1,4-二[2-(2-吡啶基)乙基]哌嗪 | 14549-75-8

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氮化合物
• 中文名称: 1,4-二[2-(2-吡啶基)乙基]哌嗪
• 英文名称: bis{N,N'-[2-(2-pyridyl)ethyl]}piperazine
• 英文别名: 1,4-bis<2-(2-pyridyl)ethyl>piperazine；1,4-Bis-(2-pyrid-2-ylethyl>-piperazin；1,4-bis[2-(2-pyridylethyl)]piperazine；1,4-bis-(2-pyridin-2-yl-ethyl)-piperazine；pzdepy；Piperazine, 1,4-bis(2-(2-pyridyl)ethyl)-；1,4-bis(2-pyridin-2-ylethyl)piperazine
• CAS: 14549-75-8
• 化学式: C₁₈H₂₄N₄
• 分子量: 296.415
• InChiKey: YYDFKVCSEPWSPE-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 熔点：
  109-111 °C(Solv: ethanol (64-17-5))
• 沸点：
  431.3±40.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.091±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.9
• 重原子数：
  22
• 可旋转键数：
  6
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.44
• 拓扑面积：
  32.3
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  4

安全信息

• 海关编码：
  2933990090

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  copper(II) perchlorate hexahydrate 、 1,4-二[2-(2-吡啶基)乙基]哌嗪 以 甲醇 为溶剂， 以93%的产率得到[Cu(pzdepy)ClO4]ClO4
  参考文献：
  名称：

  衍生自多吡啶基配体的伪卤化铜 (II) 配合物：合成和表征

  摘要：

  摘要 研究了一系列新的拟卤化物-(N 3 - NCS-) 和高氯根-Cu(II) 配合物，它们具有一系列配体和含吡啶基供体。这些包括 [Cu(pmap)ClO4)]ClO4 (1)、[Cu(pmap)(N3)]ClO4 (2)、[Cu(pmea)(N3)]ClO4·H2O (3)、[Cu(dp- pa)(N3)]ClO4·½H2O (4), [Cu(pzdepy)ClO4]ClO4 (5), [Cu(pzdepy)(NCS)]ClO4 (6) 和 [Cu2(L)(NCS)4]· 2CH3CN (7) 其中 pmap = 双[2-(2-吡啶基乙基)]-(2-吡啶基甲基)胺，pmea = 双(2-吡啶基甲基)-2-(2-吡啶基乙基)胺，dp-pa = N-丙酰胺-N,N-双(2-吡啶基甲基)胺，pzdepy = N,N'-双[2-(2-吡啶基乙基)]哌嗪和L = 3,5-双[双(2-吡啶基甲基)氨基甲基]-甲苯

  DOI：

  10.1016/j.molstruc.2008.09.015
• 作为产物：
  描述：

  哌嗪 、 2-乙烯基吡啶 在 bis(1,5-cyclooctadiene)rhodium(I) tetrafluoroborate 三苯基膦 作用下， 以 四氢呋喃 为溶剂， 反应 20.0h， 以33%的产率得到1-[2-(2-吡啶基)乙基]哌嗪
  参考文献：
  名称：

  乙烯基吡啶的铑催化胺化：加氢胺化与氧化胺化

  摘要：

  阳离子铑配合物催化 2- 和 4- 乙烯基吡啶与仲胺的胺化。根据底物和反应条件，氧化胺化产生相应的烯胺 1a-8a 或加氢胺化产生 2-氨基乙基吡啶 1b-8b。在所有情况下都获得具有抗马尔科夫尼科夫区域选择性的产物。对于机理研究，制备了含铑 (I) 环辛二烯和乙烯基吡啶 12 的新型阳离子配合物以及含有环辛二烯、乙烯基吡啶和吗啉 13 的配合物，并通过 NMR 光谱和 X 射线衍射分析对其进行了表征。

  DOI：

  10.1002/(sici)1099-0682(199907)1999:7<1121::aid-ejic1121>3.0.co;2-8

文献信息

• Synthesis and spectroscopic characterization of dicyanamido–Cu(II) complexes. Part 2: Crystal structure of the complexes of tris[2-(2-pyridylethyl)]amine, tris(2-pyridylmethyl)amine and 1,4-bis[2-(2-pyridylethyl)]piperazine
  作者：Franz A. Mautner、Jesse B. Soileau、Paul K. Bankole、August A. Gallo、Salah S. Massoud

  DOI：10.1016/j.molstruc.2008.02.015

  日期：2008.10

  Abstract Two classes of novel dicyanamido (dca)–Cu(II) complexes were synthesized with a variety of tetradentate tripod amines, tridentate amines and diazacycloalkanes with pyridyl arms of different alkyl lengths and with tetra-aza macrocycles with different cavity sizes; the mononuclear, Cu(L)(dca)]ClO4 (L = tepa (1), TPA (2), pzdepy (4), hpzpy2 (5), cyclen (7), cyclam (8), tacp (9)) or Cu(L)(dca)ClO4

  摘要 合成了两类新型双氰胺 (dca)-Cu(II) 配合物，其中包括具有不同烷基长度的吡啶基臂的各种四齿三足胺、三齿胺和二氮杂环烷烃以及具有不同腔尺寸的四氮杂大环；单核，Cu(L)(dca)] (L = tepa (1), TPA (2), pzdepy (4), hpzpy2 (5), cyclen (7), cyclam (8), tacp (9))或 Cu(L)(dca)ClO4 (L = MeDPA (10), Mepea (11)) 和双核 [Cu2(L')2(dca)]( )3 (L' = pmap (3), pzpy2 (6))。通过电子和红外光谱以及 X 射线对分离的配合物进行结构表征。配合物 [Cu(tepa)(dca)] (1) 的单晶 X 射线衍射分析，[Cu(TPA)(dca)] (2) 和 [Cu(pzdepy)(dca)]
• Chemical mechanical planarization for tungsten-containing substrates
  申请人：AIR PRODUCTS AND CHEMICALS, INC.

  公开号：EP2779217A2

  公开（公告）日：2014-09-17

  Chemical mechanical polishing (CMP) compositions for polishing tungsten or tungsten-containing substrates comprise an abrasive, at least one solid catalyst, a chemical additive selected from the groups consisting of piperazine derivatives, salts of cyanate, and combinations thereof; and a liquid carrier. Systems and processes use the aqueous formulations for polishing tungsten or tungsten-containing substrates.

  用于抛光钨或含钨基材的化学机械抛光（CMP）组合物包括磨料、至少一种固体催化剂、一种选自哌嗪衍生物、氰酸盐及其组合的化学添加剂；以及一种液体载体。系统和工艺使用水性制剂抛光钨或含钨基材。