fasern mit einer wässrigen Zusammensetzung hergestellt, die (a) ein photopolymerisierbares Harz der angegebenen Struktur und (b) ein Epoxidharz, vorzugsweise zusammen mit einem Sensibilisator für (a) und einem Heisshärter für (b), enthält. Die Komponente (a) enthält sowohl hydrophobe als auch hydrophile Einheiten und dient dazu, das hydrophobe Epoxidharz (b) während der Imprägnierung in der wässrigen Zusammensetzung suspendiert zu halten, die sich dann bei Belichtung mit aktinischer Strahlung verfestigt. Danach werden die Prepregs zur Härtung von (b) erhitzt. Die Komponente (a) ist ein Di(meth)acrylat, das Gruppen der Formel oder enthält, worin R'9 jeweils Alkyl oder Paare R'9 (-CH2-)2, -C(R21R22)CO-, -CH2CH(CH3)-, (-CH2-)3 oder (-CO-)2 bedeuten, R4 für einen (cyclo)aliphatischen oder araliphatischen Rest steht, c und d je null oder 1 sind, R20 eine aliphatische Gruppe oder, falls d 1 ist, gegebenenfalls auch darstellt sowie R21 und R22 je für -H oder Alkyl oder zusammen für einen cycloaliphatischen Ring stehen.

  热固化预浸料的制备方法是将含纤维素的纤维与水性组合物浸渍在一起，水性组合物包括(a) 所示结构的可光聚合树脂和(b) 环氧树脂，最好与(a)的敏化剂和(b)的热固化剂一起使用。成分（a）包含疏水和亲水单元，在浸渍过程中可使疏水环氧树脂（b）悬浮在水性组合物中，然后在光辐射下固化。然后加热预浸料，使（b）固化。 组分 (a) 是一种二（甲基）丙烯酸酯，含有如下基团 或其中 R'9 各为烷基或成对的 R'9 (-CH2-)2、-C(R21R22)CO-、-CH2CH(CH3)-、(-CH2-)3 或 (-CO-)2，R4 为(环)脂族或脂肪族基，c 和 d 各为 0 或 1，R20 为脂肪族基，或如果 d 为 1，还可选择代表 以及 R21 和 R22 各自代表-H 或烷基，或共同代表一个环脂族环。
• Polyoxirane crosslinked polyvinyl alcohol hydrogel contact lens
  申请人：CIBA-GEIGY AG

  公开号：EP0189375A2

  公开（公告）日：1986-07-30

  Optically clear soft contact lenses of a polyoxirane crosslinked polyvinyl alcohol having a weight average molecular weight of at least 8,000 and degree of hydrolysis of at least 91 % and their preparation are disclosed. The materials are characterized by their ability to be boiling water sterilized, and their high water content, high oxygen permeability and high optical clarity.

  本发明公开了一种重量平均分子量至少为 8000、水解度至少为 91% 的聚环氧乙烷交联聚乙烯醇光学透明软性隐形眼镜及其制备方法。这种材料的特点是能够进行沸水灭菌，并且具有高含水量、高透氧性和高光学清晰度。
• SULFONIC-ESTER-CONTAINING COMPOSITION FOR FORMATION OF ANTIREFLECTION FILM FOR LITHOGRAPHY
  申请人：Nissan Chemical Industries, Ltd.

  公开号：EP1813987A1

  公开（公告）日：2007-08-01

  There is provided an anti-reflective coating forming composition for lithography comprising a polymer compound, a crosslinking compound, a crosslinking catalyst, a sulfonate compound and a solvent. The anti-reflective coating obtained from the composition has a high preventive effect for reflected light, causes no intermixing with photoresists, has a higher dry etching rate compared with photoresists, can form a photoresist pattern having no footing at the lower part, and can use in lithography process by use of a light such as ArF excimer laser beam and F2 excimer laser beam, etc.

  本发明提供了一种用于光刻的抗反射涂层形成组合物，该组合物由聚合物化合物、交联化合物、交联催化剂、磺酸盐化合物和溶剂组成。由该组合物制得的抗反射涂层对反射光有很好的防止效果，不会与光刻胶混合，与光刻胶相比具有更高的干蚀刻率，可以形成下部无基底的光刻胶图案，并可在光刻工艺中使用 ArF 准分子激光束和 F2 准分子激光束等光源。
• COMPOSITION COMPRISING POLYMER HAVING ETHYLENE-DICARBONYL STRUCTURE FOR USE IN FORMING ANTI-REFLECTIVE COATING FOR LITHOGRAPHY
  申请人：Nissan Chemical Industries, Ltd.

  公开号：EP1876495A1

  公开（公告）日：2008-01-09

  There is provided an anti-reflective coating forming composition for lithography comprising a polymer having an ethylenedicarbonyl structure and a solvent; an anti-reflective coating formed from the composition; and a method for forming photoresist pattern by use of the composition. The anti-reflective coating obtained from the composition can be used in lithography process for manufacturing a semiconductor device, has a high preventive effect for reflected light, causes no intermixing with photoresists, and has a higher etching rate than photoresists.

  本发明提供了一种光刻用抗反射涂层形成组合物，该组合物包含具有亚乙基二羰基结构的聚合物和溶剂；由该组合物形成的抗反射涂层；以及使用该组合物形成光刻胶图案的方法。由该组合物制得的抗反射涂层可用于制造半导体器件的光刻工艺中，对反射光有很好的防止效果，不会与光刻胶混合，而且蚀刻率高于光刻胶。